一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于給下拋光盤降溫的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，包括：冷卻盤，冷卻盤的中央開設(shè)有進水孔和出水孔，冷卻盤的背面上設(shè)置有與進水孔相通的進水管和與出水孔相通的出水管，冷卻盤的冷卻面上由外而內(nèi)依次設(shè)置有一圈周向布置的安裝通孔和第一環(huán)形密封槽，冷卻盤的冷卻面上在第一環(huán)形密封槽的里側(cè)設(shè)置有一對迂迴的冷卻槽、以及一對將相應(yīng)冷卻槽的外端與出水孔相連的連接槽，冷卻槽的里端與進水孔相連通；進水管套設(shè)在出水管中，出水孔與出水管中的出水通道相連通，進水管的相應(yīng)端密封設(shè)置在所述的進水孔中，出水管的相應(yīng)端通過安裝法蘭密封固定在冷卻盤的背面上。本冷卻裝置尤其適用于冷卻拋光機中的下拋光盤。
【專利說明】一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及到一種晶片拋光機，尤其涉及到一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導體行業(yè)中，通常要對晶片進行拋光處理。目前，很多的晶片采用化學機械拋光，以提高晶片的質(zhì)量和拋光效率。在實際拋光過程中，下拋光盤在拋光過程中，與晶片發(fā)生強烈摩擦，從而產(chǎn)生大量熱量，使得下拋光盤的溫度過高，影響到拋光的質(zhì)量。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是:提供一種用于給下拋光盤降溫的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型所采用的技術(shù)方案為:一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，包括:與下拋光盤的背面相貼合的冷卻盤，冷卻盤的中央開設(shè)有貫穿冷卻盤的進水孔和出水孔，冷卻盤的背面上設(shè)置有與進水孔相通的進水管和與出水孔相通的出水管，所述冷卻盤的冷卻面即與下拋光盤相貼合的面上由外而內(nèi)依次設(shè)置有一圈周向布置的安裝通孔和第一環(huán)形密封槽，第一環(huán)形密封槽中設(shè)置有密封圈，冷卻盤的冷卻面上在第一環(huán)形密封槽的里側(cè)設(shè)置有一對軸對稱布置的迂迥結(jié)構(gòu)的冷卻槽、以及一對將相應(yīng)冷卻槽的外端與出水孔相連的連接槽，冷卻槽的里端與進水孔相連通；所述的進水管套設(shè)在出水管中，進水管的外壁與出水管的內(nèi)壁之間形成出水通道，所述的出水孔與出水管中的出水通道相連通，所述進水管的相應(yīng)端密封設(shè)置在所述的進水孔中，所述的出水管的相應(yīng)端通過安裝法蘭密封固定在冷卻盤的背面上。
[0005]作為一種優(yōu)選方案，在所述的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置中，所述冷卻盤的冷卻面上在一圈周向布置的安裝通孔的內(nèi)側(cè)還設(shè)置有第二環(huán)形密封槽，第二環(huán)形密封槽中設(shè)置有密封圈。
[0006]作為一種優(yōu)選方案，在所述的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置中，所述的進水孔的內(nèi)壁上開設(shè)有環(huán)形密封槽，環(huán)形密封槽中設(shè)置有與進水管相配合的密封圈。
[0007]作為一種優(yōu)選方案，在所述的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置中，所述的進水管和出水管的另一端上設(shè)置有管接座，管接座上設(shè)置有連通進水管的進水管接頭和連通出水管的出水管接頭。
[0008]作為一種優(yōu)選方案，在所述的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置中，所述管接座的具體結(jié)構(gòu)包括有:一個具有三通結(jié)構(gòu)的管接座體，管接座體在上、下端口處分別設(shè)置有上、下蓋板，上蓋板上開設(shè)有與出水管相配合的過孔，下蓋板上開設(shè)有與進水管接頭相配合的進水孔，所述的出水管穿過上蓋板的過孔、密封設(shè)置在管接座體的上端口中，所述的進水管從出水管中伸出、密封設(shè)置在下端口中，所述的進水管接頭設(shè)置在下蓋板的進水孔中，所述的出水管接頭設(shè)置在管接座體中部的出水口中。
[0009]作為一種優(yōu)選方案，在所述的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置中，所述進水管的兩端分別設(shè)置有與出水管相應(yīng)處的內(nèi)壁相配合的隔套，隔套上沿周向均布有若干個貫穿隔套的導流孔。
