專利名稱：多件式化學(xué)氣相淀積腔體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種多件式化學(xué)氣相淀積腔體，尤其是適用于在大尺寸基板上進(jìn)行化學(xué)氣相淀積的多件式化學(xué)氣相淀積腔體。
背景技術(shù)：
在平面顯示器的制程中，由于需要在基板上制作晶體管組件，因此在制程中需要鍍上不同的材質(zhì)，諸如SiNx、a-Si與n+a-Si等薄膜。目前多采用PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等離子體增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)來生長。PECVD是在一真空系統(tǒng)中，通入制程氣體后以一等離子體機臺激發(fā)等離子體、解離制程氣體活化其反應(yīng)，并且因解離后的制程氣體離子可利用電場等使其具有方向性來加速制程速度。
目前平面顯示器所使用的PECVD系統(tǒng)結(jié)構(gòu)主要為群集式(Clusters)，如圖5所示。
在圖5的群集式系統(tǒng)100架構(gòu)中包含一個裝載腔(Loading Chamber)110，基板首先由裝載口(Load Port)進(jìn)入裝載腔110，裝載口通常包括兩個或三個可抽離的部分，彼此上下疊置，且每一個部分具有多個槽孔，用于裝載基板，接著將裝載腔抽真空，由傳輸腔(Transfer Chamber)130內(nèi)的機械手臂140將基板由裝載腔傳到預(yù)熱腔(Heating Chamber)150，將基板在此腔內(nèi)預(yù)熱以減少在淀積腔中進(jìn)行加熱前對基板加熱的時間。接著基板再根據(jù)其制程需要傳入化學(xué)氣相淀積腔(Process Chamber)200中進(jìn)行一道或數(shù)道鍍膜制程。最后將基板傳回裝載腔110、去除真空后由裝載口取出完成制程。此系統(tǒng)的特點在于其具有多個制程腔，可使基板在同一道程序進(jìn)行多道不同材料鍍膜制程，為設(shè)備提供較佳的制程彈性。
一已知化學(xué)氣相淀積腔200的構(gòu)造如圖6所示，此化學(xué)氣相淀積腔200通常設(shè)置有一制程氣體供應(yīng)源210，供應(yīng)制程氣體至淀積腔200內(nèi)。一般而言，制程氣體被直接在放置基材的淀積腔內(nèi)激發(fā)成等離子體。經(jīng)過作成如蓮蓬頭般具有許多小孔的平板，其稱為擴散器(diffuser)215，且設(shè)置于一腔體蓋250中或固定至腔體蓋250底側(cè)，使制程氣體的等離子體到達(dá)基材表面與其反應(yīng)。由于擴散器215結(jié)構(gòu)較能均勻地分配制程氣體，因此對平面顯示器設(shè)備的應(yīng)用特別合適，另外，淀積腔200中設(shè)置一臺座(susceptor)220，用于放置基板230，此臺座220一般由一平臺(platen)221及一具有調(diào)整平臺上下高度的功能的臺座軸222所構(gòu)成，腔體蓋250)覆蓋該腔體200，以形成一封閉空間，淀積腔200中提供一抽氣口240，將剩余的制程氣體抽離。
一般處理小尺寸基板的淀積腔的腔體的制法是將一單一鋁塊的中間部位整個移除，以形成一單一組件淀積腔體。當(dāng)基板尺寸加大時，不但取得單一鋁塊的成本增加，移除整個中間部位以獲得單一組件淀積腔體時也會浪費大量的材料。
實用新型內(nèi)容為了解決這種制造適用于大尺寸平面顯示器淀積制程的淀積腔，制造方式存在的可能浪費大量材料的問題，本實用新型提供一種多件式淀積腔體，其由多件金屬坯制成，因而可使用較少的材料即可獲得適用的化學(xué)氣相淀積腔。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是在一用于處理基板的一種多件式淀積腔體中，具有一支撐該基板的臺座，該臺座可在該淀積腔體中沿著一臺座軸進(jìn)行垂直方向移動；一腔體蓋，用于覆蓋該腔體以形成一封閉空間；及一擴散器，設(shè)置于該腔體蓋內(nèi)并用于將制程氣體擴散至該腔體中，其特征是具有一呈矩形的底部，該底部由一金屬片材制成，其上形成一孔洞，供該臺座軸穿過設(shè)置；一具有一預(yù)定高度的側(cè)壁，結(jié)合至該底部并包圍該底部的周圍，該側(cè)壁由至少一金屬片材制成。
根據(jù)本實用新型，所述的側(cè)壁由四片金屬片材制成，其中各金屬片是結(jié)合至相鄰的金屬片以共同形成該側(cè)壁。
