環(huán)狀體的制造方法

專利名稱：環(huán)狀體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及環(huán)狀體的制造方法。
背景技術(shù)：
近年來，已經(jīng)提出了通過感應(yīng)加熱法對(duì)定影部件進(jìn)行加熱的方法(例如，參照日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_平(JP-A)No. 11-35觀04和日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_No. 2000-188177)。除了具有發(fā)熱層的加熱定影部件和加壓部件，電磁感應(yīng)加熱定影方法需要線圈和高頻電源。線圈安裝在加熱定影部件的內(nèi)部或外部且靠近加熱定影部件的位置，并且電連接到高頻電源。通過該高頻電源使高頻交流電流流過線圈，并且此時(shí)，根據(jù)電流方向沿著與線圈纏繞表面垂直的方向，在線圈周圍產(chǎn)生磁通量。磁通量橫穿安裝在線圈附近的加熱定影部件的發(fā)熱層，并且在加熱定影部件上的發(fā)熱層中產(chǎn)生渦電流，該渦電流沿著抵消該磁通量的方向產(chǎn)生磁場。由于發(fā)熱層具有由其材料和厚度確定的抵抗值，因此將來自生成的渦電流的電能轉(zhuǎn)換成熱能。使用此時(shí)產(chǎn)生的熱的定影裝置是電磁感應(yīng)加熱定影裝置。作為用于電磁感應(yīng)加熱定影的定影帶，存在這樣的定影帶從內(nèi)周面?zhèn)鹊酵庵苊鎮(zhèn)?，在聚酰亞胺樹脂層上層疊金屬層。已經(jīng)嘗試了通過無電鍍來形成該金屬層的方法。常規(guī)地，已經(jīng)嘗試了通過諸如噴砂和珩磨(濕式噴砂)等的方法使聚酰亞胺樹脂層的表面粗糙化的方法(例如，參照日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_平No. 11-320753和日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_No. 2003-105551)。還已經(jīng)嘗試了化學(xué)地激活聚酰亞胺樹脂層的表面以執(zhí)行無電鍍的方法(例如，參照日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_No. 2010-77467)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供與下述情況相比能夠大量重復(fù)制造具有期望的表面狀態(tài)的環(huán)狀體的環(huán)狀體制造方法不執(zhí)行研磨材料的排出及新研磨材料的裝填的情況，和/或在研磨材料更換步驟中不更換研磨材料使得新研磨材料的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上的情況。上述目的可以通過例如，下面的實(shí)施方式<1>和<2>來實(shí)現(xiàn)。<1> 一種環(huán)狀體的制造方法，該制造方法包括以下步驟研磨材料裝填步驟，將研磨材料裝填到研磨裝置中，該研磨裝置對(duì)包含樹脂的圓筒膜的表面進(jìn)行研磨；第一表面粗糙化重復(fù)步驟，交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作，該表面粗糙化操作使研磨材料碰撞圓筒膜的表面，使表面粗糙化，該圓筒膜更換操作用還沒有完成所述表面的粗糙化的另一個(gè)圓筒膜更換已經(jīng)完成了所述表面的粗糙化的圓筒膜； 研磨材料更換步驟，通過在第一表面粗糙化重復(fù)步驟之后將裝填到研磨裝置中的一部分研磨材料排出，并且裝填新研磨材料，使得新研磨材料相對(duì)于裝填新研磨材料之后研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上，來更換研磨材料；以及
第二表面粗糙化重復(fù)步驟，在研磨材料更換步驟之后，再次交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作。<2>根據(jù)<1>所述的環(huán)狀體的制造方法，其中，在所述第一表面粗糙化重復(fù)步驟中，在形成了所述圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)相對(duì)于最初完成表面粗糙化的所述圓筒膜中的所述比的值變?yōu)樾∮?0%的圓筒膜之前，結(jié)束所述表面粗糙化操作和所述圓筒膜更換操作二者的重復(fù)，然后執(zhí)行研磨材料更換步驟。根據(jù)上述實(shí)施方式<1>所述的本發(fā)明，提供了一種與下述情況相比能夠大量重復(fù)制造具有期望的表面狀態(tài)的環(huán)狀體的環(huán)狀體的制造方法不執(zhí)行研磨材料的排出及新研磨材料的裝填的情況，和/或在研磨材料更換步驟中不更換研磨材料使得新研磨材料的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上的情況。根據(jù)上述實(shí)施方式<2>所述的本發(fā)明，提供了一種與不采用下述構(gòu)造的情況相比能夠大量重復(fù)制造具有期望的表面狀態(tài)的環(huán)狀體的環(huán)狀體的制造方法其中，在所述第一表面粗糙化重復(fù)步驟中，在形成所述圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)相對(duì)于最初完成表面粗糙化的圓筒膜中的該比的值變?yōu)樾∮?0%的圓筒膜之前，結(jié)束表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作二者的重復(fù)，然后執(zhí)行研磨材料更換步驟。


