專利名稱：旋轉(zhuǎn)磁控管的任意掃描路徑的控制的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及材料的濺射。特別地，本發(fā)明涉及在等離子體濺射靶的背部中的磁控 管的掃描路徑的控制。
背景技術(shù)：
濺射(或稱為物理汽相沉積(PVD))是在半導(dǎo)體集成電路的制造中沉積金屬及相 關(guān)材料層的最流行方法。濺射的商用最重要形式是等離子體濺射，其在濺射靶的背部中使 用一磁控管以增加等離子體密度及增加濺射率。一典型磁控管包括一磁性的磁極，其圍繞 相反極性的另一磁極。幾乎固定寬度及形成一閉合回路的縫隙分離兩磁極且設(shè)定一鄰近該 靶的濺射面的閉合等離子體軌跡。磁控管濺射最初是用來(lái)沉積幾乎平面且相對(duì)較厚層的一金屬(例如鋁)，之后蝕 刻成為一水平互連的圖案。一用于此類型濺射的典型磁控管具有相對(duì)較大的腎形，其中緊 密相鄰的磁極接近該圖案的周邊定位。磁控管自約靶的中心延伸以接近其可用的周邊，且 繞靶中心旋轉(zhuǎn)以產(chǎn)生靶的均勻?yàn)R射，且因此晶片上的濺射沉積。磁控管的大尺寸可產(chǎn)生相 當(dāng)均勻的靶侵蝕及在晶片上沉積的濺射層的均勻厚度。然而，最近磁控管濺射已延伸至沉積薄、幾乎保形層進(jìn)入在介電層中形成的高縱 橫比的孔，如用于垂直互連的通孔或用于電容式內(nèi)存的溝渠。這些濺射層的實(shí)例包括一 (例如)鉭及氮化鉭的阻擋層，以防止金屬的遷移進(jìn)入位于下方的介電質(zhì)或一銅種晶層內(nèi) 以作為后續(xù)通過(guò)電化學(xué)電鍍(ECP)填充進(jìn)入通孔內(nèi)的銅的電鍍電極及成核層。濺射進(jìn)入這 些深及窄孔部分依靠一大成分的濺射原子在鄰近靶的高密度等離子體中離子化，其可通過(guò) 將靶功率集中至該靶的一小區(qū)域的小磁控管實(shí)現(xiàn)，因而產(chǎn)生高功率密度及對(duì)應(yīng)的鄰近高密 度等離子體區(qū)。已發(fā)現(xiàn)，在接近靶周邊有效地掃描的小磁控管，可在整體晶片上產(chǎn)生幾乎均 勻的濺射沉積，因?yàn)闉R射離子當(dāng)其從靶行進(jìn)至晶片時(shí)會(huì)擴(kuò)散朝向晶片的中心。然而，有時(shí)需要用一較小磁控管在靶上濺射一較寬帶。Miller等人在美國(guó)專利第 6，852，202號(hào)中描述一種行星式磁控管(PMR)系統(tǒng)，其通過(guò)引用并入本文。在PMR系統(tǒng)中，一 內(nèi)部臂繞靶中心旋轉(zhuǎn)且一外部臂在內(nèi)部臂的一末端處繞一樞轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；及具有一磁控管， 其設(shè)置在其偏離樞轉(zhuǎn)軸的末端上。所述的PMR系統(tǒng)包括一行星齒輪機(jī)構(gòu)，其具有一固定在 靶中心處的太陽(yáng)齒輪且耦合至一在樞轉(zhuǎn)軸上旋轉(zhuǎn)的齒輪并且支撐第二臂。行星齒輪機(jī)構(gòu)產(chǎn) 生一多葉片掃描圖案，其中掃描圖案的徑向范圍及葉片數(shù)目由兩臂的長(zhǎng)度及齒輪機(jī)構(gòu)的齒 輪比建立。雖然此掃描圖案在先進(jìn)濺射應(yīng)用中已頗有效，但葉片掃描圖案可能并非最理想 之一，且需要改變掃描圖案而不改變掃描機(jī)構(gòu)的實(shí)體部分。

發(fā)明內(nèi)容
一種控制兩個(gè)馬達(dá)的系統(tǒng)及方法造成一磁控管沿一濺射靶的背部上的幾乎任意 路徑的運(yùn)動(dòng)。一系統(tǒng)控制器周期性地傳送命令至一運(yùn)動(dòng)控制器，其解譯這些命令并因此驅(qū) 動(dòng)兩個(gè)馬達(dá)。
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，每個(gè)命令包括一命令單，其可假設(shè)若干可接受值之一以 及一可能未操作值。該系統(tǒng)控制器可再傳送命令，其具有該命令單的相同值但改變?cè)撝涤?于一新命令。當(dāng)接收到一命令時(shí)，運(yùn)動(dòng)控制器不改變其對(duì)于馬達(dá)的控制，除非該命令包括一 具有與先前接收命令不同的可接受值的命令單。依據(jù)本發(fā)明的另一方面，一磁控管掃描路徑的多個(gè)掃描輪廓儲(chǔ)存在運(yùn)動(dòng)控制器 中。一命令是選擇儲(chǔ)存輪廓之一的輪廓命令。當(dāng)接收該輪廓命令時(shí)，運(yùn)動(dòng)控制器控制馬達(dá) 以執(zhí)行該選定輪廓。依據(jù)本發(fā)明的又一方面，該系統(tǒng)包括兩個(gè)傳感器，其當(dāng)掃描機(jī)構(gòu)的個(gè)別臂或其它 部件通過(guò)附近時(shí)可加以檢測(cè)。一個(gè)命令是一動(dòng)態(tài)歸航(homing)命令。當(dāng)接收該動(dòng)態(tài)歸航 命令時(shí)，運(yùn)動(dòng)控制器使得這些臂沿預(yù)選定路徑運(yùn)動(dòng)及決定傳感器是否在預(yù)期時(shí)間處檢測(cè)這 些臂。若否，控制系統(tǒng)使該掃描機(jī)構(gòu)再歸航。


