專利名稱：一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬于真空鍍膜技術領域，特別涉及一種用于立式多靶位真空濺射(或離子) 鍍膜機中的屏蔽擋板機構。
背景技術：
在現(xiàn)代科學技術與工業(yè)生產中，真空鍍膜技術處于非常重要的地位，特別是真空 濺射鍍膜和真空離子鍍膜，是應用極其廣泛的物理氣相沉積鍍膜方法。立式多靶位真空濺射(或離子)鍍膜機是一種用途廣泛的鍍膜設備，其結構通常 是在立式圓筒形或多邊形真空室體的圓周側壁上，分布有多個鍍膜靶(濺射靶或電弧靶)， 部分鍍膜機還在側壁上布置有各種輻射加熱器；在真空室體底板中央處布置有行星式工件 架。因其鍍膜效率高、適用范圍廣的特點，具有良好的應用發(fā)展前景。對于設有側壁加熱器和使用不同成分靶材的立式多靶位真空濺射(或離子)鍍膜 機，通常存在有需要屏蔽的問題。未設屏蔽裝置的鍍膜機，當開動加熱器對裝卡在工件架 上的被鍍工件進行輻射加熱時，以及被鍍工件處于高溫等離子體包圍之下的整個鍍膜過程 中，不工作且裸露的鍍膜靶的靶面也一直遭受到熱輻射，通常采用給不工作靶持續(xù)通冷卻 水的方式來保證其不因受熱而損壞，但造成嚴重浪費。對于使用多種不同成分靶材的鍍膜 機，當其中一種成分的鍍膜靶工作時，其余未工作而成分不同的鍍膜靶靶面，以及加熱器的 輻射面，都會受到工作靶膜材成分的污染，也將被鍍膜，從而造成加熱器輻射能力的下降和 其余靶表面成分的改變，為后續(xù)鍍膜作業(yè)帶來困難。特別是近年來復合膜、梯度膜的鍍制工 藝要求日益增多，對膜材成分的控制要求更加嚴格，屏蔽問題就顯得日益突出。實際上，正 如鍍膜真空室的所有空余內壁面都習慣上加設屏蔽板一樣，立式多靶位真空鍍膜機的加熱 器和鍍膜靶前面，在非工作狀態(tài)下，也應該加設屏蔽板，以減少其所遭受的熱輻射和成分污
染目前，立式多靶位真空鍍膜機還較少采用面向鍍膜靶的屏蔽結構，業(yè)內尚缺乏一 種結構簡單、操作便捷、功能靈活的屏蔽擋板產品或技術方法，迫切需要進一步的研究開 發(fā)。

發(fā)明內容
針對上述問題，本發(fā)明提供一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構。該 屏蔽擋板機構可以根據(jù)鍍膜機的實際需要，靈活設置擋板的數(shù)目，通常按照鍍膜機需要同 時屏蔽的最多工位數(shù)目選擇，選擇比鍍膜機中需要屏蔽的工位數(shù)目少一個，因為至少有一 個工位(鍍膜靶或加熱器)工作時，其它工位才需要屏蔽；通過控制唯一驅動輪的正反轉角 度，實現(xiàn)擋板不同組合方式的屏蔽動作。本發(fā)明所提供的屏蔽擋板機構，其結構組成包括驅動機構、座圈、架桿和擋板，多 級擋板由架桿連接支撐，架桿固定在座圈上，各級座圈間設有支撐滾珠和保持架，座圈下設 有擋塊、定位銷和限位銷，最外級座圈外環(huán)板上連接有大齒圈，與擋板驅動機構的驅動齒輪相嚙合。以最靠近中心的內圈為基礎，在內圈的外環(huán)板上安放帶有第一級滾珠保持架的第 一級下滾珠；將第一級座圈套裝在內圈外側，第一級座圈的內環(huán)板壓在第一級下滾珠之上； 在第一級座圈的內環(huán)板上面，安放帶有第一級滾珠保持架的第一級上滾珠。接下來，在第一 級座圈的外環(huán)板上安放帶有第二級滾珠保持架的第二級下滾珠；將第二級座圈套裝在第一 級座圈外側，第二級座圈的內環(huán)板壓在第二級下滾珠之上；在第二級座圈的內環(huán)板上面，安 放帶有第二級滾珠保持架的第二級上滾珠。