將基于附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，其中圖1是示出了由根據(jù)示例性實(shí)施方式的環(huán)狀體的制造方法制造的環(huán)狀體的粗糙化表面的表面粗糙化狀態(tài)的示意性截面圖；圖2是示出了在傳統(tǒng)制造方法中當(dāng)使用劣化的研磨材料時(shí)所制造的環(huán)狀體的粗糙化表面的表面粗糙化狀態(tài)的示意性截面圖；圖3A至圖3D是對(duì)用于表面粗糙化之前的新研磨材料進(jìn)行拍照時(shí)得到的圖像；圖4A至圖4D是對(duì)用于表面粗糙化之后的劣化研磨材料進(jìn)行拍照時(shí)得到的圖像；圖5是示出了對(duì)根據(jù)示例性實(shí)施方式的環(huán)狀體的制造方法要使用的樹脂層的外周面進(jìn)行粗糙化的方法的示例的示意圖；圖6是示出了由環(huán)狀體來控制膜厚度的浸漬涂布法使用的裝置的示例的示意性構(gòu)造圖；圖7A和圖7B是示出了由旋轉(zhuǎn)涂布裝置進(jìn)行的涂布方法的示意圖，圖7A是從側(cè)面觀察到的圖，而圖7B是從正面觀察到的圖；圖8是示出了由根據(jù)示例性實(shí)施方式的制造方法獲得的環(huán)狀體(樹脂層)上形成有金屬層的環(huán)狀帶的沿周向的截面的示意圖；圖9是示出了包括圖8中所示的環(huán)狀帶作為定影帶的電磁感應(yīng)加熱型定影裝置的構(gòu)造的示意圖；圖10是示出了包括圖9中所示的定影裝置的圖像形成裝置的構(gòu)造的示意圖；以及圖IlA是示出了用顯微鏡觀察比較例1中第1800條制得的環(huán)狀體的粗糙化表面時(shí)的截面照片，而圖IlB是用顯微鏡觀察示例1中第1800條制得的環(huán)狀體的粗糙化表面時(shí)的截面照片。
具體實(shí)施例方式下面將詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。根據(jù)示例性實(shí)施方式的環(huán)狀體的制造方法包括以下步驟。-研磨材料裝填步驟將研磨材料裝填到研磨裝置中，該研磨裝置對(duì)包含樹脂的圓筒膜的表面進(jìn)行研磨的。-第一表面粗糙化重復(fù)步驟交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作，該表面粗糙化操作使研磨材料與圓筒膜的表面碰撞，由此使表面粗糙化；該圓筒膜更換操作將已經(jīng)完成了表面粗糙化的圓筒膜用還沒有完成表面粗糙化的另一個(gè)圓筒膜進(jìn)行更換。-研磨材料更換步驟通過在第一表面粗糙化重復(fù)步驟之后，排出裝填到研磨裝置中的一部分研磨材料，并且裝填新研磨材料，使得新研磨材料相對(duì)于裝填新研磨材料之后研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上(或者按重量計(jì)是大約30%以上)，來更換研磨材料。-第二表面粗糙化重復(fù)步驟在研磨材料更換步驟之后，再次交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作。研磨材料通過重復(fù)地碰撞圓筒膜而劣化，并且逐漸變小。具體地當(dāng)使用具有不規(guī)則形狀的研磨材料時(shí)，角部被去除并且變圓，并且接近球形。在已經(jīng)通過這樣的劣化研磨材料執(zhí)行了表面粗糙化的情況下，不會(huì)獲得如圖1所示的、具有在樹脂層31表面上形成的凹部32和凸部33并且具有銳角緣34的粗糙表面，而獲得了如圖2所示的、僅具有凹部32和凸部33的粗糙表面。另一方面，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了通過排出由于重復(fù)地碰撞圓筒膜而劣化的研磨材料的一部分，并且裝填新研磨材料，使得新研磨材料的百分比在上述范圍之內(nèi)，可以重復(fù)獲得如圖1 所示的、具有在樹脂層31的表面上形成的凹部32和凸部33并且具有銳角緣34的粗糙表面。由此，即使通過無電鍍等在圓筒膜的粗糙化表面上形成金屬層，也確保粘附性。在無電鍍中，金屬沉積在與鍍液接觸的部分中。由此，即使如圖1所示在樹脂層31中存在表面被銳角緣34隱藏的部分，甚至在內(nèi)表面部分中也沉積并且形成金屬層。因此，推斷出已經(jīng)進(jìn)入表面被隱藏的內(nèi)表面部分的金屬層展現(xiàn)出錨固效應(yīng)(咬入效應(yīng))，由此確保粘附性。通過在研磨材料更換步驟中通過執(zhí)行排出研磨材料并裝填新研磨材料使得新研磨材料的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上來更換研磨材料，與之前相比，可以更大量地重復(fù)制造具有期望表面狀態(tài)(例如，經(jīng)過表面粗糙化的圓筒膜的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)是3. 0以上)的圓筒膜(環(huán)狀體)。結(jié)果，即使在經(jīng)過表面粗糙化的環(huán)狀體的表面上進(jìn)一步形成金屬層的情況下，也可以大量地重復(fù)制造難以剝離金屬層的環(huán)狀體。在研磨材料更換步驟中，新研磨材料的百分比按重量計(jì)小于30%的情況下，可能無法大量地重復(fù)制造具有期望表面狀態(tài)的圓筒膜(環(huán)狀體)。新研磨材料的百分比按重量計(jì)可以是35%以上，或者按重量計(jì)是40%以上。
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-表面積和投影面積-在表面粗糙化之后的圓筒膜(即，在本示例性實(shí)施方式中制造的環(huán)狀體)中，表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)可以是3. 0以上，或者3. 2以上，或者3. 4以上。表面積和投影面積的上述比是表示實(shí)際表面積相對(duì)于在表面是平的情況下的表面積的程度的指標(biāo)。隨著不規(guī)則性變大，比值也變大，并且通過用激光顯微鏡(例如，由 KEYENCE CORPORATION制造的VK9500)進(jìn)行測(cè)量可以獲得該值。-研磨材料更換時(shí)刻_作為執(zhí)行研磨材料更換步驟的時(shí)刻，在第一表面粗糙化重復(fù)步驟中，可以在形成了圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)相對(duì)于首先最初完成表面粗糙化的圓筒膜中的比值變?yōu)樾∮?0% (或者小于大約80%)的圓筒膜之前，結(jié)束表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作二者的重復(fù)，然后可以執(zhí)行研磨材料更換步驟。