圖1是一包括一用于周轉(zhuǎn)磁控管掃描機(jī)構(gòu)的馬達(dá)控制系統(tǒng)的具體實(shí)施例的濺射 腔室的截面圖。圖2是一通用磁控管掃描機(jī)構(gòu)的正投影視圖。圖3是圖2的磁控管掃描機(jī)構(gòu)的部分的截面圖。圖4是儲(chǔ)液槽頂部壁的平面圖，其上設(shè)置磁控管掃描機(jī)構(gòu)且其包括用于與其關(guān)聯(lián) 的光學(xué)傳感器的安裝孔。圖5是依據(jù)本發(fā)明的馬達(dá)控制電路的具體實(shí)施例的圖式。圖6是一用于磁控管掃描圖案的復(fù)雜輪廓的平面圖。圖7是一說(shuō)明跟隨圖6的輪廓的磁控管的角度及半徑的圖表。圖8是用來(lái)解釋一些命令的操作的掃描機(jī)構(gòu)的模型的示意性平面圖。圖9是利用與本發(fā)明一致的一個(gè)命令協(xié)議操作掃描機(jī)構(gòu)的一個(gè)方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式Miller等人(以下稱為Miller)在2007年10月25日申請(qǐng)且通過(guò)引用并入本文 (尤其針對(duì)可用的詳細(xì)機(jī)構(gòu)與掃描圖案)的美國(guó)專利申請(qǐng)第11/924，573號(hào)中描述一種兩軸 周轉(zhuǎn)磁控管掃描機(jī)構(gòu)。依據(jù)Miller，圖1中示意性示出的橫截面中的濺射腔室10包括一公 知主腔室12，其大體上對(duì)稱地圍繞一中心軸14及通過(guò)一適配器20及一隔離器22支撐一靶 組件18。靶組件18可由欲濺射的材料構(gòu)成或可包括一靶磚，其面對(duì)腔室主體12的內(nèi)部空 間且接合至一在隔離室22上橫向延伸的背板。濺射腔室10也包括一周轉(zhuǎn)掃描致動(dòng)器26，其位于靶組件18的背部并包括一內(nèi)旋 轉(zhuǎn)軸28及一管狀外旋轉(zhuǎn)軸30，其同軸且沿中心軸14圍繞配置并延伸且可圍繞其旋轉(zhuǎn)。一 第一馬達(dá)32借助一驅(qū)動(dòng)齒輪34或如纏繞兩個(gè)滑輪的一皮帶的其它機(jī)械構(gòu)件耦合至內(nèi)旋轉(zhuǎn) 軸28以旋轉(zhuǎn)該內(nèi)旋轉(zhuǎn)軸28。一第二馬達(dá)36通過(guò)另一驅(qū)動(dòng)齒輪38或機(jī)械構(gòu)件類似地耦合 至外旋轉(zhuǎn)軸30，以與內(nèi)旋轉(zhuǎn)軸28的旋轉(zhuǎn)獨(dú)立地旋轉(zhuǎn)外旋轉(zhuǎn)軸30。旋轉(zhuǎn)軸28、30耦合至一 周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40，其通過(guò)一安裝座44支撐一磁控管42并依旋轉(zhuǎn)軸28、30的旋轉(zhuǎn)決定的幾乎任 意圖案在靶組件18的背部上掃描其。Miller周轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40的主要具體實(shí)施例是行星齒輪系統(tǒng)，其與PMR機(jī)構(gòu)不同處在于一太陽(yáng)齒輪，其通過(guò)內(nèi)旋轉(zhuǎn)軸28旋轉(zhuǎn)而非固定，如通過(guò)Miller 更詳細(xì)描述，且下文將較少詳述。磁控管42典型包括一磁性軛46，其沿中心軸14支撐及磁 性耦合一磁性的內(nèi)磁極48及一相反磁性及圍繞內(nèi)磁極48的外磁極50。磁控管42及周轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)40的大部分設(shè)置在一未說(shuō)明的冷卻儲(chǔ)液槽中，其再循環(huán)冷凍地密封至靶背部或其背 板以維持靶組件18在一合理的低溫。返回到主腔室12，一真空泵60通過(guò)一泵送口 62抽吸主腔室12的內(nèi)部空間。一氣 源64通過(guò)一質(zhì)量流控制器66供應(yīng)一濺射工作氣體(例如氬)至腔室12。若需要反應(yīng)性濺 射，還供應(yīng)例如金屬氮化物，反應(yīng)性氣體，例如實(shí)例中的氮。一晶片70或其它基板支撐在配置成與靶組件18相對(duì)的電極的基座72上。一夾 環(huán)74可用以保持晶片70至基座72或保護(hù)基座周邊。然而，許多現(xiàn)代反應(yīng)器用靜電夾頭來(lái) 保持晶片70靠向基座72。一支撐在適配器20上的靜電接地遮蔽件76保護(hù)腔室壁及基座 72的側(cè)面防止濺射沉積，且還作為等離子體放電的一陽(yáng)極。工作氣體通過(guò)一在夾環(huán)74或基 座72及遮蔽件76間的縫隙78進(jìn)入主處理區(qū)域。其它遮蔽件配置可包括一電浮動(dòng)次要遮 蔽件，其在主遮蔽件76內(nèi)側(cè)且打孔通過(guò)通過(guò)次要遮蔽件保護(hù)的主遮蔽件76的部分以促進(jìn) 氣流進(jìn)入至處理區(qū)域內(nèi)。一 DC電源供應(yīng)功率80相對(duì)于接地遮蔽件76負(fù)偏壓靶組件18，且造成氬工作氣體 被激發(fā)并放電成為等離子體。磁控管42集中等離子體并在主腔室12內(nèi)側(cè)的磁控管42下 產(chǎn)生一高密度等離子體(HDP)區(qū)82。帶正電荷氬離子被吸引至靶組件18，其具有足夠能量 以從靶組件18濺射金屬。經(jīng)濺射的金屬沉積晶片70表面上并加以涂布。優(yōu)選地，為了濺 射沉積進(jìn)入深及窄孔，一 RF電源84通過(guò)一電容式耦合電路86 (其作為一高通濾波器)連 接至基座電極72，以相對(duì)于等離子體在晶片70上產(chǎn)生一負(fù)DC自偏壓。自偏壓在更易于進(jìn) 入高縱橫比孔的垂直軌跡中朝向晶片70加速正金屬離子或可能氬離子時(shí)有效。自偏壓還 將高能量賦予離子，其可經(jīng)控制以區(qū)分晶片70上的濺射沉積及晶片70的濺射蝕刻。基于 計(jì)算機(jī)的系統(tǒng)控制器88依據(jù)通過(guò)插入其中諸如CDR0M的可記錄介質(zhì)或等效通信接線輸入 到系統(tǒng)控制器88的所需濺射條件及掃描圖案來(lái)控制用于磁控管馬達(dá)32、36的真空泵60、氬 質(zhì)量流控制器66，電源80、84及驅(qū)動(dòng)電路。周轉(zhuǎn)掃描致動(dòng)器26及附接磁控管42的更實(shí)際版本并入圖2的正投影視圖中所說(shuō) 明的機(jī)構(gòu)，在其內(nèi)稱為通用磁控管運(yùn)動(dòng)(UMM)機(jī)構(gòu)100。