[0010]本實用新型的有益效果是:本實用新型中的一對迂迥結(jié)構(gòu)的冷卻槽呈軸對稱布置，使得進水管的冷卻水由進水孔流出后，向兩側(cè)的冷卻槽分流，從而可以更好地對與冷卻盤貼合的下拋光盤進行冷卻，大大提高了冷卻效果；套設(shè)在一起的進水管和出水管使得整個冷卻裝置的結(jié)構(gòu)更加緊湊。此外，設(shè)置在一圈周向布置的安裝通孔內(nèi)側(cè)的第一環(huán)形密封槽和第二環(huán)形密封槽中的密封圈，使得冷卻盤與下拋光盤的密封更加可靠；分別設(shè)置在進水管上、下端上的隔套使得進、出水管的安裝更加方便。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型所述晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2是圖1中A部分的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖3是圖1中B部分的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖4是圖1中冷卻盤的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖5是圖4的C-C剖視后左轉(zhuǎn)90度的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖1至圖5中的附圖標記:1、下拋光盤，2、冷卻盤，20、右連接槽，21、左冷卻槽，22、右冷卻槽，23、第一環(huán)形密封槽，24、第二環(huán)形密封槽，25、進水孔，26、環(huán)形密封槽，27、出水孔，28、安裝通孔，29、左連接槽，3、密封圈，4、鎖緊螺釘，5、進水管，57、出水通道，6、密封圈，7、出水管，71、安裝法蘭，8、管接座體，81、上蓋板，82、下蓋板，9、密封圈，10、密封圈，11、出水管接頭，12、進水管接頭，13、密封圈，14、鎖緊螺釘，15、上隔套，151、導流孔，16、下隔套，161、導流孔，18、密封圈。

【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖，詳細描述本實用新型所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置的具體實施方案:
[0018]如圖1所示，一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，包括:與下拋光盤I的背面相貼合的冷卻盤2，冷卻盤2的中央開設(shè)有貫穿冷卻盤2的進水孔25和出水孔27，冷卻盤2的背面上設(shè)置有與進水孔25相通的進水管5和與出水孔27相通的出水管7，具體設(shè)置方式為:進水管5套設(shè)在出水管7中，進水管5的外壁與出水管7的內(nèi)壁之間形成出水通道57，所述的出水孔27與出水管7中的出水通道相連通，進水管5的上端通過開設(shè)在進水孔25內(nèi)壁上的環(huán)形密封槽及嵌設(shè)在該環(huán)形密封槽26中的密封圈6密封設(shè)置在所述的進水孔25中，如圖2所示，所述的出水管7的上端通過安裝法蘭71、若干個鎖緊螺釘14和開設(shè)在冷卻2背面的環(huán)形密封槽及嵌設(shè)在該環(huán)形密封槽中的密封圈18密封固定在冷卻盤2的背面上；如圖4和圖5所示，所述冷卻盤2的冷卻面即與下拋光盤I相貼合的面上由外而內(nèi)依次設(shè)置有一圈周向均勻布置的共20個階梯形安裝通孔28、第二環(huán)形密封槽24和第一環(huán)形密封槽23，第一環(huán)形密封槽23和第二環(huán)形密封槽24中分別設(shè)置有密封圈3和13，所述冷卻盤2的冷卻面上在第一環(huán)形密封槽23的里側(cè)設(shè)置有一對軸對稱布置的迂迥結(jié)構(gòu)的冷卻槽即左冷卻槽21和右冷卻槽22、以及一對連接槽即左連接槽29和右連接槽20，左、右連接槽29和20對稱布置，均由弧形段和直段構(gòu)成，左連接槽29將左冷卻槽21的左端與出水孔27相連，右連接槽20將右冷卻槽22的右端與出水孔27相連，左、右冷卻槽21和22的里端均與進水孔25相連通；如圖3所示，所述的進水管5和出水管7的下端上設(shè)置有管接座，管接座上設(shè)置有與連通進水管的進水管接頭12和與連通出水管7的出水管接頭11，具體設(shè)置方式為:所述管接座包括有一個具有三通結(jié)構(gòu)的管接座體8，管接座體8在其上、下端口處分別設(shè)置有上、下蓋板81和82，上蓋板81上開設(shè)有與出水管7相配合的過孔，下蓋板82上開設(shè)有與進水管接頭12相配合的進水孔，所述的出水管7穿過上蓋板81的過孔、通過開設(shè)在管接座體8的上端口沿口的環(huán)形密封槽及設(shè)置在該環(huán)形密封槽中的密封圈9密封設(shè)置在管接座體8的上端口中，所述的進水管5從出水管7中伸出、通過開設(shè)在下蓋板82的上開口處的環(huán)形密封槽及設(shè)置在該環(huán)形密封槽中的密封圈10密封設(shè)置在下端口中，所述的進水管接頭12設(shè)置在下蓋板82的進水孔中，所述的出水管接頭11設(shè)置在管接座體8上的中部出水口中；為了安裝方便，所述進水管5的上、下端分別設(shè)置有與出水管7相應(yīng)處的內(nèi)壁相配合的上隔套15和下隔套16，上隔套15上沿周向均布有若干個貫穿上隔套15的導流孔151，下隔套16上沿周向均布有若干個貫穿下隔套16的導流孔161。