當(dāng)形成了上述數(shù)值變?yōu)樾∮?0%的圓筒膜時(shí)，未獲得具有期望表面狀態(tài)的環(huán)狀體。下面將詳細(xì)描述上述各步驟。[環(huán)狀體的制造方法]-研磨材料裝填步驟-如上所述，使研磨材料與圓筒膜的外周面的特定區(qū)域碰撞，由此執(zhí)行表面粗糙化。 用于表面粗糙化的研磨裝置可以是用于使研磨材料碰撞的方法的干式噴砂裝置、濕式噴砂 (液體珩磨)裝置等。雖然要使用的研磨材料的類型取決于圓筒膜的材料，但是例如可以使用諸如氧化鋁和碳化硅等的研磨材料(其體積平均粒徑是10 μ m至100 μ m (或者大約IOym至大約 ΙΟΟμπι))。體積平均粒徑可以通過電阻測(cè)試法(庫爾特(Coulter)計(jì)數(shù)器法)來測(cè)定。要裝填到研磨裝置中的研磨材料的形狀和在后面描述的研磨材料更換步驟中要裝填的新研磨材料的形成可以是具有如圖3A至圖3D所示的邊緣的不規(guī)則形狀。這里，“不規(guī)則形狀”意味著圓形度是0.9以下，并且圓形度可以是0. 88以下，或者0. 85以下。上述圓形度是通過相應(yīng)圓的周長除以顆粒投影圖像的周長所獲得的比，并且正圓的圓形度變?yōu)?。隨著顆粒的不規(guī)則度變大，圓形度的值變小。通過使用流式顆粒圖像測(cè)量機(jī)(例如，由Sysmex Corporation制造的FPIA-3000)進(jìn)行成像，來執(zhí)行對(duì)該值的測(cè)量。在本說明書中描述的數(shù)值是通過該方法測(cè)得。-第一表面粗糙化重復(fù)步驟-首先，通過將圓筒膜設(shè)置在支撐體外周面上以緊密接觸，來通過圓筒支撐體來支撐圓筒膜。在通過下面將描述的圓筒膜的制造方法來制造圓筒膜的情況下，在下面將描述的模具表面上形成的圓筒膜可以按原樣使用，而不用剝離。由該支撐體支撐的圓筒膜設(shè)置在上述研磨裝置中，并且如圖5所示，使圓筒膜10A 沿著周向(圖5中F的方向)旋轉(zhuǎn)，并且使來自研磨裝置的排出噴嘴30的研磨材料碰撞圓筒膜10A。具體地在使水中分散的研磨材料碰撞圓筒膜的濕式噴砂(液體珩磨)的情況下， 可以使用將研磨材料與具有0. 至5. OMPa的水壓的水一起進(jìn)行噴射由此執(zhí)行表面粗糙化的方法。圓筒膜10A的表面粗糙度Ra可以在0. 2 μ m以上但1. 5 μ m以下的范圍內(nèi)，或者在0. 3 μ m以上但1. 0 μ m以下的范圍內(nèi)。這里，圓筒膜IOA的外周面的表面粗糙度是遵循分析標(biāo)準(zhǔn)JIS B0601(1994)，通過表面粗糙度測(cè)量機(jī)(由束京精密制造的SURFCOM 1500DX)來測(cè)量的算術(shù)平均粗糙度Ra的值。使研磨材料碰撞圓筒膜的方法不限于噴砂。例如，可以采用使研磨材料通過研磨材料的自由下落而碰撞圓筒膜的方法。在使研磨材料碰撞圓筒膜由此執(zhí)行表面粗糙化之后，可以通過用水進(jìn)行噴射來清潔圓筒膜的表面，并接著可以執(zhí)行排水。在如上所述對(duì)一個(gè)圓筒膜執(zhí)行了表面粗糙化操作之后，從研磨裝置去除已經(jīng)完成表面粗糙化的該圓筒膜，并且執(zhí)行將該圓筒膜用尚未完成表面粗糙化的另一個(gè)圓筒膜進(jìn)行更換的圓筒膜更換操作。在第一表面粗操化重復(fù)步驟中，交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作。-研磨材料更換步驟_在第一表面粗糙化重復(fù)步驟之后，通過將已經(jīng)裝填到研磨裝置中的研磨材料的一部分排出，并且裝填新研磨材料，使得新研磨材料相對(duì)于裝填新研磨材料之后研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0%以上，來更換研磨材料。作為執(zhí)行研磨材料更換步驟的時(shí)刻，如上所述，在第一表面粗糙化重復(fù)步驟中，可以在形成了圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)相對(duì)于最初已經(jīng)完成表面粗糙化的圓筒膜中的比值變?yōu)樾∮?0%的圓筒膜之前，結(jié)束表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作的重復(fù)，然后可以執(zhí)行研磨材料更換步驟。-第二表面粗糙化重復(fù)步驟在研磨材料更換步驟之后，再一次交替且重復(fù)地執(zhí)行在第一表面粗糙化重復(fù)步驟中描述的表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作?？梢栽诘诙砻娲植诨貜?fù)步驟之后，進(jìn)一步重復(fù)研磨材料更換步驟和表面粗糙化重復(fù)步驟，即，可以執(zhí)行第三表面粗糙化重復(fù)步驟或者隨后的第四、第五以及之后的表面粗糙化重復(fù)步驟。作為此情況下執(zhí)行研磨材料更換步驟的時(shí)刻，如上所述，在最后的表面粗糙化重復(fù)步驟(例如，第二表面粗糙化重復(fù)步驟)中，可以在形成了圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)相對(duì)于最初已經(jīng)完成表面粗糙化的圓筒膜中該比的值變?yōu)樾∮?0%的圓筒膜之前，結(jié)束表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作二者的重復(fù)，然后可以執(zhí)行研磨材料更換步驟。(圓筒膜的制造方法)下面，將描述要通過上述方法進(jìn)行表面粗糙化的圓筒膜的制造方法。(1)涂布步驟在圓筒膜的制造方法中，首先，將樹脂材料涂布在模具的外周面上。作為要使用的模具，可以使用諸如鋁、不銹鋼、鎳和銅等的金屬。模具的長度應(yīng)當(dāng)是比圓筒膜的預(yù)期寬度大的長度，模具的外徑與圓筒膜的預(yù)期直徑匹配，并且模具的厚度被設(shè)置為可以維持作為模具的強(qiáng)度的厚度。作為模具，使用圓筒模具。為了向模具的表面提供模具防粘性，存在用鉻或鎳對(duì)模具表面進(jìn)行鍍敷，用氟樹脂或硅樹脂覆蓋模具表面，或者將防粘劑涂布到表面的方法。