UMM機(jī)構(gòu)100支撐于一凸緣102上， 其支撐在冷卻儲(chǔ)液槽上及密封至其一頂部壁。一支撐在儲(chǔ)液槽外側(cè)的凸緣102上的人字起 重桿104支撐一垂直致動(dòng)器106，其能垂直地移動(dòng)一可旋轉(zhuǎn)地支撐旋轉(zhuǎn)軸28、30及通過(guò)肋狀 帶108、110耦合至其的馬達(dá)32、36的滑件。圖3的橫截面?zhèn)纫晥D說(shuō)明在靶組件18背部中通過(guò)一儲(chǔ)液槽側(cè)壁116及一其上支 撐致動(dòng)器凸緣102的儲(chǔ)液槽頂部壁118所形成的冷卻儲(chǔ)液槽114。一水密齒輪箱120及其 配重122固定至儲(chǔ)液槽114內(nèi)側(cè)的外旋轉(zhuǎn)軸30的下端。一太陽(yáng)齒輪124固定在殼體120 內(nèi)側(cè)的內(nèi)旋轉(zhuǎn)軸28的下端，但還在兩組軸承間獲得。一從動(dòng)齒輪126在齒輪箱120內(nèi)的另 兩組軸承間可旋轉(zhuǎn)地支撐并通過(guò)一未說(shuō)明的惰輪耦合至太陽(yáng)齒輪124。從動(dòng)齒輪126的一 軸128穿過(guò)在齒輪箱120底部上的旋轉(zhuǎn)密封件，且固定至一磁鐵臂130使得磁鐵臂130借 助從動(dòng)齒輪126旋轉(zhuǎn)。磁控管42及其配重132固定至磁鐵臂130的相反端。齒輪箱120 充當(dāng)一內(nèi)部臂且磁鐵臂130充當(dāng)一外部臂，其結(jié)合太陽(yáng)齒輪及從動(dòng)齒輪124、126充當(dāng)行星齒輪機(jī)構(gòu)。兩分開控制旋轉(zhuǎn)軸28、30允許磁控管42依幾乎任意圖案掃描。然而，此廣泛控制需要兩馬達(dá)32、36密切地一起控制。即對(duì)于許多更復(fù)雜的掃描圖案，一個(gè)馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)必須 與另一馬達(dá)密切地同步化。若旋轉(zhuǎn)軸28、30的定時(shí)開始偏離，例如若肋狀帶108、110之一 滑動(dòng)，掃描圖案迅速變質(zhì)。具有兩旋轉(zhuǎn)軸28、30的獨(dú)立控制的另一問(wèn)題需要建立及保持其相對(duì)旋轉(zhuǎn)相位。依 循Miller的設(shè)計(jì)(如圖4的平面圖中說(shuō)明)，頂部?jī)?chǔ)液槽壁118包括一中心孔134，圍繞該 中心孔密封致動(dòng)器凸緣102，且旋轉(zhuǎn)軸28、30穿透進(jìn)入儲(chǔ)液槽114內(nèi)。頂部?jī)?chǔ)液槽壁118還 包括一第一傳感器孔136，其自中心軸14偏離用于一齒輪箱傳感器；及一第二孔138，其在 一離中心軸14的不同半徑處用于一磁鐵臂傳感器。在此設(shè)計(jì)中，傳感器孔136、138位于相 對(duì)于中心軸14以兩個(gè)不同半徑隔開15°。插入傳感器孔136、138的傳感器致能建立一歸 航功能，而后監(jiān)控兩行星臂的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)。傳感器視需要感應(yīng)圖3中所示的分別設(shè)置在配重 122及132頂部上的反射器140、142，其相對(duì)于齒輪箱120及磁鐵臂130分別地傾斜固定。一旦兩臂已返回，其旋轉(zhuǎn)的定時(shí)或相對(duì)相位需待維持。在一用于改進(jìn)同步的具體 實(shí)施例中，基于計(jì)算機(jī)的運(yùn)動(dòng)控制器150(在圖1中顯示)插入系統(tǒng)控制器88及驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn) 軸28,30的馬達(dá)32,36間。例如，DeviceNet (Dnet)通信鏈路152自系統(tǒng)控制器88傳送命 令至運(yùn)動(dòng)控制器150。Dnet通信系統(tǒng)是公知的工業(yè)計(jì)算機(jī)化控制系統(tǒng)，其演示高可靠性及 耐用性。運(yùn)動(dòng)控制器150繼而通過(guò)一通信鏈路158控制兩馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156，例如基于 公知的包括一兩線總線的Mechatrolink控制協(xié)議，其在主/從同步模式中操作，具有4Mbps 及以上的波特率用于17或32字節(jié)的字符串，及8ms及以下的循環(huán)時(shí)間。進(jìn)一步細(xì)節(jié)可在 網(wǎng)站www. mechatrolin. org查到。依據(jù)Mechatrolink協(xié)議操作的運(yùn)動(dòng)控制器可因此更快 速地操作及具有比系統(tǒng)控制器118的輪詢更多的規(guī)律性。一般而言，運(yùn)動(dòng)控制器150將不 同組運(yùn)動(dòng)控制信號(hào)傳送至兩馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156，其分別地指示兩馬達(dá)32、36的所需運(yùn) 動(dòng)。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156用在馬達(dá)32、36的旋轉(zhuǎn)間所需相位分別地驅(qū)動(dòng)兩馬達(dá)32、36。系統(tǒng)控制器88在其控制下通過(guò)傳輸目前控制設(shè)定至個(gè)別組件來(lái)順序輪詢各種組 件。輪詢周期是在一秒或有時(shí)較少的量級(jí)，其未滿足兩馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156的直接Dnet 控制。而是，運(yùn)動(dòng)控制器150接收目前Dnet控制設(shè)定、解譯及因此執(zhí)行馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、 156的快速及幾乎持續(xù)控制。