磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于一種磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管（5）中心裝有靶芯（4），其特征在于在靶芯（4）與靶管（5）之間裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b（2）；磁鋼b（2）的右面裝有磁場強(qiáng)度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c（3）；在磁鋼b（2）和磁鋼c（3）的兩側(cè)裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a（1）；磁鋼c（3）的右端面與磁鋼a（1）的右端面長度差為Ln，Ln=10~50mm；磁鋼b（2）的寬度Wb等于2倍的磁鋼a（1）的寬度Wa。該實(shí)用新型解決了圓柱形磁控濺射陰極靶管端頭刻蝕嚴(yán)重的問題，大大提高了靶材利用率，節(jié)省了材料，降低了成本。
【專利說明】磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于真空鍍膜設(shè)備，特別涉及一種磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭。
【背景技術(shù)】
[0002]圓柱形磁控濺射陰極是真空鍍膜設(shè)備中的一個(gè)重要部件，目前大家應(yīng)用的圓柱磁控濺射陰極的頭部，由于磁鋼的磁通量均勻一致，導(dǎo)致端頭處濺射刻蝕比其它部位嚴(yán)重，從而使靶材的利用率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服上述技術(shù)不足，提供一種采取降低圓柱形磁控濺射陰極端頭部磁鋼磁通量，改進(jìn)磁鋼的長度及其長度差，提高靶材利用率的磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭。
[0004]本實(shí)用新型解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管中心裝有靶芯，靶芯右端裝有定位套，定位套的外面裝有靶管堵，靶管堵的外面裝有靶管帽，靶芯用配重條和M3X6內(nèi)六角螺釘與熱縮管固定在一起，其特征在于在靶芯與靶管之間裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b，磁鋼b的長度為Lb，Lb=2(T30mm ;磁鋼b的右面裝有磁場強(qiáng)度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼C，磁鋼c的長度為Lc，Lc=16~24mm ;在磁鋼b和磁鋼c的兩側(cè)裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a，磁鋼a的長度為La, La=2(T30mm ;磁鋼c的右端面與磁鋼a的右端面長度差為Ln, Ln=IO^SOmm ；磁鋼b的寬度為Wb，磁鋼 a的寬度為Wa，磁鋼b的寬度Wb等于2倍的磁鋼a的寬度Wa ;磁鋼c的長度Lc等于4/5的磁鋼b的長度Lb。
[0005]本實(shí)用新型的有益效果是:該實(shí)用新型解決了圓柱磁控濺射陰極頭刻蝕嚴(yán)重的問題，大大提高了靶材利用率，節(jié)省了材料，降低了成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]以下結(jié)合附圖，以實(shí)施例具體說明。
[0007]圖1是磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭的主視圖；
[0008]圖2是圖1的A-A剖面圖。
[0009]圖中:1_磁鋼a ;2_磁鋼b ;3_磁鋼c ;4_靶芯；5-靶管；6_靶管帽；7_定位套；8_0型圈；9-祀管堵；10_M3X6內(nèi)六角螺釘；11-配重條；12-熱縮管。
【具體實(shí)施方式】
[0010]實(shí)施例，參照附圖，一種磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管5中心裝有靶芯4，靶芯4右端裝有定位套7，定位套7的外面裝有靶管堵9，靶管堵9的外面裝有靶管帽6，靶芯4用配重條11和M3 X 6內(nèi)六角螺釘10與熱縮管12固定在一起，其特征在于在靶芯4與靶管5之間裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b2，磁鋼b2的長度為Lb，Lb=25mm ;磁鋼b2的右面裝有磁場強(qiáng)度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c3，磁鋼c3的長度為Lc，Lc=20mm ;在磁鋼b2和磁鋼c3的兩側(cè)裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼al，磁鋼al的長度為La，La=25mm ;磁鋼c3的右端面與磁鋼al的右端面長度差為Ln，Ln=30mm ;磁鋼b2的寬度為Wb，磁鋼al的寬度為Wa，磁鋼b2的寬度Wb等于2倍的磁鋼al的寬度Wa ;磁鋼c3的長度Lc等于4/5的磁鋼b2的長度Lb。靶管5與靶管堵9之間裝O型圈8，達(dá)到密封的目的。
[0011]該實(shí)用新型的原理是:采用了不同材料的磁鋼和它的磁場強(qiáng)度的不同，以及改變了磁鋼al和磁鋼b2寬度的不同，磁鋼b2和磁鋼c3的長度不同；磁鋼c3與磁鋼al端頭的長度差La=25_ ;這樣就使磁鋼al和磁鋼c3磁力線軌跡由原來的短弧狀變成向外側(cè)拉出后再折回的類似長尖角的三角狀，實(shí)現(xiàn)了圓柱管靶材磁控濺射陰極頭部濺射刻蝕均勻的目的，大大的提高了陰極靶管5的利用率。
【權(quán)利要求】
1.一種磁控濺射真空鍍膜設(shè)備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管(5)中心裝有靶芯(4)，靶芯(4)右端裝有定位套(7)，定位套(7)的外面裝有靶管堵(9)，靶管堵(9)的外面裝有靶管帽(6)，靶芯(4)用配重條(11)和M3X6內(nèi)六角螺釘(10)與熱縮管(12)固定在一起，其特征在于在靶芯(4)與靶材(靶管)(5)之間裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b (2) JIBRb (2)的長度為Lb，Lb=2(T30mm;磁鋼b (2)的右面裝有磁場強(qiáng)度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c (3)，磁鋼c (3)的長度為Lc，Lc=16"24mm ;在磁鋼b (2)和磁鋼c (3)的兩側(cè)裝有磁場強(qiáng)度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a (1)，磁鋼a (I)的長度為La，La=2(T30mm ；磁鋼c (3)的右端面與磁鋼a (I)的右端面長度差為Ln，Ln=l(T50mm ;磁鋼b (2)的寬度為Wb，磁鋼a (I)的寬度為Wa，磁鋼b (2)的寬度Wb等于2倍的磁鋼a (I)的寬度Wa;磁鋼c (3)的長度Lc等于4/5的磁鋼b (2)的長度Lb。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK203782227SQ201420118637
【公開日】2014年8月20日 申請(qǐng)日期:2014年3月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月17日
【發(fā)明者】劉曉華, 李永才, 陳鵬 申請(qǐng)人:大連遠(yuǎn)東真空技術(shù)有限公司