樹脂材料(樹脂)的示例包括聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、 聚芳酯等。自由選擇樹脂材料的濃度、粘度等。例如，作為聚酰亞胺前體，使用多種已知的前體，如由3，3’，4，4’ -聯(lián)苯四羧酸二酐(BPDA)和對(duì)苯二胺(PDA)構(gòu)成的前體；由BPDA和4，4’-二氨基二苯醚構(gòu)成的前體；以及由苯均四酸二酐(PMDA)和4，4’ - 二氨基二苯醚構(gòu)成的前體?？梢曰旌喜⑶沂褂脙煞N或更多種聚酰亞胺前體，并且多種酸或胺單體可以混合并且共聚。用于聚酰亞胺前體的溶劑的示例包括非質(zhì)子極性溶劑，如N-甲基吡咯烷酮、N， N- 二甲基乙酰胺和乙酰胺。自由選擇聚酰亞胺前體溶液的混合比例、濃度、粘度等。作為將樹脂材料涂布到模具外周面的方法，存在采用的已知方法，如浸漬涂布法 (其將模具浸漬在溶液中并且向上拉模具)、流涂法(其在旋轉(zhuǎn)模具的同時(shí)，向模具表面排出溶液)以及刮刀涂布法(其在那時(shí)用刮刀使膜平整)?！巴坎嫉侥＞呱稀北硎緦?duì)模具的外周面進(jìn)行涂布，或者在模具在其表面上具有層的情況下，對(duì)該層的表面進(jìn)行涂布。“向上拉模具”是基于與涂布期間的液面的相對(duì)關(guān)系，并且包括停止模具并且向下移動(dòng)涂布液面的情況。在通過浸漬涂布法執(zhí)行涂布的情況下，可以應(yīng)用如在日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_(JP-A) No. 2002-91027中所描述的、通過環(huán)狀體來控制膜厚度的方法。圖6是示出了用于通過環(huán)狀體來控制膜厚度的浸漬涂布法的裝置的示例的示意性構(gòu)造圖。這里，該圖僅示出了主要部分，并且省略了模具1的保持板和其他裝置。如圖6 所示，該浸漬涂布法是這樣的方法將具有比模具1的外徑大的圓孔6的環(huán)狀體5浮在放入涂布槽3中的溶液2上，并且通過圓孔6向上拉模具1且對(duì)模具1進(jìn)行涂布。環(huán)狀體5的材料從溶液2的溶劑不侵入的金屬、塑料等選擇。由于通過模具1的外徑和圓孔6的內(nèi)徑之間的間隙來調(diào)節(jié)涂膜4的膜厚度，因此根據(jù)期望的膜厚度來調(diào)節(jié)圓孔6的內(nèi)徑。在涂布期間，通過圓孔6向上拉模具1。向上拉的速度可以從0. 1至1. 5m/分鐘。 用于該涂布法的溶液的粘度可以從IPa · s至IOOPa · S。如圖7A和圖7B所示，使用上述溶液2，可以通過旋轉(zhuǎn)涂布裝置來執(zhí)行涂布。在旋轉(zhuǎn)涂布裝置中，單螺桿泵21連接到放入有樹脂材料(溶液2、的容器23，由此調(diào)節(jié)排出量， 并且包括不銹鋼板等的刮刀22安裝在排出液體的正下方。在使排出部和刮刀在附圖中從左向右邊移動(dòng)的同時(shí)，使模具1旋轉(zhuǎn)，由此將溶液2涂布在模具1的外周面上。(2)固化步驟在固化步驟中，對(duì)形成在模具1上的涂膜進(jìn)行加熱并且使其干燥。即，為了去除涂膜中存在的溶劑，將加熱和干燥執(zhí)行到這樣的程度涂膜在靜置時(shí)不變形。盡管加熱和干燥條件由樹脂或溶劑的類型決定，但是加熱和干燥可以在80°C至170°C的溫度執(zhí)行30分鐘至 60分鐘。隨著溫度升高，加熱時(shí)間可以縮短。溫度在某段時(shí)間內(nèi)，可以逐步升高或者以不變速率升高。在加熱期間施加熱空氣也是有效的。在加熱和干燥期間，在涂膜上出現(xiàn)下垂的情況下，有效的是，使模具1的軸向水平，并且使模具緩慢旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)速度可以從Irpm至60rpm。在需要更高溫度干燥的情況下，執(zhí)行加熱(加熱反應(yīng)處理)。例如，在聚酰亞胺樹脂的情況下，可以通過在300°C至350°C (或250°C至450°C )的溫度對(duì)涂膜加熱20分鐘至60分鐘，由此造成縮合反應(yīng)，來形成聚酰亞胺樹脂膜。在此情況下，可以在達(dá)到加熱的最終溫度之前，完全去除殘留溶劑。具體地，可以在200°C至250°C的溫度執(zhí)行加熱10分鐘至30 分鐘，以使殘留溶劑干燥，并且隨后，可以逐步或以不變速率升高溫度。以該方式在模具的外周面上形成圓筒膜，并且接著，以上述第一表面粗糙化重復(fù)步驟和第二表面粗糙化重復(fù)步驟等，對(duì)該圓筒膜執(zhí)行表面粗糙化。[用于電磁感應(yīng)加熱系統(tǒng)的環(huán)狀帶]下面，將參照附圖描述在由根據(jù)本示例性實(shí)施方式的制造方法獲得的環(huán)狀體(樹脂層)上形成有金屬層的環(huán)狀帶。圖8示意性地示出了在由根據(jù)本示例性實(shí)施方式的制造方法獲得的環(huán)狀體(樹脂層)上形成有金屬層的環(huán)狀帶的沿周向的截面構(gòu)造，并且圖9示意性地示出了包括上述環(huán)狀帶作為定影帶的電磁感應(yīng)加熱型定影裝置(此后還被稱為“電磁感應(yīng)加熱定影裝置”或 “定影裝置”)的構(gòu)造。在環(huán)狀帶10(此后還被稱為“定影帶”或“帶”)中，從內(nèi)周面?zhèn)瘸蛲庵苊鎮(zhèn)纫来螌拥谁h(huán)狀體(樹脂層)IOA (作為基材)、基礎(chǔ)金屬層(金屬錨固層)10B、金屬發(fā)熱層10C、 金屬保護(hù)層10D、彈性層IOE和防粘層10F。(環(huán)狀體(樹脂層))在電磁感應(yīng)加熱定影裝置100中，作為定影帶10的基材的環(huán)狀體IOA以定影溫度沿著帶10的周向重復(fù)傳送(旋轉(zhuǎn))，同時(shí)與環(huán)狀體IOA相鄰設(shè)置的金屬發(fā)熱層IOC發(fā)熱。 作為該環(huán)狀體，如已經(jīng)論述的地使用由根據(jù)本示例性實(shí)施方式的制造方法獲得的環(huán)狀體。