一馬達(dá)控制電路160在圖5的示意圖中更詳細(xì)顯示。運(yùn)動(dòng)控制器150(其可為一 Yaskawa MP2300)借助一 24VDC供應(yīng)來(lái)供電且通過(guò)net通信鏈路152與系統(tǒng)控制器58通信。 每個(gè)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156 (其可為一個(gè)別YaskawaSGDS-08A12A)通過(guò)一 Mechatrolink通 信鏈路158與運(yùn)動(dòng)控制器150通信。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156的每一個(gè)自馬達(dá)32、36所需的 208VAC供應(yīng)且還從傳感器所需的24VDC供應(yīng)供電。用于磁鐵臂130的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154通過(guò) 一驅(qū)動(dòng)接線162驅(qū)動(dòng)相關(guān)馬達(dá)32 (其在此具體實(shí)施例中是伺服馬達(dá))，并且通過(guò)一反饋接線 164自伺服馬達(dá)32的譯碼器接收一反饋信號(hào)。用于磁鐵臂130的馬達(dá)32在軟件解釋中將稱 作M2馬達(dá)。臂馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154還通過(guò)一檢測(cè)接線168從一傳感器166接收檢測(cè)信號(hào)。傳 感器166可為一光學(xué)傳感器，例如Qmr0nE3T-SR 21,其兼發(fā)射一光束且從與磁鐵臂130關(guān)聯(lián)的 反射器142接收反射光以建立磁鐵臂130的一位置。同樣地，用于齒輪箱120的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝 置156通過(guò)一驅(qū)動(dòng)接線170驅(qū)動(dòng)相關(guān)馬達(dá)36 (也為一伺服馬達(dá))，并通過(guò)一反饋接線172自伺服馬達(dá)36的譯碼器接收一反饋信號(hào)。用于齒輪箱120的馬達(dá)36將稱作Ml。齒輪箱馬達(dá) 驅(qū)動(dòng)裝置156還通過(guò)一來(lái)自如先前描述光學(xué)傳感器的傳感器174的檢測(cè)接線176，從與齒輪 箱120關(guān)聯(lián)的反射器140接收一檢測(cè)到反射束，以建定齒輪箱120的一角位置。通過(guò)圖5的控制電路160控制掃描路徑的一模式包括一旦關(guān)聯(lián)臂已用其間的所需 相位定位時(shí)，指示馬達(dá)32、36的每一個(gè)以各自的旋轉(zhuǎn)率旋轉(zhuǎn)。例如，若臂馬達(dá)32指示靜止， 而齒輪箱馬達(dá)36依一設(shè)定旋轉(zhuǎn)率旋轉(zhuǎn)，所得掃描路徑來(lái)自先前描述具有一固定太陽(yáng)齒輪 的PMR掃描系統(tǒng)。在另一實(shí)例中，若臂及齒輪箱馬達(dá)32、36被指示在相同方向依相同速率 旋轉(zhuǎn)，磁控管沿一繞著靶中心14的環(huán)形路徑，其中半徑借助兩臂間的初始相位決定。這些簡(jiǎn)單圖案可使用中間運(yùn)動(dòng)控制器150而易于實(shí)現(xiàn)。然而，Dnet控制器58的 相對(duì)較慢循環(huán)時(shí)間產(chǎn)生更復(fù)雜掃描圖案的困難。例如，在圖6中說(shuō)明的一掃描圖案170包 括一接近靶周邊繞著靶中心14的大體上環(huán)形掃描，及自靶中心14偏移的兩個(gè)更小、稍微環(huán) 形掃描，所有皆待在數(shù)秒執(zhí)行。一類似掃描圖案在圖7的圖表中描繪，其中蹤跡182標(biāo)繪角 位置(依磁控管的中心的度)成為時(shí)間的函數(shù)，且蹤跡184依0. 1英寸(2. 54mm)的單位標(biāo) 繪其徑向位置。角蹤跡182顯示一輪廓的點(diǎn)。半徑蹤跡182 (雖然說(shuō)明為連續(xù))包括對(duì)應(yīng) 輪廓點(diǎn)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)率在60rpm的典型范圍中時(shí)，此復(fù)雜掃描圖案需要比由Dnet通信協(xié)議提供 的圖案化更密切控制。在本發(fā)明的一具體實(shí)施例中，系統(tǒng)控制器88在一較粗的時(shí)間標(biāo)度上周期性地輪 詢運(yùn)動(dòng)控制器150，而運(yùn)動(dòng)控制器150更緊密及迅速許多地控制馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156。輪 詢可包括對(duì)于運(yùn)動(dòng)控制器150及其訊問(wèn)兩者的命令以決定與其關(guān)聯(lián)的組件的狀態(tài)。用于從 系統(tǒng)控制器88傳送至運(yùn)動(dòng)控制器150的命令的命令格式的實(shí)例呈現(xiàn)在表1中。命令由各 7位的8字節(jié)組成。 表10字節(jié)的兩位表示命令單。命令單容納系統(tǒng)控制器88間的相對(duì)較不頻繁輪詢間 及馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置154、156的更快速及較緊密控制間的差異，其考慮輪詢包括最近命令，即使該命令已被執(zhí)行。命令碼可假設(shè)四值00、01、10、11任一者。00命令單是一 NOP，即欲忽 視。系統(tǒng)控制器88及運(yùn)動(dòng)控制器150兩者保持追蹤最近已被傳送的命令的序列。各輪詢周 期中的系統(tǒng)控制器88傳送一命令。