一種新型磁控軸瓦濺鍍的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，涉及濺渡裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，包括濺渡殼體，濺渡殼體內(nèi)設(shè)有濺渡腔，濺渡腔設(shè)有濺射靶支撐架和軸瓦支撐架，濺渡殼體底部設(shè)有底座，濺射靶支撐架和軸瓦支撐架設(shè)置在濺渡殼體底部底座上，濺射靶支撐架中間設(shè)有濺射靶架軸，濺射靶架軸底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)環(huán)，旋轉(zhuǎn)環(huán)通過連接桿與濺射靶架軸一側(cè)的濺射靶支撐架邊緣連接,濺渡殼體最下方設(shè)有電機(jī)，旋轉(zhuǎn)環(huán)與電機(jī)輸出軸相連接，濺射靶架軸兩側(cè)的濺射靶支撐架各活動(dòng)設(shè)有一塊濺射靶，濺射靶的雙面設(shè)有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶，通過兩面靶，解決以往受降溫以及更換靶材等步驟制約，增加了工作產(chǎn)量、提高了效率。
【專利說明】一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及濺渡裝置，尤其涉及一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002] 磁控濺射即在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子 密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級)，濺射速度可達(dá)〇. 1- 1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳， 是目前最實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一，在磁控濺射中通常加工標(biāo)準(zhǔn)軸瓦的方法是：1、先制造鋼背， 2、在鋼背上燒結(jié)或澆筑銅基合金層，3、將該軸瓦基體送入濺鍍設(shè)備分層濺鍍鎳柵層和減磨 合金層，本方法是安全環(huán)保的，但缺點(diǎn)是由于要濺鍍兩層(鎳柵層和減磨合金層)，受目前濺 鍍設(shè)備的限制，因此在濺鍍完鎳柵層后要降溫冷卻后更換鎳靶換成合金材料靶，這種濺鍍 方式受降溫以及更換靶材等步驟制約，產(chǎn)量、效率很低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 針對上述問題，本發(fā)明提供了一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)。
[0004] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，包 括濺渡殼體，濺渡殼體內(nèi)設(shè)有濺渡腔，所述濺渡腔設(shè)有濺射靶支撐架和軸瓦支撐架，所述濺 渡殼體底部設(shè)有底座，所述濺射靶支撐架和所述軸瓦支撐架設(shè)置在濺渡殼體底部底座上， 所述濺射靶支撐架中間設(shè)有濺射靶架軸，所述濺射靶架軸底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)環(huán)，所述旋轉(zhuǎn)環(huán)通 過連接桿與濺射靶架軸一側(cè)的濺射靶支撐架邊緣連接，所述濺渡殼體最下方設(shè)有電機(jī)，所 述旋轉(zhuǎn)環(huán)與所述電機(jī)輸出軸相連接。
[0005] 進(jìn)一步地，所述濺射靶架軸兩側(cè)的濺射靶支撐架各活動(dòng)設(shè)有一塊濺射靶，所述所 述濺射靶的雙面設(shè)有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶。
[0006] 進(jìn)一步地，軸瓦支撐架表面設(shè)有多個(gè)掛柱，軸瓦支撐架各獨(dú)自連接一個(gè)軸瓦支撐 架旋轉(zhuǎn)電機(jī)。
[0007] 由上述對本發(fā)明結(jié)構(gòu)的描述可知，和現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)： 本發(fā)明，通過所述濺射靶架軸兩側(cè)的濺射靶支撐架各活動(dòng)設(shè)有一塊濺射靶，所述所述 濺射靶的雙面設(shè)有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶，當(dāng)需要鎳靶時(shí)， 合金靶互相貼合，只顯現(xiàn)出鎳靶，本種濺鍍方式是安全環(huán)保的，通過兩面靶，解決以往受降 溫以及更換靶材等步驟制約，增加了工作產(chǎn)量、提高了效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008] 構(gòu)成本申請的一部分的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí) 施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中： 圖1為本發(fā)明為一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)整體構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明為一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)的合金靶面閉合示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0009] 為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對 本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并 不用于限定本發(fā)明。 實(shí)施例