環(huán)狀體IOA的厚度可以在ΙΟμπι至200μπι的范圍內(nèi)。環(huán)狀體IOA的厚度是通過渦電流型厚度儀(由費(fèi)歇爾儀器有限公司(Fischer Instruments Ltd.)制造)測(cè)得的值。(基礎(chǔ)金屬層)基礎(chǔ)金屬層IOB是例如為了在由樹脂制成的環(huán)狀體IOA的外周面上形成金屬發(fā)熱層IOC而設(shè)置的層，并且根據(jù)需要形成該基礎(chǔ)金屬層10B。金屬發(fā)熱層IOC的形成方法可以是電鍍法，但是難以在由樹脂制成的環(huán)狀體IOA上直接執(zhí)行電鍍。由此，為了形成金屬發(fā)熱層10C，需要基礎(chǔ)金屬層10B。作為該基礎(chǔ)金屬層IOB的形成方法，可以使用化學(xué)鍍。具體地，可以使用普通的化學(xué)鍍鎳?；A(chǔ)金屬層IOB的厚度可以是不削弱帶10的柔軟性的厚度，并且可以在例如 0. IymM 10 μ m的范圍內(nèi)。(金屬發(fā)熱層)金屬發(fā)熱層IOC是電磁感應(yīng)加熱定影裝置100中這樣的層其具有由從線圈生成的磁場來生成渦電流，由此發(fā)熱的功能，并且金屬發(fā)熱層IOC由產(chǎn)生電磁感應(yīng)作用的金屬制成。產(chǎn)生電磁感應(yīng)作用的金屬選自例如鎳、鐵、銅、金、銀、鋁、鉻、錫和鋅的單一金屬或者由兩種或更多種元素構(gòu)成的合金(鋼等)。其中，可以使用銅、鎳、鋁、鐵和鉻，或者可以使用銅或主要由銅構(gòu)成的合金。盡管根據(jù)金屬發(fā)熱層IOC的材料，合適厚度是不同的，但是例如，在銅用于金屬發(fā)熱層IOC的情況下，金屬發(fā)熱層的厚度可以在3 μ m至50 μ m的范圍內(nèi)。(金屬保護(hù)層)
金屬保護(hù)層IOD是設(shè)置在金屬發(fā)熱層IOC上來保護(hù)金屬發(fā)熱層的層。具體地，在使用主要由銅構(gòu)成的金屬發(fā)熱層IOC的情況下，金屬保護(hù)層IOD可以設(shè)置在金屬發(fā)熱層IOC 上。金屬保護(hù)層IOD可以是由具有高耐久性和抗氧化性的抗氧化金屬制成的薄膜?？紤]了薄膜的加工性時(shí)，金屬保護(hù)層IOD的形成方法可以是電鍍法。尤其，可以使用電鍍鎳， 通過該電鍍鎳獲得具有高強(qiáng)度的金屬膜。盡管根據(jù)金屬保護(hù)層IOD的材料，合適厚度是不同的，但是例如，在鎳用于金屬保護(hù)層IOD的情況下，金屬保護(hù)層的厚度可以在2μπι至20μπι的范圍內(nèi)。金屬發(fā)熱層IOC 和金屬保護(hù)層IOD的厚度是通過熒光X射線厚度儀(由費(fèi)歇爾儀器有限公司(Fischer Instruments Ltd.)制造)測(cè)得的值。盡管圖8中所示的定影帶10在環(huán)狀體IOA的外周面上具有三層金屬層(基礎(chǔ)金屬層10B、金屬發(fā)熱層IOC和金屬保護(hù)層10D)，但是定影帶不限于此，并且金屬層可以是單層，可以是兩層，或者可以是四層以上。例如，可以不設(shè)置基礎(chǔ)金屬層10B，并且可以通過濺射法等將金屬發(fā)熱層IOC直接設(shè)置在環(huán)狀體IOA的外周面上。(彈性層)彈性層IOE是起到根據(jù)記錄介質(zhì)上色調(diào)劑圖像的不規(guī)則性，使定影帶10的表面與色調(diào)劑圖像緊密接觸的作用的層。彈性層IOE是由這樣的材料制成的層該材料即使由于施加了 IOOPa的應(yīng)力而變形，也能夠恢復(fù)其原始形狀。構(gòu)成彈性層IOE的材料可以是已知的彈性材料。例如，可以使用耐熱橡膠，如硅橡膠和氟橡膠。具體地，其示例包括由Dow Corning Toray Silicon Co. Ltd.(道康寧東麗硅股份有限公司)制造的液態(tài)硅橡膠SE 6744，和由DuPont Dow Elastomers LLC(杜邦陶氏彈性體公司)制造的Viton B-202。(防粘層)當(dāng)通過使用定影帶(環(huán)狀帶)10將未定影的色調(diào)劑圖像以溶融狀態(tài)定影在記錄介質(zhì)上時(shí)，為了防止溶融狀態(tài)的色調(diào)劑牢固地粘合到定影帶10，形成了防粘層10F。防粘層 IOF可以根據(jù)需要設(shè)置。可以使用氟化物作為主要成分，來形成防粘層10F。氟化物的示例包括例如氟樹脂，如氟橡膠、聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)和四氟乙烯六氟丙烯共聚物(FEP)等。防粘層IOF的厚度例如在IOymM IOOym0[定影裝置]下面將描述具有上述環(huán)狀帶10作為定影帶的電磁感應(yīng)型定影裝置100。如圖9所示，加壓輥(加壓部件)11設(shè)置為以按壓定影帶10的一部分，并且在定影帶10和加壓輥11之間形成接觸區(qū)。在該接觸區(qū)中，定影帶10彎曲成沿著加壓輥11的周面的形狀。在加壓輥11中，在基材1IA上形成由硅橡膠等形成的彈性體層11B,并且在彈性體層IlB上形成由氟化物制成的防粘層11C。在定影帶10內(nèi)側(cè)，加壓部件13設(shè)置在面向加壓輥11的位置。加壓部件13具有由金屬、耐熱樹脂、耐熱橡膠等制成的墊13B，和對(duì)墊1 進(jìn)行支撐的支撐體13A，其中墊13B接觸定影帶10的內(nèi)周面并且增大了局部壓力。內(nèi)置有電磁感應(yīng)線圈(激勵(lì)線圈)1 的電磁感應(yīng)加熱裝置12設(shè)置在隔著定影帶 10面向加壓輥11的位置。電磁感應(yīng)加熱裝置12將交流電流施加給電磁感應(yīng)線圈，使用勵(lì)磁電路改變產(chǎn)生的磁場，并且使定影帶10的金屬發(fā)熱層IOC產(chǎn)生渦電流。由金屬發(fā)熱層IOC 的電阻將該渦電流轉(zhuǎn)換成熱(焦耳熱)，并且因此定影帶10的表面發(fā)熱。電磁感應(yīng)加熱裝置12的位置不限于圖9中所示的位置。例如，電磁感應(yīng)加熱裝置可以安裝在定影帶10的接觸區(qū)的沿著旋轉(zhuǎn)方向B的上游側(cè)，或者可以安裝在定影帶10內(nèi)部。