若該命令與最后輪詢周期中相同，則命令單保持相同。 若命令從最后輪詢周期改變，系統(tǒng)控制器88將命令單改變成一在作用值01、10、11中的新 值。命令單值不一定需要通過(guò)三個(gè)允許值規(guī)律性地循環(huán)。即，11的先前命令單后的01或 11的命令單將會(huì)被解譯為一欲處理的新命令單。反之，當(dāng)運(yùn)動(dòng)控制器150接收具有與最后 接收命令單相同值的命令單的命令時(shí)，其基本上被忽視，因?yàn)樵撁钤惶幚怼?位命令碼指示運(yùn)動(dòng)控制器150執(zhí)行許多操作之一，其若干后續(xù)將描述。一作用ENABLE位開啟Ml及M2兩伺服驅(qū)動(dòng)裝置。當(dāng)無(wú)須驅(qū)動(dòng)接合(如當(dāng)更換零件 時(shí)或當(dāng)一硬件內(nèi)鎖指示一操作問(wèn)題時(shí))時(shí)，ENABLE應(yīng)轉(zhuǎn)成停用。一作用HARD STOP位動(dòng)作 為一 ΕΜ0，即盡可能迅速地停止操作。馬達(dá)以其最大減速度停止。HARD STOP置換ENABLE。命令含有4字節(jié)的命令數(shù)據(jù)，其格式取決于該命令。命令協(xié)議中有2字節(jié)的備用 格式等待該協(xié)議的進(jìn)一步發(fā)展。命令碼的一初始及范例性設(shè)定呈現(xiàn)在表2中。雖然命令碼由六位定義，表列的16 命令碼依十六進(jìn)制編號(hào)并且僅需要四位。
表2“0”至“9”命令碼指示欲采取的動(dòng)作，而“A”至“F”命令碼設(shè)定系數(shù)或取得信息?！?”命令碼指示NOP，即欲忽視。“ 1 ”命令碼指示HOME命令以建立用于兩馬達(dá)32、36且因此磁鐵臂及齒輪箱的角位 置，連同傳感器166、174及其相關(guān)反射器140、142的使用的初始條件。此命令可在持續(xù)生 產(chǎn)操作前發(fā)出。歸航程序的一說(shuō)明性實(shí)例在圖8的示意性平面圖中的3點(diǎn)鐘位置處說(shuō)明， 其中一內(nèi)部臂190繞靶組件18的中心軸14旋轉(zhuǎn)，且一外部臂192繞靠近內(nèi)部臂190遠(yuǎn)端 的一樞轉(zhuǎn)軸194旋轉(zhuǎn)且支撐靠近外部臂192的遠(yuǎn)端的未說(shuō)明磁控管。內(nèi)部臂190對(duì)應(yīng)于齒 輪箱120，外部臂192對(duì)應(yīng)于磁鐵板130，且樞轉(zhuǎn)軸194對(duì)應(yīng)于從動(dòng)齒輪126軸的軸心。傳 感器166、174在可旋轉(zhuǎn)臂190、192上定位。內(nèi)部傳感器174將觸發(fā)外旋轉(zhuǎn)軸30的每一旋 轉(zhuǎn)。即使臂190、192的位置不清楚，目的是將其定位在其個(gè)別傳感器174、166之下以初始 化其位置。外部傳感器166將觸發(fā)內(nèi)旋轉(zhuǎn)軸28的每一旋轉(zhuǎn)，但僅當(dāng)兩臂190、192對(duì)準(zhǔn)時(shí)。 附圖假設(shè)該歸航位置其中于其歸航位置中的臂190、192與外部臂192的最大范圍平行，且 不包括圖2至圖4的行星齒輪機(jī)構(gòu)的復(fù)雜性，即傳感器166、174未沿一單一半徑配置及關(guān) 聯(lián)這些臂190、192的這些反射器140、142可位于不同角位置處，例如在橫跨中心軸14與形 成行星齒輪系統(tǒng)的臂170、172相反的配重上。例如，此意即一旦內(nèi)部臂190已初始化，其旋 轉(zhuǎn)165°以允許外部臂192的初始化。歸航程序首先以運(yùn)動(dòng)控制器150開始，其指示齒輪箱馬達(dá)36旋轉(zhuǎn)內(nèi)部臂190直至 內(nèi)部傳感器174指示其位于下方的位置。傳感器檢測(cè)還可緩慢以致其需要程序借助內(nèi)部臂 190橫跨內(nèi)部傳感器174位置的其后向后與向前運(yùn)動(dòng)以找尋內(nèi)部歸航位置，直至建立一內(nèi) 部歸航位置。接著，當(dāng)內(nèi)部臂停在其歸航位置中時(shí)，運(yùn)動(dòng)控制器指示臂馬達(dá)32旋轉(zhuǎn)外部臂 192直至外部傳感器166指示其位于下方位置。再次，可能需要尋找外部歸航位置。結(jié)果是 兩臂190、192的所說(shuō)明歸航位置，所有后續(xù)運(yùn)動(dòng)都參考該位置?！?”命令碼指示ROTATE命令，其指示兩馬達(dá)32、36在相同方向中依相同率旋轉(zhuǎn)。 對(duì)于一行星齒輪系統(tǒng)，相等旋轉(zhuǎn)意即兩臂190、192平行旋轉(zhuǎn)，以致(如圖8的12點(diǎn)鐘位置 中所說(shuō)明)兩臂190、192保持對(duì)準(zhǔn)。若發(fā)出ROTATE命令而臂190、192異相(即未對(duì)準(zhǔn))， 后續(xù)同步旋轉(zhuǎn)維持其后旋轉(zhuǎn)期間臂190、192間的相位?！?”命令碼指示一 STOP命令，其停止馬達(dá)32、36旋轉(zhuǎn)(若其的確在運(yùn)動(dòng)中)?！?”命令碼指示一 MOVE M2命令，其造成馬達(dá)32相對(duì)于齒輪箱120的角位置移動(dòng) 外部臂130至在命令的數(shù)據(jù)域中特定的相位角。例如，若一 MOVE M2命令在這些臂已定位 在圖7的12點(diǎn)位置中以致外部臂182將會(huì)在逆行運(yùn)動(dòng)中移動(dòng)至一相對(duì)于內(nèi)部臂190的新 角位置后發(fā)出，一所得定位顯示于9點(diǎn)鐘位置，其中外部臂192現(xiàn)垂直于內(nèi)部臂190，其遠(yuǎn)程 適當(dāng)?shù)刂未趴毓茉诎薪M件18的周邊內(nèi)側(cè)。