接下來以此類推，在前一級座圈的外環(huán)板上安 放下一級的帶有滾珠保持架的下滾珠，將下一級座圈套裝在前一級座圈外側，使下一級座 圈的內環(huán)板壓在下滾珠之上，并在下一級座圈的內環(huán)板上安放該級的帶有滾珠保持架的上 滾珠，依次安裝第三級座圈、第四級座圈……，直至達到所需要的擋板數(shù)目。在各級座圈上 方加蓋一個上蓋板，將各級座圈內環(huán)板上的上滾珠壓住。在各級座圈的外環(huán)板的上表面，內 環(huán)板的上、下表面，以及上蓋板下表面與各級滾珠相對應之處，都精加工有滾珠溝道，以利 于滾珠在其內滾動。利用螺釘將內圈、連同與之套裝相連的各級座圈以及上蓋板，一同固定 在鍍膜機真空室頂板上的支撐座上，構成本擋板機構各級擋板的支撐基礎。在每一級座圈的下部，都安裝有一個擋塊、一個定位銷和一個限位銷，其中第一級 座圈不安裝擋塊，最后一級座圈不安裝定位銷和限位銷。每個擋塊均向內延伸至前一級座 圈的定位銷和限位銷之間。當本級座圈旋轉時，該級擋塊通過撥動前一級座圈上的定位銷 或限位銷，帶動前一級座圈在正反方向上隨之同步轉動。當各級擋塊均在同一方向上與上一級座圈的定位銷相接觸時，各級擋板恰好在圓 周方向上相互重合，只占據(jù)一個屏蔽工位，即處于歸零位置。各級限位銷在各級座圈上的圓周位置，決定了后一級擋塊相對于本級座圈所做自 由旋轉的角度范圍，從而決定相鄰二塊擋板旋轉時能夠相互錯開的角度位置。一般設計中， 第一級座圈上限位銷的位置與其定位銷相差一個被屏蔽工位的角度，即工作時第一級擋板 與第二級擋板可以同時屏蔽相鄰的兩個工位；第二級座圈上限位銷的位置與其定位銷相差 二個被屏蔽工位的角度，即工作時第二級擋板與第三級擋板最多可以同時屏蔽中間相隔一 個工位的兩個工位。以此類推，第三級座圈上的限位銷的位置與其定位銷相差三個被屏蔽 工位的角度，因此第三級擋板與第四級擋板之間最多可以屏蔽間隔二個被屏蔽工位的兩個 工位。當某一級座圈上的限位銷與定位銷之間的角度位置相差等于或大于180°時，以后各 級座圈上的限位銷與定位銷之間的角度均取為180°，則后面各級相鄰兩塊擋板之間均可 占據(jù)相差180°的被屏蔽工位，從而到達任意兩個被屏蔽工位處。在每一級座圈之下，固定了一只架桿；在每只架桿的前端，連接對應該級的擋板； 擋板呈弧形，其半徑等于所處圓周的半徑；各級架桿的伸出長度各不相同，恰好使各級擋板 所處的圓周半徑依次呈等間距排列，從而保證任一級擋板在旋轉時不與其它擋板發(fā)生位置 干涉。一般取第一級擋板所處的圓周半徑最小，即處于最內側，第二級擋板次之，各級依次 排列，最后一級擋板的圓周半徑最大，即處于最外側。各級架桿在座圈上的固定位置在圓周角度和高度上各不相同。在圓周角度上，各 級架桿均布置在定位銷與限位銷所夾角度之外，以避免各級座圈做相對運動時，各級架桿 與任一擋塊之間發(fā)生干涉。在高度位置上，布置在同一水平高度上的幾級架桿，其中后一級 架桿的圓周角度位置應該更靠近定位銷一側；同時，與擋塊處于相同高度的幾級架桿，其中
4最后級架桿與定位銷之間的夾角應大于這幾級座圈上定位銷與限位銷所夾角度之和，避免 這幾級座圈做相對旋轉時架桿與擋塊之間發(fā)生干涉。例如當某一級座圈上定位銷與限位銷 之間的夾角等于或大于180°時，在同一高度處只能布置兩個架桿。當在同一水平高度上不 能布置下全部剩余的架桿時，則需要在不同高度上布置其余的架桿。通常，擋板處于圓周外 側的后級架桿設置在較高的水平位置上，而擋板處于圓周內側的前級架桿，設置在較低的 水平位置上。在最外一級座圈的外環(huán)板上，固定連接有大齒圈，與擋板驅動機構的驅動齒輪相 嚙合。驅動機構由旋轉角度可精確控制的步進電機帶動，可作正反向旋轉。設定當各級座 圈通過擋塊推動下一級座圈上的定位銷共同旋轉的方向為正旋向；反之，擋塊向下一級座 圈上的限位銷接近的旋轉方向為逆旋向。本發(fā)明所提供的擋板機構，將各個擋板布置到指定屏蔽位置的操作方法如下 首先設定擋板共有N塊，由內向外依次標記為S (1)，S (2)，S (3)…，S (n)，…S (N)。