在圖9中所示的電磁感應(yīng)加熱型定影裝置100中，當(dāng)由驅(qū)動(dòng)裝置(未示出)將驅(qū)動(dòng)力傳遞給設(shè)置在定影帶10兩端的齒輪時(shí)，定影帶10沿著箭頭B的方向自轉(zhuǎn)，而隨同定影帶10的旋轉(zhuǎn)一起，加壓輥11沿著相反方向(即，箭頭C的方向)旋轉(zhuǎn)。使上面形成有未定影的色調(diào)劑圖像14的記錄材料15沿著箭頭A的方向，在定影裝置100中穿過定影帶10和加壓輥11之間的接觸區(qū)，并且用壓力將未定影的色調(diào)劑圖像 14以溶融狀態(tài)定影在記錄介質(zhì)15上。〈圖像形成裝置〉圖10示意性地示出了包括圖9中所示的定影裝置的圖像形成裝置的構(gòu)造。圖像形成裝置200包括感光鼓(圖像承載體)202、充電裝置(充電單元)204、激光掃描器(靜電潛像形成單元)206、反射鏡208、顯影裝置(顯影單元)210、中間轉(zhuǎn)印體212、 轉(zhuǎn)印輥(轉(zhuǎn)印單元)214、清潔裝置216、除電器218、定影裝置(定影單元)100、給紙裝置 (給紙單元220、給紙輥222、定位輥2M和記錄介質(zhì)導(dǎo)向裝置226)。在該圖像形成裝置200中執(zhí)行圖像形成的情況下，首先，設(shè)置在感光鼓202附近的非接觸式充電裝置204對(duì)感光鼓202的表面進(jìn)行充電。用與各顏色的圖像信息(信號(hào))相對(duì)應(yīng)的激光，從激光掃描器206，經(jīng)反射鏡208 照射由充電裝置204充電的感光鼓202的表面，由此形成靜電潛像。顯影裝置210通過將色調(diào)劑提供給在感光鼓202的表面上形成的潛像，來形成色調(diào)劑圖像。顯影裝置210包括針對(duì)各顏色的、分別容納黑色、青色、品紅色和黃色的四色色調(diào)劑的顯影單元(未示出)。隨著顯影裝置210沿著箭頭方向旋轉(zhuǎn)，向在感光鼓202的表面上形成的潛像施加各顏色的色調(diào)劑，由此形成色調(diào)劑圖像。通過在感光鼓202和中間轉(zhuǎn)印體212之間施加的偏壓，在感光鼓202和中間轉(zhuǎn)印體212之間的接觸部中，形成在感光鼓202的表面上的彩色色調(diào)劑圖像被交疊地轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印體212的外周面，以與各顏色的色調(diào)劑圖像的圖像信息一致。在中間轉(zhuǎn)印體212的外周面與感光鼓202的表面接觸的同時(shí)，中間轉(zhuǎn)印體212沿著箭頭E的方向旋轉(zhuǎn)。除了感光鼓202，轉(zhuǎn)印輥214設(shè)置在中間轉(zhuǎn)印體212的周圍。上面已經(jīng)轉(zhuǎn)印了各顏色的色調(diào)劑圖像的中間轉(zhuǎn)印體212沿著箭頭E的方向旋轉(zhuǎn)。 在轉(zhuǎn)印輥214和中間轉(zhuǎn)印體212之間的接觸部中，中間轉(zhuǎn)印體212上的色調(diào)劑圖像被轉(zhuǎn)印到通過給紙裝置沿著箭頭A的方向傳送到該接觸部的記錄介質(zhì)15的表面。執(zhí)行將紙張饋送到中間轉(zhuǎn)印體212和轉(zhuǎn)印輥214之間的接觸部，使得將給紙單元 220中存儲(chǔ)的記錄介質(zhì)由內(nèi)置在給紙單元220中的記錄介質(zhì)上推單元(未示出)上推至記錄介質(zhì)與給紙輥222接觸的位置，給紙輥222和定位輥2M旋轉(zhuǎn)，并且由此沿著記錄介質(zhì)導(dǎo)向裝置226以箭頭A的方向傳送記錄介質(zhì)。轉(zhuǎn)印到記錄介質(zhì)15的表面的色調(diào)劑圖像沿著箭頭A的方向移動(dòng)。在定影帶10和加壓輥11的接觸區(qū)中，色調(diào)劑圖像14以溶融狀態(tài)被擠壓到記錄介質(zhì)15的表面，并且被定影在記錄介質(zhì)15的表面上。由此，形成在記錄介質(zhì)表面上定影的圖像。由清潔裝置216來清潔色調(diào)劑圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印體212的表面之后感光鼓202 的表面。在由清潔裝置216清潔感光鼓202的表面之后，由除電器218對(duì)表面進(jìn)行放電。示例下面將以示例的方式更具體地描述本發(fā)明。這里，本發(fā)明不限于下面的示例。電磁感應(yīng)加熱型定影帶的制造方法在下面示出的示例和比較例中，根據(jù)以下步驟制備定影帶。-圓筒膜形成步驟首先，使用流涂裝置，用聚酰亞胺前體溶液(由宇部興産株式會(huì)社制造的 U-varnish S)涂布用防粘劑(由束 > 社制造的KS700)處理過的圓筒模具(外徑30mm，長度600mm)的表面。在100°C干燥30分鐘之后，將該模具放入380°C的熔爐中，烘烤60分鐘，形成圓筒膜(樹脂層60 μ m厚度)。-表面粗糙化操作下面，作為基礎(chǔ)處理，通過使用液體珩磨裝置，在使模具旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，向樹脂層的表面噴砂不規(guī)則的氧化鋁研磨材料(由昭和電工制造的WA320J(商品名)，粒徑(D-50% ) 40 士 2. 5 μ m)，使得樹脂層的表面粗糙度變?yōu)镽a為0. 7 μ m，來執(zhí)行表面粗糙化，以獲得樹脂層的環(huán)狀體。-各金屬層形成步驟在經(jīng)過表面粗糙化的環(huán)狀體(樹脂層)的表面上形成具有0. 6 μ m的厚度的無電鍍鎳膜，作為基礎(chǔ)金屬層。為了用該基礎(chǔ)金屬層作為陰極來執(zhí)行電鍍，將供電部沿著帶的軸向設(shè)置在帶的在普通紙寬度外側(cè)的兩端部。下面，依次形成充當(dāng)發(fā)熱層的電解銅鍍膜(厚度為ΙΟμπι)和充當(dāng)保護(hù)層的電解鎳鍍膜(厚度為10 μ m)。-彈性層和防粘層形成步驟隨后，使用流涂裝置來執(zhí)行基礎(chǔ)處理底層涂料(由Dow Corning Toray Silicon, Inc.制造的DY39-111A/B)和液態(tài)硅橡膠(由信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造的X34-1053A/B) 的涂布和干燥。下面，通過將模具放入200°C的熔爐以執(zhí)行固化和烘烤，來形成彈性層(厚度為 200 μ m)。而且，涂布用于防粘層的基礎(chǔ)處理底層涂料(由信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造的 No. 101A/B)，并且在100°C干燥30分鐘。其后，通過使用包管機(jī)用變?yōu)榉勒硨拥腜FA(四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚共聚物)的管(厚度為30 μ m)進(jìn)行覆蓋并且放入200°C的熔爐，由此執(zhí)行固化和烘烤，來形成防粘層，由此獲得電磁感應(yīng)加熱型定影帶。[示例1]在示例1中，制備了總共3600條定影帶，并且此時(shí)，如下執(zhí)行表面粗糙化操作。首先，將40kg的研磨材料和水放入液體珩磨裝置的槽中，并且做成混合液。在此