“5”命令碼指示一 PROFILE命令，其大幅地促進(jìn)用一相對(duì)較慢的系統(tǒng)控制器88控 制復(fù)雜掃描圖案。圖6的掃描圖案170可分解成一些在相鄰輪廓點(diǎn)192間連接的區(qū)段190。 PROFILE命令基本上允許運(yùn)動(dòng)控制器150基于輪廓點(diǎn)192咨詢一局部?jī)?chǔ)存的輪廓以指示馬 達(dá)32、36造成磁控管沿所需輪廓170掃描。多輪廓可在運(yùn)動(dòng)控制器150中預(yù)加載。數(shù)據(jù)命令中的命令數(shù)據(jù)的兩字節(jié)可用來(lái)選 擇所儲(chǔ)存輪廓中哪一個(gè)欲被使用。多出的二字節(jié)命令數(shù)據(jù)可用來(lái)指示一輪廓因子，其表示 該輪廓的總執(zhí)行時(shí)間，例如以毫秒為單位。輪廓可依各種形式儲(chǔ)存在運(yùn)動(dòng)控制器150的內(nèi)存中。然而，在表3中說(shuō)明用于一 類似于圖6與圖7的掃描圖案的合宜格式包括時(shí)間的一系列(除了第一項(xiàng)目)成對(duì)值(例 如以秒列舉)及外部臂182相對(duì)于內(nèi)部臂190的相位角。其它掃描圖案也儲(chǔ)存在運(yùn)動(dòng)控制 器150中。 表 3表中的第一項(xiàng)目指示在表中依循的位置數(shù)據(jù)的數(shù)目。在表的其余部分中，第一欄指示具有1秒的總經(jīng)過(guò)時(shí)間的時(shí)間(例如以秒為單位)，其中項(xiàng)目間具有2. 5ms的固定時(shí)間差，且第二欄指示一介于外部臂及內(nèi)部臂間的相位角，例如以毫度為單位。該表可延伸用于 更長(zhǎng)掃描時(shí)間，例如典型4秒。所指圖案控制磁控管在改變至一更復(fù)雜圖案前，于靠近靶周 邊的大體上環(huán)形圖案中首先掃描，其隨著另一外部環(huán)形掃描結(jié)束。運(yùn)動(dòng)控制器150依據(jù)包括在PROFILE命令的數(shù)據(jù)域中的輪廓因子正規(guī)化所儲(chǔ)存軌 跡的1秒周期。外部臂182的旋轉(zhuǎn)由PROFILE命令參考的內(nèi)部臂190的旋轉(zhuǎn)率可由前一 ROTATE命令設(shè)定。運(yùn)動(dòng)控制器150可從輪廓表執(zhí)行計(jì)算以決定外部臂192的馬達(dá)需要以何 速率旋轉(zhuǎn)以將磁控管從輪廓表中的先前位置移動(dòng)至下一位置。由ROTATE命令設(shè)定的旋轉(zhuǎn) 率決定用于由PROFILE命令設(shè)定的掃描圖案的時(shí)間長(zhǎng)度?？捎?jì)算在選定輪廓的二個(gè)或以上 相鄰點(diǎn)間的更復(fù)雜路徑。明顯不同的多輪廓可預(yù)加載至運(yùn)動(dòng)控制器150內(nèi)以待由系統(tǒng)控制 器88選擇。用于依據(jù)一儲(chǔ)存輪廓掃描磁控管的制程在圖9的流程圖中說(shuō)明。在步驟200中， HOME命令造成兩馬達(dá)及其相關(guān)臂歸航至其歸航位置。該歸航位置無(wú)須對(duì)應(yīng)于臂的最大范 圍，只要已知其位置。在步驟202中，ROTATE命令造成兩馬達(dá)及因此其臂在行星齒輪機(jī)構(gòu)的 情況下依相同率(例如60Hz)旋轉(zhuǎn)，因此產(chǎn)生磁控管繞中心軸的環(huán)形掃描。在步驟204中， MOVE M2命令指示外部臂將磁控管移動(dòng)至促進(jìn)等離子體的點(diǎn)燃的一位置，(例如)靠近在靶 周邊處的腔室壁。一旦系統(tǒng)控制器118已造成等離子體被點(diǎn)燃及已改變靶功率至所需位準(zhǔn) 開始濺射，在步驟206中，一 MOVE M2命令指示外部臂移動(dòng)至一初始位置。在步驟208中，一 PROFILE命令依據(jù)一指定掃描路徑指示磁控管的運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)一指定長(zhǎng)度的時(shí)間。在PROFILE 步驟208完成時(shí)，系統(tǒng)控制器88造成等離子體熄滅以致濺射停止及控制返回ROTATE步驟 202。在此周期期間，依據(jù)該輪廓處理的晶片從腔室移走及用一新晶片替換。大體上，若磁 控管在輪廓的結(jié)束處返回至與在該輪廓的開始處相同的徑向位置，即在這些臂間的相同相 位如輪廓表的第二欄所特定，則濺射均勻性改進(jìn)。需求(例如)圖6或圖7的掃描圖案化由PROFILE命令觸發(fā)且不參考靶組件18上 的一設(shè)定角位置，以致開始方位角被隨機(jī)化。圖7的蹤跡182、184可在等于零的時(shí)間處參 考一初始角位置及在從在該時(shí)間發(fā)生的實(shí)際角改變。典型地，晶片的處理期間的方位角并 不重要，只要實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)钠骄?，但需求靶濺射在方位角方面平均以防止局部過(guò)度濺射，(例 如)若其對(duì)于各晶片重復(fù)，則在所說(shuō)明軌跡的區(qū)域間。“6”命令碼指示CONFIRM HOME命令，其與HOME命令稍微類似但實(shí)時(shí)執(zhí)行，即當(dāng)這 些臂以操作率旋轉(zhuǎn)以決定同步未因?yàn)閹Щ苹蚱渌蛟隈R達(dá)間失去。實(shí)時(shí)操作比歸航操 作更快，例如2或3秒相對(duì)于HOME命令的1分鐘，及還指示是否有一關(guān)于失去原始?xì)w航位 置的問(wèn)題。CONFIRM HOME命令的操作假設(shè)這些馬達(dá)及臂依據(jù)ROTATE命令同步地旋轉(zhuǎn)。M2馬 達(dá)32被指示以移動(dòng)磁鐵臂130至一其中其反射器142在相關(guān)傳感器166下通過(guò)的位置。 磁鐵臂傳感器166應(yīng)基于先前歸航操作以少數(shù)度的旋轉(zhuǎn)位置每一旋轉(zhuǎn)觸發(fā)一次。若其確如 此，在先前HOME命令中校準(zhǔn)的狀態(tài)有效。若否，一警報(bào)被標(biāo)記且需要故障檢修。磁鐵臂傳 感器166應(yīng)同樣地每一旋轉(zhuǎn)觸發(fā)一次。若否，一警報(bào)被標(biāo)記且一 HOEM命令發(fā)出以使馬達(dá)驅(qū) 動(dòng)裝置154、156再歸航。若歸航針對(duì)兩持續(xù)旋轉(zhuǎn)確認(rèn)，磁鐵臂130返回其原始位置且旋轉(zhuǎn) 持續(xù)直至有另行指示。
