專利名稱：研磨機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及研磨機機械領(lǐng)域,具體涉及ー種研磨機。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)研磨機的種類很多，我們主要介紹用于研磨玻璃、陶瓷等的大型自動數(shù)控研磨機，該研磨機一般上面是研磨機構(gòu)，下面設(shè)有傳動機構(gòu)，傳統(tǒng)研磨機用的是擺線針輪，功率小、穩(wěn)定性差。研磨機的支撐中軸軸套外面設(shè)的是自潤滑軸承，自潤滑軸承剛性差、不耐用。傳動機構(gòu)外面箱體是采用封閉·式的，不易觀測傳動機構(gòu)的工作狀況，也不便于傳動機構(gòu)的拆卸和裝載。研磨機的研磨盤容易損壞。

實用新型內(nèi)容實用新型目的本實用新型為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了ー種穩(wěn)定性好、研磨精確度高、使用壽命長的研磨機。技術(shù)方案ー種研磨機，包括研磨機構(gòu)、與所述研磨機構(gòu)相連的傳動機構(gòu)，所述傳動機構(gòu)下面連有驅(qū)動機構(gòu)，所述研磨機構(gòu)包括上拋光片和下拋光片，所述上拋光片下面套有上研磨盤，所述下拋光片上面套有下研磨盤，所述上研磨盤和下研磨盤上均刻有印痕，上研磨盤的印痕為5-10mm深，下研磨盤的印痕為4-10mm深，所述上研磨盤和下研磨盤上的印痕均組成方格，所述上研磨盤上的方格大小為10X10mm-20X20mm，所述下研磨盤上的方格大小為15 X 15mm-30 X 30mm，所述傳動機構(gòu)包括支撐所述下拋光片的支撐軸和安裝在所述支撐軸周圍且與所述驅(qū)動機構(gòu)相連的運行裝置。作為優(yōu)化，所述驅(qū)動機構(gòu)與所述傳動機構(gòu)之間連有減速器。作為優(yōu)化，所述驅(qū)動機構(gòu)和傳動機構(gòu)外面設(shè)有箱體。作為優(yōu)化，所述支撐軸軸套外面設(shè)有滾針軸承。作為優(yōu)化，所述箱體的側(cè)面設(shè)有門，所述門以所述箱體的側(cè)面底邊為下邊框，所述箱體的側(cè)面與所述箱體之間設(shè)有拆分連接裝置。作為優(yōu)化，所述拋光機的驅(qū)動機構(gòu)與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設(shè)有PCL集中控制系統(tǒng)。作為優(yōu)化，所述上拋光片上面設(shè)有氣缸。作為優(yōu)化，所述PLC集中控制箱內(nèi)裝有比例閥與所述PCL集中控制系統(tǒng)相連，所述比例閥還與所述氣缸相連。作為優(yōu)化，所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片和下層拋光片，所述上層拋光片和下層拋光片中間對應(yīng)設(shè)有若干相相匹配的通孔，所述通孔內(nèi)裝有固定裝置，所述上層拋光片上還設(shè)有以所述上層拋光片的中心為對稱點對稱定位銷。作為優(yōu)化，所述支撐軸軸套下方設(shè)有ー組向心軸承，支撐軸軸套上方設(shè)有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承和套在所述雙列滾珠軸承下方的平面軸承。[0014]本實用新型研磨機工作的時候上拋光片帶動上研磨盤的旋轉(zhuǎn)速度為每分鐘小于60圈，對應(yīng)下拋光片帶動下研磨盤的旋轉(zhuǎn)速度為每分鐘小于50圈，上研磨盤比下研磨盤的旋轉(zhuǎn)速度大于10圈姆分鐘。研磨盤的厚度可以根據(jù)需要制作，一般在35mm-45mm之間。有益效果本實用新型研磨機使用壽命長、工作效率高、拋光精確度高。在與驅(qū)動裝置相連的傳動裝置上裝有減速機，使得該傳動機構(gòu)功率大、穩(wěn)定性好、更加耐用，通過在研磨盤上課印痕的方法來研磨，可以增加研磨盤的厚度，使研磨盤不易損壞。

圖I為本實用新型研磨機主視圖；圖2為本實用新型研磨機的上研磨盤結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型研磨機的下研磨盤結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實用新型研磨機大箱體ー個側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實用新型研磨盤的支撐軸局部放大結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實用新型研磨盤的上拋光片結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖所示，ー種研磨機，包括研磨機構(gòu)I、與所述研磨機構(gòu)I相連的傳動機構(gòu)2，所述傳動機構(gòu)2下面連有驅(qū)動機構(gòu)3，所述研磨機構(gòu)I包括上拋光片和下拋光片4，所述上拋光片下面套有上研磨盤5，所述下拋光片4上面套有下研磨盤6，所述上研磨盤5和下研磨盤6上均刻有印痕7，上研磨盤5的印痕為5-10mm深，下研磨盤6的印痕為4-10mm深，所述上研磨盤5和下研磨盤6上的印痕均組成方格，所述上研磨盤5上的方格大小為10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盤6上的方格大小為15 X 15mm-30 X 