12情況下，研磨材料的濃度是27% (體積基準(zhǔn))。當(dāng)用顯微鏡觀察剛放入液體珩磨裝置的槽中的新研磨材料時(shí)，如圖3A至圖3D所示，觀察到了帶有銳角的不規(guī)則形狀的研磨材料，并且圓形度是0. 871。在圓筒膜形成步驟中形成在模具上的圓筒膜(樹脂層)被設(shè)置在該液體珩磨裝置中。在使模具旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，將研磨材料一邊以不變速度向下移動(dòng)一邊以0. 3IMPa的液壓噴射圓筒膜的表面1. 5分鐘，由此執(zhí)行圓筒膜的表面粗糙化，并且對(duì)600條圓筒膜重復(fù)該操作 (第一表面粗糙化重復(fù)步驟)。其后，將液體珩磨裝置的槽內(nèi)的Ilkg的研磨材料排出，將12kg的新研磨材料裝填到槽中，并且確認(rèn)濃度(體積基準(zhǔn))已經(jīng)變?yōu)?7%。此時(shí)更換的研磨材料是總量的30% (研磨材料更換步驟)。當(dāng)用顯微鏡觀察從液體珩磨裝置的槽排出的研磨材料時(shí)，如圖4A 至圖4D所示，幾乎不存在具有銳角的研磨材料，并且圓形度是0. 930。在攪拌研磨液體之后，在與第一表面粗糙化重復(fù)步驟相同的條件下，對(duì)附加的600 條圓筒膜(總共1200條)執(zhí)行表面粗糙化(第二表面粗糙化重復(fù)步驟)。其后，每當(dāng)完成了對(duì)600條圓筒膜的表面粗糙化之后，就從該裝置的槽中排出一部分研磨材料，并且向槽中裝填新研磨材料，使得濃度(體積基準(zhǔn))變?yōu)?7%，并且更換研磨材料總量中的30 %的研磨材料。通過重復(fù)該過程，持續(xù)對(duì)總共3600條圓筒膜執(zhí)行表面粗糙化。在通過上述方法進(jìn)行表面粗糙化的帶中，表1中示出了通過由激光顯微鏡(由 KEYENCE CORPORATION制造的VK9500)來測(cè)量第1條、第600條、第601條、第1200條、第 1201條、第1800條、第1801條、第MOO條、第MOl條、第3000條、第3001條和第3600條經(jīng)過表面粗糙化的帶的表面，并且計(jì)算表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)和該比相對(duì)于第1條帶的比的百分比所獲得的結(jié)果。不存在表面積與投影面積之比(表面積/ 投影面積)下降到3. 15以下的帶。當(dāng)用顯微鏡觀察第1800條帶的粗糙化表面時(shí)，如圖IlB的截面照片所示，粗糙化表面是帶有銳角的不規(guī)則性的粗糙化表面。即使當(dāng)用顯微鏡觀察第MOO條帶的粗糙化表面時(shí)，粗糙化表面也是帶有銳角的不規(guī)則性的粗糙表面。其后，如在各金屬層形成步驟中所示，在圓筒膜(樹脂層)的粗糙化表面上依次形成充當(dāng)基礎(chǔ)金屬層的無電鍍鎳膜、充當(dāng)發(fā)熱層的電解銅鍍膜和充當(dāng)保護(hù)層的電解鎳鍍膜， 并且通過以下方法來測(cè)量圓筒膜(樹脂層)和金屬層之間的粘附力。-粘附力(90°剝離測(cè)試)沿著上面已經(jīng)形成有各金屬層的上述圓筒膜的軸向，從三個(gè)任意位置制備被切成具有20mm寬度的環(huán)狀測(cè)試樣本，使各個(gè)測(cè)試樣本的一部分彎曲并且在圓筒膜(樹脂層)和金屬層之間剝離，作為牽引邊緣(pulling margin)，并且設(shè)置在90°剝離測(cè)試機(jī)(由AIKO ENGINEERING CO. , LTD.制造的型號(hào)-1301D)上。以50mm/min(毫米/分鐘)的速度在圓筒膜(樹脂層)和金屬層之間執(zhí)行剝離，并且執(zhí)行測(cè)量。計(jì)算用作定影帶的有效范圍(對(duì)形成圖像做出貢獻(xiàn)的范圍)內(nèi)的平均值，并且計(jì)算沿軸向的三個(gè)任意位置的平均值，并且將該平均值認(rèn)為是粘附力。表1中示出了測(cè)量結(jié)果。不存在具有下降到0. 20N/mm以下的粘附力的帶。[比較例1]
在比較例1中，制備總共MOO條定影帶，并且此時(shí)，如下執(zhí)行表面粗糙化操作。首先，將40kg的研磨材料和水放入液體珩磨裝置的槽中，并且制成混合液。在此情況下，研磨材料的濃度是27% (體積基準(zhǔn))。當(dāng)用顯微鏡觀察剛放入液體珩磨裝置的槽中的新研磨材料時(shí)，如圖3A至圖3D所示，觀察到了帶有銳角的不規(guī)則形狀的研磨材料。在圓筒膜形成步驟中形成在模具上的圓筒膜(樹脂層)被設(shè)置在該液體珩磨裝置中。在使模具旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，在與示例1相同的條件下，將研磨材料噴射到圓筒膜的表面，由此執(zhí)行圓筒膜的表面粗糙化，并且類似于示例1地執(zhí)行該操作，針對(duì)600條圓筒膜一直重復(fù)該操作(第一表面粗糙化重復(fù)步驟)。其后，不從液體珩磨裝置槽內(nèi)排出研磨材料，并且裝填新研磨材料，使得濃度(體積基準(zhǔn))變?yōu)?7%。結(jié)果，裝填的新研磨材料的量是^g，并且新研磨材料相對(duì)于裝填后研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)是12. 