“7”命令碼指示SPIN M2命令，其允許磁鐵臂130以與齒輪箱120不同的速率與 甚至方向旋轉(zhuǎn)，即異步地旋轉(zhuǎn)。其數(shù)據(jù)的四字節(jié)特定用于磁鐵臂130的M2馬達(dá)32的速率。 速率數(shù)據(jù)帶正負(fù)號(hào)且負(fù)值指示相對(duì)于齒輪箱120的反轉(zhuǎn)或逆行旋轉(zhuǎn)?！?”命令碼指示STOP SPIN M2命令，其停止產(chǎn)生自SPIN M2命令的磁鐵臂130的 異步旋轉(zhuǎn)。反而是M2馬達(dá)32被指示旋轉(zhuǎn)或至少使磁鐵臂13與齒輪箱120同步，即依據(jù)任 何先前發(fā)出的ROTATE命令。兩運(yùn)動(dòng)間的相位由包括在STOP SPIN M2命令中的角度數(shù)據(jù)指 示?！?”命令碼指示MOVE Ml命令，其指示Ml馬達(dá)36旋轉(zhuǎn)或移動(dòng)齒輪箱至由MOVE Ml 命令的數(shù)據(jù)指示的位置。此為一靜態(tài)操作。另一狀態(tài)(M2馬達(dá)36)的操作無(wú)關(guān)?！癆”命令碼指示CLEAR ALARM碼，其指示運(yùn)動(dòng)控制器150清除任何先前發(fā)出的警報(bào) 標(biāo)記及返回正常操作?！癇”命令碼指示SET ROTATE ACCEL，其依據(jù)其所包括的數(shù)據(jù)設(shè)定用于兩馬達(dá)的 ROTATE加速度。此命令應(yīng)在傳送任何ROTATE命令前傳送及之后保持其有效。“C”及“D”命令碼分別指示一 SET MOVE M2 ACCEL命令及一 SETM0VE M2命令，其 設(shè)定在MOVE M2命令中應(yīng)用的加速度及速率以移動(dòng)磁鐵臂130至一在后續(xù)命令中特定的位置。同樣地，“E”命令碼指示SET SPIN M2，其設(shè)定用于指示磁鐵臂130的異步旋轉(zhuǎn)率 的SPIN M2命令的加速度?！癋”命令碼指示GET命令，其中系統(tǒng)控制器88詢問(wèn)運(yùn)動(dòng)控制器150有關(guān)在GET命 令的數(shù)據(jù)域中特定的一件數(shù)據(jù)的值。該數(shù)據(jù)可為運(yùn)動(dòng)控制器150的識(shí)別、警報(bào)狀態(tài)、或在馬 達(dá)上賦予的控制參數(shù)的目前值。即使運(yùn)動(dòng)控制器150允許復(fù)雜掃描圖案及伺服馬達(dá)的快速控制，其還允許執(zhí)行公 知掃描，其中伺服馬達(dá)被指示以依特定速率旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)相對(duì)較長(zhǎng)時(shí)間周期，其可由系統(tǒng)控制 器88單獨(dú)處置。Dnet通信鏈路152是雙向的，以致運(yùn)動(dòng)控制器150不僅接收命令而且傳送響應(yīng)至 系統(tǒng)控制器88。響應(yīng)可在已接收一命令以通知系統(tǒng)控制器88所命令動(dòng)作已完成或可能其 失敗時(shí)自動(dòng)地回復(fù)，且伴隨數(shù)據(jù)可確認(rèn)所需操作參數(shù)。CONFIRM HOME命令尤其預(yù)期一回應(yīng)。 一回應(yīng)可包括一警報(bào)錯(cuò)誤標(biāo)記。該響應(yīng)可跟隨其中所請(qǐng)求數(shù)據(jù)被回復(fù)至系統(tǒng)控制器88的 GET命令?！憫?yīng)格式類似于表1的命令格式，但可在一些響應(yīng)類型中更長(zhǎng)以容納傳送給系 統(tǒng)控制器88的二件或以上的數(shù)據(jù)。該回應(yīng)較佳包括先前所述命令單?？蓪⒈景l(fā)明應(yīng)用于要求單獨(dú)控制二個(gè)或以上馬達(dá)以使幾乎任意掃描圖案有效的 其它類型的掃描機(jī)構(gòu)，尤其是若馬達(dá)需要異步操作時(shí)。這些馬達(dá)可為除了伺服馬達(dá)以外的 類型。通信鏈路不限于所述類型，而是當(dāng)對(duì)于馬達(dá)的通信鏈路操作比對(duì)于主控制器的鏈路 明顯更快速時(shí)，本發(fā)明提供明顯的優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明因此允許磁控管依復(fù)雜圖案中被掃描而無(wú)須系統(tǒng)控制器的明顯升級(jí)或甚 至修改。本發(fā)明還提供一有效率程序，用于確認(rèn)馬達(dá)磁控管的歸航條件而無(wú)須影響系統(tǒng)的產(chǎn)量。
權(quán)利要求
一種控制機(jī)構(gòu)，其用于控制在濺射腔室中的磁控管的運(yùn)動(dòng)，該濺射腔室具有掃描機(jī)構(gòu)，其用于允許該磁控管繞著中心軸的方位角及徑向運(yùn)動(dòng)，該控制機(jī)構(gòu)包含兩個(gè)馬達(dá)，其機(jī)械地耦合至該掃描機(jī)構(gòu)；及運(yùn)動(dòng)控制器，其通過(guò)輪詢通信鏈路連接至系統(tǒng)控制器并接收命令用于該磁控管的掃描路徑，且分離地控制所述兩個(gè)馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)速率及其間的旋轉(zhuǎn)相位。