鍍膜機內要求被屏蔽的工位共有M=N+1個，沿圓周均勻分布，按照驅動機構正旋轉方向依 次標記為Τ(1)，Τ(2)，Τ(3)···，Τ(πι)，…T(M)。任意兩指定工位T (i )與T (j )之間的夾角
(當 j〉i 時)為afi=2M.j_f)iM
弧度。開始工作前，所有擋板處于歸零狀態(tài)，停放于任一屏蔽工位T (m)之處。1、當鍍膜工藝要求僅僅屏蔽一個工位T (i)時，令驅動機構正向旋轉，帶動所有擋 板一起轉動至T (i)工位，即所有擋板均處在T (i)工位前，記為S (n，n=l N)= T (i)。2、當鍍膜工藝要求同時屏蔽二個工位T (i)和T (j)時，有兩種操作方式。(1)若％^1，則驅動機構首先正向旋轉，帶動所有檔板一起轉動至T (j)工位；
然后再逆向旋轉，單獨帶動第N級檔板轉動至T (i)工位。即第N級檔板位于T (i)工位 處，而其余N-I級檔板位于T (j)工位處，記為S (n，n=l N-I)= T (j)，S (N) = T (i)。(2)若《^ 則驅動機構首先正向旋轉，帶動所有檔板一起轉動至T (i)工位；
然后再逆向旋轉，單獨帶動第N級檔板轉動至T (j)工位。即第N級檔板位于T (j)工位 處，而其余N-I級檔板位于T (i)工位處，記為S (n，n=l N-I)= T (i)，S (N) = T (j)。3、當鍍膜工藝要求同時屏蔽三個工位T (i)、T (j)和T (k)時，有三種操作方式。(1)若％<1且％ 則驅動機構首先正向旋轉，帶動所有檔板一起轉動至T
(k)工位；然后再逆向旋轉，帶動第N級檔板進而帶動第N-I級檔板轉動，直至第N-I級檔 板到達T (j)工位；最后再正向旋轉使第N級檔板到達T (i)工位。即第N級檔板位于T (i )工位處，第N-I級檔板位于T (j )工位處，而其余N-2級檔板位于T (k)工位處，記為S (n，n=l N-2)= T (k)，S (N-I)=T (j), S (N) = T ⑴。(2)若％^冗且吟 >冗，則驅動機構首先正向旋轉，帶動所有檔板一起轉動至T
(j)工位；然后再逆向旋轉，帶動第N級檔板進而帶動轉動第N-I級檔板，直至第N-I級檔 板到達T (i)工位；最后再適度正向旋轉使第N級檔板到達T (k)工位。即第N級檔板位 于T (k)工位處，第N-I級檔板位于T (i)工位處，而其余N-2級檔板位于T (j)工位處， 記為 S (n，n=l N-2) = T (j), S (N-I) =T ⑴，S (N) = T (k)。(3)若 >冗且吟^冗度，則驅動機構首先正向旋轉，帶動所有檔板一起轉動至T
5(i)工位；然后再逆向旋轉，帶動第N級檔板進而帶動轉動第N-I級檔板，直至第N-I級檔 板到達T (k)工位；最后再適度正向旋轉使第N級檔板到達T (j)工位。即第N級檔板位 于T (j)工位處，第N-I級檔板位于T (k)工位處，而其余N-2級檔板位于T (i)工位處， 記為 S (n，n=l N-2) = T ⑴，S (N-I) =T (k)，S (N) = T (j)。同理，對于要求屏蔽三個以上工位的情況，可依照屏蔽三個工位的操作方法，設計 驅動機構的操作步驟。4、要求屏蔽N個工位的情況。即所有擋板全部單獨展開，鍍膜機中只有一個工位 工作，其余全部屏蔽。