5% (研磨材料添加步驟)。在攪拌研磨液體之后，在與第一表面粗糙化重復(fù)步驟相同的條件下，對(duì)附加的600 條圓筒膜(總共1200條)執(zhí)行表面粗糙化(第二表面粗糙化重復(fù)步驟)。其后，每當(dāng)完成了對(duì)600條圓筒膜的表面粗糙化之后，不從裝置的槽中排出研磨材料，向槽中裝填新研磨材料，使得濃度(體積基準(zhǔn))變?yōu)?7%。通過重復(fù)該過程，持續(xù)對(duì)總共MOO條圓筒膜執(zhí)行表面粗糙化。在通過上述方法進(jìn)行表面粗糙化的帶中，表1中示出了通過用激光顯微鏡(由 KEYENCE CORPORATION制造的VK9500)來測(cè)量第1條、第600條、第601條、第1200條、第 1201條、第1800條、第1801條、第MOO條經(jīng)過表面粗糙化的帶的表面，并且計(jì)算表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)和該比相對(duì)于第一條帶的比的百分比所獲得的結(jié)果。 表面積與投影面積之比(表面積/投影面積)在第1800條帶和第MOO條帶中下降到3. 00 以下。當(dāng)用顯微鏡觀察第1800條帶的粗糙化表面時(shí)，如圖IlA的截面照片所示，幾乎看不到具有銳角的不規(guī)則性。當(dāng)用顯微鏡觀察第MOO條帶的粗糙化表面時(shí)，也幾乎看不到具有銳角的不規(guī)則性。其后，如在各金屬層形成步驟中所示，在圓筒膜(樹脂層)的粗糙化表面上依次形成充當(dāng)基礎(chǔ)金屬層的無電鍍鎳膜、充當(dāng)發(fā)熱層的電解銅鍍膜和充當(dāng)保護(hù)層的電解鎳鍍膜。 表1中示出了由示例1中描述的測(cè)量方法獲得的圓筒膜(樹脂層)和金屬層之間的粘附力的結(jié)果。粘附力在第1800條帶中是0. 185N/mm，而粘附力在第MOO條帶中是165N/mm，這兩者顯示出較大降低。表權(quán)利要求
1.一種環(huán)狀體的制造方法，該制造方法包括以下步驟(A)將研磨材料裝填到研磨裝置中，所述研磨裝置對(duì)包含樹脂的圓筒膜的表面進(jìn)行研磨；(B)交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作，該表面粗糙化操作使所述研磨材料碰撞所述圓筒膜的表面，使所述表面粗糙化，該圓筒膜更換操作用還沒有完成表面的粗糙化的另一個(gè)圓筒膜更換已經(jīng)完成了表面的粗糙化的所述圓筒膜；(C)通過在交替且重復(fù)地執(zhí)行所述表面粗糙化操作和所述圓筒膜更換操作的所述步驟 (B)之后，將裝填到所述研磨裝置中的一部分所述研磨材料排出，并且裝填新研磨材料，使得所述新研磨材料相對(duì)于裝填所述新研磨材料之后所述研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)變?yōu)榇蠹s30%以上，來更換所述研磨材料；以及(D)在更換所述研磨材料的所述步驟(C)之后，再次交替且重復(fù)地執(zhí)行所述表面粗糙化操作和所述圓筒膜更換操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法，其中，在交替且重復(fù)地執(zhí)行所述表面粗糙化操作和所述圓筒膜更換操作的所述步驟 (B)中，在形成所述圓筒膜中粗糙化表面的表面積與投影面積之比相對(duì)于最初完成表面粗糙化的所述圓筒膜中的所述比的值變?yōu)樾∮诖蠹s80%的圓筒膜之前，結(jié)束所述表面粗糙化操作和所述圓筒膜更換操作二者的重復(fù)，然后執(zhí)行更換所述研磨材料的所述步驟(C)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法，其中，所述樹脂是從由聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺和聚芳酯組成的組中選擇的樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法， 其中，所述樹脂是聚酰亞胺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法， 其中，所述研磨裝置是干式噴砂裝置或濕式噴砂裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法， 其中，所述研磨裝置是濕式噴砂裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法，其中，所述研磨材料是具有大約10 μ m至大約100 μ m的體積平均粒徑的氧化鋁研磨材料或碳化硅研磨材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)狀體的制造方法，其中，所述研磨材料是具有大約10 μ m至大約100 μ m的體積平均粒徑的氧化鋁研磨材
全文摘要
本發(fā)明涉及環(huán)狀體的制造方法。該方法包括以下步驟將研磨材料裝填到研磨裝置中，該研磨裝置對(duì)包含樹脂的圓筒膜的表面進(jìn)行研磨；交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作，其中，表面粗糙化操作使研磨材料碰撞圓筒膜的表面，使表面粗糙化；該圓筒膜更換操作用還沒有完成表面的粗糙化的另一個(gè)圓筒膜更換已經(jīng)完成了表面的粗糙化的圓筒膜；通過部分地排出研磨材料，并且裝填新研磨材料，使得新研磨材料相對(duì)于裝填新研磨材料之后研磨材料的總量的百分比按重量計(jì)變?yōu)?0％或更高，來更換研磨材料；以及再次交替且重復(fù)地執(zhí)行表面粗糙化操作和圓筒膜更換操作。
文檔編號(hào)B24B37/02GK102416594SQ20111006532
公開日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2011年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月24日
發(fā)明者小倉佳剛, 齋藤雅人, 涉谷博 申請(qǐng)人:富士施樂株式會(huì)社