2.如權(quán)利要求1所述的控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)還包含兩個(gè)驅(qū)動(dòng)電路，其在該運(yùn)動(dòng)控制 器與這些馬達(dá)的各個(gè)馬達(dá)間連接。
3.如權(quán)利要求2所述的控制機(jī)構(gòu)，其中這些馬達(dá)是伺服馬達(dá)，且這些驅(qū)動(dòng)電路從各個(gè) 馬達(dá)接收譯碼器信號(hào)。
4.如權(quán)利要求1至3中任一所述的控制機(jī)構(gòu)，其中該運(yùn)動(dòng)控制器包括一內(nèi)存，其記錄有用于該掃描路徑的多個(gè)掃描輪廓；其中從該系統(tǒng)控制器傳送的輪廓命令選擇一掃描輪廓；及其中該運(yùn)動(dòng)控制器依據(jù)該選擇的輪廓控制該旋轉(zhuǎn)速率及該旋轉(zhuǎn)相位。
5.如權(quán)利要求4所述的控制機(jī)構(gòu)，其中該掃描輪廓包括多個(gè)成對(duì)的時(shí)間及該旋轉(zhuǎn)相位。
6.如權(quán)利要求1至3中任一所述的控制機(jī)構(gòu)，其中這些命令包括一命令單，并且其中該 運(yùn)動(dòng)控制器儲(chǔ)存成為在第一命令中接收的該命令單的第一值且僅當(dāng)其命令單的一值是除 了該第一值以外的可接受值時(shí)執(zhí)行緊接其后的命令。
7.如權(quán)利要求1至3中任一所述的控制機(jī)構(gòu)，其還包含第一臂，其可繞一中心軸旋轉(zhuǎn)；第二臂，其可繞一在偏離該中心軸的該第一臂上的樞轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，并支撐該磁控管在偏 離該樞轉(zhuǎn)軸的一點(diǎn)處；兩個(gè)傳感器，其分別地布置以檢測(cè)該兩臂的出現(xiàn)； 其中這些命令包括一動(dòng)態(tài)歸航命令；及其中該運(yùn)動(dòng)控制器響應(yīng)于該動(dòng)態(tài)歸航命令處理來(lái)自所述兩個(gè)傳感器的信號(hào)，而這些臂 在運(yùn)動(dòng)中以決定這些臂是否在預(yù)定時(shí)間于預(yù)定位置處。
8.如權(quán)利要求7所述的控制機(jī)構(gòu)，其中這些傳感器布置在離該中心軸的兩個(gè)不同半徑處。
9.如權(quán)利要求8所述的控制機(jī)構(gòu)，其中這些傳感器是光學(xué)傳感器，其每個(gè)傳感器發(fā)射 一光束且檢測(cè)光，且還包含反射器，其布置在該第一及第二臂上。
10.一種控制一兩軸掃描機(jī)構(gòu)的方法，其用于在一等離子體濺射腔室中鄰近一靶旋轉(zhuǎn) 的磁控管，該方法包含以下步驟周期性地傳送命令至一運(yùn)動(dòng)控制器；及解譯在該運(yùn)動(dòng)控制器中的這些命令以傳送驅(qū)動(dòng)信號(hào)到耦合至該掃描機(jī)構(gòu)的兩個(gè)馬達(dá)， 以執(zhí)行鄰近該靶的該磁控管的掃描路徑。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其還包含以下步驟 在該運(yùn)動(dòng)控制器中儲(chǔ)存多個(gè)掃描輪廓之一，其中這些命令之一是一輪廓命令，其選擇這些掃描輪廓之一，且該運(yùn)動(dòng)控制器傳送該 驅(qū)動(dòng)信號(hào)，其使得該掃描機(jī)構(gòu)執(zhí)行對(duì)應(yīng)于該選定的掃描輪廓的該掃描路徑。
12.如權(quán)利要求10和11中任一所述的方法，其中每個(gè)命令包括一命令單，其具有多個(gè) 操作值之一且其中該運(yùn)動(dòng)控制器僅當(dāng)其命令單具有一不同于緊鄰先前傳送命令的操作值 時(shí)才解譯該命令。
13.如權(quán)利要求10和11中任一所述的方法，其中這些命令之一是一動(dòng)態(tài)歸航命令且還 包含以下步驟當(dāng)傳送該動(dòng)態(tài)歸航命令時(shí)，該運(yùn)動(dòng)控制器詢問(wèn)感應(yīng)該掃描機(jī)構(gòu)的兩部分的位置的兩個(gè) 傳感器，以決定這些部分是否于預(yù)選定時(shí)間在預(yù)選定位置處。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中若這些部分未于該預(yù)選定時(shí)間在該預(yù)選定位置 處，則再歸航該掃描機(jī)構(gòu)。
全文摘要
一種用于控制兩個(gè)馬達(dá)(32、36)的控制系統(tǒng)及方法，其決定一磁控管(42)的方位角及圓周位置，該磁控管(42)繞著在其濺射靶(18)背部中的濺射腔室(10)的中心軸(14)旋轉(zhuǎn)，且能例如用一行星齒輪機(jī)構(gòu)具有幾乎任意掃描路徑。一系統(tǒng)控制器(88)周期性地傳送命令至密切地控制馬達(dá)的運(yùn)動(dòng)控制器(150)。各命令包括一命令單，其可為多個(gè)值之一。該運(yùn)動(dòng)控制器僅接收具有一不同于緊接著先前命令的值的命令單的命令。一個(gè)命令選擇儲(chǔ)存在運(yùn)動(dòng)控制器中的掃描輪廓，其從選定輪廓計(jì)算馬達(dá)信號(hào)。另一命令指示一動(dòng)態(tài)歸航命令，其詢問(wèn)傳感器(166、174)以決定兩旋轉(zhuǎn)臂(190、192)是在預(yù)期位置中還是需要再歸航。
文檔編號(hào)C23C14/34GK101878321SQ200880118395
公開日2010年11月3日 申請(qǐng)日期2008年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月30日
發(fā)明者吉坦德拉·R·布希姆吉亞尼, 威廉·匡, 威斯利·W·張, 張鈾, 羅納德·D·迪多爾 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料股份有限公司