設不屏蔽的工位為T (M)，這時可以令驅動機構首先正向旋轉，帶動 所有檔板一起轉動至T (N)工位；隨后逆向旋轉，依次帶動各級檔板直至第2級檔板到達 T (N-I)工位；然后再正向旋轉，依次帶動各級檔板直至第3級檔板到達T (N-2)工位；如 此反復改變驅動機構旋轉方向，由內向外依次按順序擺放各級檔板，直至將第N級檔板轉 動至T (1)工位。最后形成的排列順序為S (1)= T (N)，S (2) =T (N-I)，…S (n) =T (N+1-n)，…S (N) = T (1)。本發(fā)明所提供的擋板機構，具有如下特點1、擋板數(shù)目不受限制，可以根據(jù)實際需 要靈活確定和增減，適用范圍廣泛；2、只使用一個驅動機構，降低了制造成本，且有利于鍍 膜機頂板上的合理布置和提高鍍膜機的密封性能；3、擋板操作靈活，可實現(xiàn)對屏蔽工位的 各種可能的位置要求，滿足不同的工藝需要。本發(fā)明為真空鍍膜機提供了一種運動功能全面、結構簡單合理、操作方便快捷的 關鍵結構部件。


圖1是本發(fā)明實施例的擋板機構主視圖(A-A剖視圖)； 圖2是圖1的仰視圖(B-B剖視圖)；
圖中1真空室頂板，2支撐座，3螺釘，4內圈，5第一級上滾珠，6第一級滾珠保持架，7 第三級上滾珠，8第三級滾珠保持架，9上蓋板，10第五級座圈，11驅動機構，12驅動齒輪， 13大齒圈，14螺釘，15第五級擋塊，16第四級定位銷，17螺釘，18第四級擋塊，19第三級 定位銷，20第三級擋塊，21第二級定位銷，22第二級擋塊，23第一級定位銷，M墊圈，25第 一級下滾珠，26第二級滾珠保持架，27第二級下滾珠，28第一級架桿，29第二級架桿，30第 三級下滾珠，31第四級下滾珠，32第三級架桿，33第四級架桿，34第一級擋板，35第二級 擋板，36第三級擋板，37第四級擋板，38第五級擋板，39螺釘，40第五級架桿，41 第五級滾珠保持架，42第五級下滾珠，43第五級上滾珠，44第四級座圈，45第四級滾珠保 持架，46第四級上滾珠，47第三級座圈，48第二級座圈，49第二級上滾珠，50第一級座 圈，51真空室側壁，52內屏蔽板，53真空室門，M第一級限位銷，55第二級限位銷，56第 三級限位銷，57第四級限位銷，58螺釘，59 —號鍍膜靶，60 二號鍍膜靶，61三號鍍膜靶， 62四號鍍膜靶，63五號鍍膜靶，64六號鍍膜靶。
具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明。本實施例的構成如圖1和圖2所示一個圓筒形立式真空鍍膜機，在真空室側壁
651的圓周上，均勻分布了 6個鍍膜靶源59、60、61、62、63、64 ；本發(fā)明實施例的屏蔽擋板機構 設計采用5塊屏蔽擋板34、35、36、37、38，工作中最少屏蔽一個鍍膜靶位，最多則同時屏蔽5 個靶位。以內圈4為依托，在內圈4的外環(huán)板上安放帶有第一級下滾珠25的第一級滾珠保 持架6 ；將第一級座圈50套裝在內圈4外側，第一級座圈50的內環(huán)板壓在第一級下滾珠25 之上；在第一級座圈50的內環(huán)板上面，安放帶有第一級滾珠保持架6的第一級上滾珠5，第 一級座圈50的外環(huán)板上安放帶有第二級滾珠保持架沈的第二級下滾珠27 ；將第二級座圈 48套裝在第一級座圈50外側，第二級座圈48的內環(huán)板壓在帶有第二級滾珠保持架沈的 第二級下滾珠27之上；在第二級座圈48的內環(huán)板上面，安放帶有第二級滾珠保持架沈的 第二級上滾珠49。接下來以此類推，在前一級座圈的外環(huán)板上安放下一級的帶有滾珠保持 架的下滾珠，將下一級座圈套裝在前一級座圈外側，使下一級座圈的內環(huán)板壓在下滾珠之 上，并在下一級座圈的內環(huán)板上安放該級的帶有滾珠保持架的上滾珠，依次安裝第三級座 圈47、第四級座圈44和第五級座圈10。在各級座圈上方加蓋上蓋板9，將各級座圈內環(huán)板 上的上滾珠壓住。利用螺釘3將內圈4和上蓋板9 一同固定在鍍膜機真空室頂板1下的支 撐座2上。在第二至第五級座圈48、47、44、10的下部，分別安裝有第二至第五級擋塊22、20、