[0019]實際使用時,將進水軟管與進水管接頭12相連、出水軟管與出水管接頭11相連，冷卻水由進水管5流經(jīng)到冷卻盤2的進水孔25后，分成兩路，分別流向左冷卻槽21與下拋光盤I形成的左冷卻通道和右冷卻槽22與下拋光盤I形成的右冷卻通道，最后由左連接槽29與下拋光盤I形成的左連接通道和由右連接槽20與下拋光盤I形成的右連接通道流入出水孔27中，然后，經(jīng)由進水管5的外壁與出水管7的內(nèi)壁之間形成的出水通道57和管接座8后，由進水管接頭11流回出水軟管。
[0020]綜上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用來限定本實用新型實施的范圍，凡依本實用新型權(quán)利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所作的均等變化與修飾，均應(yīng)包括在本實用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，包括:與下拋光盤的背面相貼合的冷卻盤，冷卻盤的中央開設(shè)有貫穿冷卻盤的進水孔和出水孔，冷卻盤的背面上設(shè)置有與進水孔相通的進水管和與出水孔相通的出水管，其特征在于，所述冷卻盤的冷卻面即與下拋光盤相貼合的面上由外而內(nèi)依次設(shè)置有一圈周向布置的安裝通孔和第一環(huán)形密封槽，第一環(huán)形密封槽中設(shè)置有密封圈，冷卻盤的冷卻面上在第一環(huán)形密封槽的里側(cè)設(shè)置有一對軸對稱布置的迂迴結(jié)構(gòu)的冷卻槽、以及一對將相應(yīng)冷卻槽的外端與出水孔相連的連接槽，冷卻槽的里端與進水孔相連通；所述的進水管套設(shè)在出水管中，進水管的外壁與出水管的內(nèi)壁之間形成出水通道，所述的出水孔與出水管中的出水通道相連通，所述進水管的相應(yīng)端密封設(shè)置在所述的進水孔中，所述的出水管的相應(yīng)端通過安裝法蘭密封固定在冷卻盤的背面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻盤的冷卻面上在一圈周向布置的安裝通孔的內(nèi)側(cè)還設(shè)置有第二環(huán)形密封槽，第二環(huán)形密封槽中設(shè)置有密封圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，其特征在于，所述的進水孔的內(nèi)壁上開設(shè)有環(huán)形密封槽，環(huán)形密封槽中設(shè)置有與進水管相配合的密封圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，其特征在于，所述的進水管和出水管的另一端上設(shè)置有管接座，管接座上設(shè)置有連通進水管的進水管接頭和連通出水管的出水管接頭。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，其特征在于，所述管接座的具體結(jié)構(gòu)包括有:一個具有三通結(jié)構(gòu)的管接座體，管接座體在上、下端口處分別設(shè)置有上、下蓋板，上蓋板上開設(shè)有與出水管相配合的過孔，下蓋板上開設(shè)有與進水管接頭相配合的進水孔，所述的出水管穿過上蓋板的過孔、密封設(shè)置在管接座體的上端口中，所述的進水管從出水管中伸出、密封設(shè)置在下端口中，所述的進水管接頭設(shè)置在下蓋板的進水孔中，所述的出水管接頭設(shè)置在管接座體中部的出水口中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的一種晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，其特征在于，所述進水管的兩端分別設(shè)置有與出水管相應(yīng)處的內(nèi)壁相配合的隔套，隔套上沿周向均布有若干個貫穿隔套的導流孔。
【文檔編號】B24B55/02GK204094637SQ201420569511
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年9月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月29日
【發(fā)明者】戚林 申請人:江蘇中科晶元信息材料有限公司