30mm,所述傳動機構(gòu)2包括支撐所述下拋光片4的支撐軸8和安裝在所述支撐軸8周圍且與所述驅(qū)動機構(gòu)3相連的運行裝置，所述驅(qū)動機構(gòu)3與所述傳動機構(gòu)2之間連有減速器9，所述驅(qū)動機構(gòu)3和傳動機構(gòu)2外面設(shè)有箱體10，所述支撐軸8軸套外面設(shè)有滾針軸承，所述箱體10的側(cè)面設(shè)有門11，所述門11以所述箱體10的側(cè)面底邊為下邊框，所述箱體10的側(cè)面與所述箱體10之間設(shè)有拆分連接裝置12，所述拋光機的驅(qū)動機構(gòu)3與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設(shè)有PCL集中控制系統(tǒng)，所述上拋光片上面設(shè)有氣缸，所述PLC集中控制箱內(nèi)裝有比例閥與所述PCL集中控制系統(tǒng)相連，所述比例閥還與所述氣缸相連，所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片13和下層拋光片14，所述上層拋光片13和下層拋光片14中間對應(yīng)設(shè)有若干相相匹配的通孔15，所述通孔15內(nèi)裝有固定裝置，所述上層拋光片13上還設(shè)有以所述上層拋光片13的中心為對稱點對稱定位銷16，所述支撐軸8軸套下方設(shè)有ー組向心軸承17，支撐軸8軸套上方設(shè)有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承18和套在所述雙列滾珠軸承18下方的平面軸承19。
權(quán)利要求1.ー種研磨機，其特征在于包括研磨機構(gòu)(I)、與所述研磨機構(gòu)(I)相連的傳動機構(gòu)(2)，所述傳動機構(gòu)(2)下面連有驅(qū)動機構(gòu)(3)，所述研磨機構(gòu)(I)包括上拋光片和下拋光片(4)，所述上拋光片下面套有上研磨盤(5)，所述下拋光片(4)上面套有下研磨盤(6)，所述上研磨盤(5)和下研磨盤(6)上均刻有印痕(7)，上研磨盤(5)的印痕為5-1Omm深，下研磨盤(5)的印痕為4-10mm深，所述上研磨盤(5)和下研磨盤(6)上的印痕均組成方格(6)，所述上研磨盤(5 )上的方格大小為10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盤(6 )上的方格大小為15X15mm-30X30mm,所述傳動機構(gòu)(2)包括支撐所述下拋光片(4)的支撐軸(8)和安裝在所述支撐軸(8 )周圍且與所述驅(qū)動機構(gòu)(3 )相連的運行裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述驅(qū)動機構(gòu)(3)與所述傳動機構(gòu)(2)之間連有減速器(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述驅(qū)動機構(gòu)(3)和傳動機構(gòu)(2)外面設(shè)有箱體(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述支撐軸(8)軸套外面設(shè)有滾針軸承。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述研磨機，其特征在于所述箱體(10)的側(cè)面設(shè)有門(11)，所述門(11)以所述箱體(10)的側(cè)面底邊為下邊框，所述箱體(10)的側(cè)面與所述箱體(10)之間設(shè)有拆分連接裝置(12)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述拋光機的驅(qū)動機構(gòu)(3)與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設(shè)有PCL集中控制系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述上拋光片上面設(shè)有氣缸。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的ー種大型拋光機，其特征在于所述PLC集中控制箱內(nèi)裝有比例閥與所述PCL集中控制系統(tǒng)相連，所述比例閥還與所述氣缸相連。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片(13)和下層拋光片(14)，所述上層拋光片(13)和下層拋光片(14)中間對應(yīng)設(shè)有若干相相匹配的通孔(15)，所述通孔(15)內(nèi)裝有固定裝置，所述上層拋光片(13)上還設(shè)有以所述上層拋光片(13)的中心為對稱點對稱定位銷(16)。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述研磨機，其特征在于所述支撐軸(8)軸套下方設(shè)有ー組向心軸承(17)，支撐軸(8)軸套上方設(shè)有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承(18)和套在所述雙列滾珠軸承(18)下方的平面軸承(19)。
專利摘要本實用新型公開了一種研磨機，包括研磨機構(gòu)、與所述研磨機構(gòu)相連的傳動機構(gòu)，所述傳動機構(gòu)下面連有驅(qū)動機構(gòu)，所述研磨機構(gòu)包括上拋光片和下拋光片，所述上拋光片下面套有上研磨盤，所述下拋光片上面套有下研磨盤，所述上研磨盤和下研磨盤上均刻有印痕，所述上研磨盤和下研磨盤上的印痕均組成方格，所述傳動機構(gòu)包括支撐所述下拋光片的支撐軸和安裝在所述支撐軸周圍且與所述驅(qū)動機構(gòu)相連的運行裝置。本實用新型研磨機使用壽命長、工作效率高、拋光精確度高。
文檔編號B24B37/11GK202448025SQ20112046419
公開日2012年9月26日 申請日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月21日
發(fā)明者曹錫明, 胡杰, 黃云飛 申請人:南通瑞爾實業(yè)有限公司