18、15；在第一至第四級座圈50、48、47、44的下部，分別安裝了第一至第四級定位銷23、21、
19、16和第一至第四級限位銷討、55、56、57。每級擋塊均向內延伸至前一級座圈的定位銷 和限位銷之間。當本級座圈正向旋轉時，該級擋塊可以通過撥動前一級座圈上的定位銷來 帶動前一級座圈隨之作同步正向轉動；反之，當本級座圈反向旋轉時，該級擋塊可以通過撥 動前一級座圈上的限位銷來帶動前一級座圈隨之作同步反向轉動。例如第三級座圈47上 的擋塊20可以撥動第二級座圈48上的定位銷21或限位銷55，帶動第二級座圈48旋轉； 而第二級座圈48上的第二級擋塊22可以撥動第一級座圈50上的定位銷23或限位銷54， 帶動第一級座圈50旋轉。如圖2所示，當各級擋塊均在旋轉正方向上與上一級座圈的定位銷相接觸時，各 級擋板恰好在圓周方向上相互重合，只占據(jù)一個屏蔽工位，即處于歸零位置。如圖2所示，第一級限位銷M與第一級定位銷23之間所夾的角度為60°，第二 級限位銷55與第二級定位銷21之間所夾的角度為120°，第三、四級限位銷56和57與第
三、四級定位銷19和16之間所夾的角度均為180°。在第一級座圈50之下，利用螺釘58固定了第一級架桿觀，在第一級架桿觀的前 端，連接有弧狀的第一級擋板34 ；同樣在第二至第五級座圈48、47、44、10之下，也分別固定 了第二至第五級架桿四、32、33、40，并在其前端分別連接了第二至第五級擋板35、36、37、 38。各級架桿的伸出長度各不相同，使各級擋板所處的位置圓周半徑依次呈等間距排列；其 中第一級擋板34所處的位置圓周半徑最小，即處于最內側；第二級擋板35次之，各級依次 排列，第五級擋板38的位置圓周半徑最大，即處于最外側。如圖1所示，第一、二、三級架桿觀、29、32的固定高度相同，處于較低高位置；而第
四、五級架桿33、40的固定高度相同，處于較高位置。如圖2所示，各級架桿都布置在對應 級的定位銷與限位銷所夾角度之外。布置在同一水平高度上的幾級架桿，后一級架桿的圓 周角度位置更靠近定位銷一側。
在第五級座圈10的外環(huán)板上，利用螺釘14固定連接了大齒圈13，與擋板驅動機構 11的驅動齒輪12相嚙合。驅動機構11由旋轉角度可精確控制的步進電機帶動，可作正反 向旋轉。本實施例規(guī)定的正反旋轉方向如圖2所示。本實施例可以按照如下操作方法實現(xiàn)不同的屏蔽方式，每種操作方法都假設所有 擋板是從如圖2所示的歸零狀態(tài)開始。1、當要求僅屏蔽鍍膜靶某一個靶位的情況。例如要求屏蔽二號鍍膜靶60時，啟動 驅動機構11帶動大齒圈13正向旋轉60°，使所有擋板均停放在二號鍍膜靶60前。2、當要求屏蔽二個靶位，且二靶位之間的夾角小于180°的情況。例如要求同時屏 蔽二號鍍膜靶60和四號鍍膜靶62時，則驅動機構首先帶動大齒圈13正向旋轉180°，使所 有檔板一起轉動至四號鍍膜靶62靶位前；然后再反向旋轉120°，單獨帶動第五級檔板38 轉回至二號鍍膜靶60靶位。即第一至四級檔板34、35、36、37位于四號鍍膜靶62前，而第 五級檔板位38位于二號鍍膜靶60前。3、當要求屏蔽二個靶位，并且二靶位之間的夾角大于180°的情況。例如要求同時 屏蔽二號鍍膜靶60和六號鍍膜靶64時，則驅動機構首先帶動大齒圈13正向旋轉60°，使 所有檔板一起轉動至二號鍍膜靶60靶位前；然后再反向旋轉120°，單獨帶動第五級檔板 38轉回至六號鍍膜靶64靶位前。