[0010] 通過參考圖1和圖2,一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，包括濺渡殼體1，濺渡殼體1內(nèi)設(shè) 有濺渡腔2,濺渡腔8設(shè)有濺射靶支撐架3和軸瓦支撐架4,濺渡殼體1底部設(shè)有底座7,濺 射靶支撐架3和軸瓦支撐架4設(shè)置在濺渡殼體1底部底座7上，濺射靶支撐架3中間設(shè)有 濺射靶架軸10,濺射靶架軸10底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)環(huán)11，旋轉(zhuǎn)環(huán)11通過連接桿6與濺射靶架軸 10 -側(cè)的濺射靶支撐架3邊緣連接，濺渡殼體1最下方設(shè)有電機(jī)，旋轉(zhuǎn)環(huán)11與電機(jī)輸出軸 相連接，濺射靶架軸10兩側(cè)的濺射靶支撐架3各活動(dòng)設(shè)有一塊濺射靶2,濺射靶2的雙面設(shè) 有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶，軸瓦支撐架4表面設(shè)有多個(gè)掛柱 9，軸瓦支撐架4各獨(dú)自連接一個(gè)軸瓦支撐架旋轉(zhuǎn)電機(jī)。
[0011] 所謂濺鍍，以目前了解為，在靶材和承載件上分別接入電源的正負(fù)極，在靶材和承 載件之間即可建立起一個(gè)電磁場，電源正極為電磁場陽極，電源負(fù)極為電磁場陰極。接通電 源后電磁場能量通過濺鍍設(shè)備內(nèi)的惰性氣體對靶材轟擊，將靶材轟擊為中性離子濺射并沉 積到對面的軸瓦基體上本發(fā)明則通過在濺射靶架軸10兩側(cè)的濺射靶支撐架3各活動(dòng)設(shè)有 一塊濺射靶2,濺射靶2的雙面設(shè)有凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶， 濺射靶支撐架3中間設(shè)有濺射靶架軸10,濺射靶架軸10底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)環(huán)11，旋轉(zhuǎn)環(huán)11通 過連接桿6與濺射靶架軸10 -側(cè)的濺射靶支撐架3邊緣連接，濺渡殼體1最下方設(shè)有電 機(jī)，旋轉(zhuǎn)環(huán)11與電機(jī)輸出軸相連接。
[0012] 當(dāng)需要鎳靶面時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)環(huán)11轉(zhuǎn)動(dòng)360度，使合金靶面對面重合，如圖2,使合金 靶面再一個(gè)密閉范圍內(nèi)，在對一面進(jìn)行濺射不容易造成不同靶面的不同靶材的污染，才能 保持濺射靶2表面平整度，提高最終濺射效果，軸瓦支撐架4表面設(shè)有多個(gè)掛柱9,方便懸掛 瓦軸，當(dāng)需要合金靶面時(shí)，再次回轉(zhuǎn)360度，同樣的原理運(yùn)行一次，由于濺射靶2的雙面設(shè)有 凹槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶，使不需要用的靶面處于更加密閉的 環(huán)境。
[0013] 以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精 神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，包括濺渡殼體（1 )，濺渡殼體（1)內(nèi)設(shè)有濺渡腔（2)，所述 濺渡腔（8 )設(shè)有濺射靶支撐架（3 )和軸瓦支撐架（4 )，所述濺渡殼體（1)底部設(shè)有底座（7 )， 其特征在于：所述濺射靶支撐架（3)和所述軸瓦支撐架（4)設(shè)置在濺渡殼體（1)底部底座 (7 )上，所述濺射靶支撐架（3 )中間設(shè)有濺射靶架軸（10 )，所述濺射靶架軸（10 )底部設(shè)有旋 轉(zhuǎn)環(huán)（11 )，所述旋轉(zhuǎn)環(huán)（11)通過連接桿（6 )與濺射靶架軸（10 ) -側(cè)的濺射靶支撐架（3 )邊 緣連接，所述濺渡殼體（1)最下方設(shè)有電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)環(huán)（11)與所述電機(jī)輸出軸相連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，其特征在于：所述濺射靶架軸（10) 兩側(cè)的濺射靶支撐架（3)各活動(dòng)設(shè)有一塊濺射靶（2)，所述所述濺射靶（2)的雙面設(shè)有凹 槽，正面凹槽的底面為鎳靶、背面凹槽的底面合金靶。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型磁控軸瓦濺鍍機(jī)，其特征在于：軸瓦支撐架（4)表面設(shè) 有多個(gè)掛柱（9)，軸瓦支撐架（4)各獨(dú)自連接一個(gè)軸瓦支撐架旋轉(zhuǎn)電機(jī)。
【文檔編號】C23C14/35GK104060233SQ201410296566
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年6月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月27日
【發(fā)明者】木儉樸 申請人:山東大豐軸瓦有限公司