即第一至四級檔板位于二號鍍膜靶60前，而第五級檔板 位38位于六號鍍膜靶64前。4、要求屏蔽三個靶位的情況。例如當鍍膜工藝要求同時屏蔽二、四、六號鍍膜靶 時，驅動機構11首先帶動大齒圈13正向旋轉300°，帶動所有檔板一起轉動至六號鍍膜靶 64前；然后再反向旋轉300°，此時第五級檔板38重新返回到一號鍍膜靶59前，而第四級 擋板37停在四號鍍膜靶62前；最后大齒圈13再正向旋轉60°，使第五級檔板38停在二 號鍍膜靶60前。5、要求屏蔽五個靶位的情況，即所有擋板全部單獨展開，鍍膜機中只留一個靶位 工作，其余全部屏蔽。例如要求不屏蔽的靶位為一號鍍膜靶59，這時可以令驅動機構11首 先帶動大齒圈13正向旋轉300°，帶動所有檔板一起轉動至六號鍍膜靶64前；隨后反向旋 轉，依次帶動第五、四、三、二級檔板38、37、36、35直至第二級檔板35到達五號鍍膜 靶63前；之后再正向旋轉420°，依次帶動第五、四、三級檔板38、37、36直至第三級檔板36 到達四號鍍膜靶62前；然后反向旋轉300°，依次帶動第五、四級檔板38、37直至第四級檔 板37到達三號鍍膜靶61前；最后再正向旋轉120°，帶動第五級檔板38到達二號鍍膜靶 60前，完成屏蔽動作。其它要求屏蔽的情況，可參照上述操作方法，設計驅動機構11的操作步驟來實 現(xiàn)。
權利要求
1.一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構，包括驅動機構、座圈、架桿和擋 板，其特征在于屏蔽擋板機構包括多級擋板，擋板由架桿連接支撐，架桿固定在座圈上，各 級座圈間設有支撐滾珠和保持架，座圈下設有擋塊、定位銷和限位銷，最外級座圈外環(huán)板上 連接有大齒圈，與擋板驅動機構的驅動齒輪相嚙合。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構，其特征 在于所述座圈為與擋板數(shù)目相同的多級座圈，各級座圈由內向外依次套裝在一起；每一級 座圈的外環(huán)板通過滾珠托起下一級座圈的內環(huán)板；每一級座圈的內環(huán)板上加壓滾珠和上蓋 板。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構，其特征在 于在各級座圈下固定有擋塊、定位銷和限位銷；每個擋塊均向內延伸至前一級座圈的定位 銷和限位銷之間。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構，其特征在 于所述架桿為多級，各級架桿排列布置在不同的高度和角度位置，每級架桿固定座圈下，架 桿前端固定有擋板。
全文摘要
一種用于立式多靶位真空鍍膜機的屏蔽擋板機構，包括多級座圈、架桿、擋板、大齒圈和驅動機構，其特征在于擋板的數(shù)目可以根據(jù)需要靈活確定，同樣數(shù)目的座圈由內向外依次套裝，相互間由滾珠支撐；每級座圈下通過架桿連接一塊擋板，各級架桿排布在不同高度與角度，以避免干涉；每級座圈下的擋塊可以撥動相鄰內側座圈下的定位銷或限位銷，將其帶動隨之做正反向旋轉；最外側座圈固定大齒圈，與驅動輪嚙合；通過準確控制唯一驅動輪的交替正反向旋轉角度，即可將各級擋板布置在指定屏蔽位置，實現(xiàn)擋板對各種可能的位置組合方式的屏蔽。本發(fā)明為真空鍍膜技術提供了一種屏蔽功能全面、結構靈活合理、操作方便快捷的關鍵部件結構。
文檔編號C23C14/34GK102080211SQ201110044400
公開日2011年6月1日 申請日期2011年2月24日 優(yōu)先權日2011年2月24日
發(fā)明者張世偉, 張文慧, 韓進 申請人:東北大學