根據(jù)本實用新型，所述的側(cè)壁也可以由一片金屬片材制成，該金屬片材包圍該底部周圍以形成該側(cè)壁。
根據(jù)本實用新型，所述的底部與側(cè)壁間以螺栓彼此結(jié)合，且其間還設(shè)置有O形環(huán)以密封其間的界面。
根據(jù)本實用新型，所述的底部與側(cè)壁間，即該各側(cè)壁的金屬片材是與相鄰的金屬片以焊接方式結(jié)合。
根據(jù)本實用新型，在淀積腔底側(cè)、臺座軸上固定一底部支撐臺用于支撐被卸下的底部。
根據(jù)本實用新型，該底部與側(cè)壁可由鋁金屬片材制成。
本實用新型的優(yōu)點是，由于腔體由不用的金屬材料片制成，因而即使要處理的基板尺寸加大，也不需要使用高成本的金屬塊，或浪費金屬材料，即可制成所要的腔體尺寸，達(dá)到節(jié)約成本及制造方便的目的。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。


圖1是本實用新型的其中一實施例的剖視圖。
圖2是本實用新型的其中一實施例的立體分解圖。
圖3是本實用新型的另一實施例的立體分解圖。
圖4是本實用新型再一實施例的剖面圖。
圖5是一群集式PECVD系統(tǒng)的平面示意圖。
圖6是一已知淀積腔的剖面示意圖。
附圖標(biāo)記說明10.多件式淀積腔體； 12.臺座；14.臺座軸； 15.腔體蓋；16.擴散器； 20.底部；22.孔洞； 30.側(cè)壁；31.32.33.34.金屬片材；35.矩形框件； 40.螺栓；50.O形環(huán)； 60.底部支撐臺。
具體實施方式
圖1是本實用新型的一實施例的剖視圖。在圖1的多件式淀積腔體10中，其具有一用于支撐基板13的臺座12，該臺座12可在該淀積腔體10中沿著一臺座軸14進(jìn)行垂直方向移動。一腔體蓋(15)覆蓋該腔體10以形成一封閉空間。一擴散器16用于將制程氣體擴散至該腔體10中。
根據(jù)本實用新型，所述的淀積腔體10包括一大致呈矩形的底部20，該底部20是由一金屬片材制成。底部20上形成一孔洞22，供該臺座軸14穿過設(shè)置。淀積腔體10另包括一具有一預(yù)定高度的側(cè)壁30，結(jié)合至該底部20并包圍該底部20的周圍，該側(cè)壁30可一片或更多片的金屬片材制成。該等金屬片材可為鋁金屬，或其它防銹蝕的金屬片材。
如圖2所示，根據(jù)本實用新型的一種實施例，所述的側(cè)壁30是由四片金屬片材31、32、33、34制成，其中各金屬片是結(jié)合至相鄰的金屬片以共同形成該側(cè)壁30。圖3中的側(cè)壁則是由一單一金屬材鍛造成一矩形框件35，或是將一單一金屬材的相對端36結(jié)合后，以形成一矩形框件。
圖2中的底部20及側(cè)壁金屬片材31、32、33、34間，或圖3中底部20及矩形框件35間可以借助彼此焊接的方式結(jié)合后，再進(jìn)行表面處理。
圖4是本實用新型再一實施例的剖面圖。此實施例中，側(cè)壁30與底部20間是以螺栓40彼此結(jié)合，而且其間另外設(shè)置有O形環(huán)50以密封其間的界面。應(yīng)用此實施例時，由于O形環(huán)50可能因長久使用而劣質(zhì)化，因此，可在淀積腔底側(cè)，臺座軸14上固設(shè)一底部支撐臺60(參考圖1)，借助于此，當(dāng)需要更換O形環(huán)50時，可將螺栓40松開，將底部20下降，由底部支撐臺60所支撐。在更換新的O形環(huán)50后，再將底部20抬起，并以螺栓40與側(cè)壁30結(jié)合。
由上述實用新型實施例可知，本實用新型的優(yōu)點是，由于腔體由不用的金屬材料片制成，因而即使欲處理的基板尺寸加大，也不需要使用高成本的金屬塊，或浪費金屬材料，即可制成所需要的腔體尺寸，達(dá)到減少成本及制造方便的目的。
雖然已以如上所述的較佳實施例公開本實用新型，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉此技術(shù)的人，在不脫離本實用新型的構(gòu)思和范圍內(nèi)，應(yīng)當(dāng)可作各種的變動與改進(jìn)，因此本實用新型的保護范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種多件式化學(xué)氣相淀積腔體，用于處理一基板，具有一支撐所述的基板的臺座，該臺座可在該淀積腔體中沿著一臺座軸進(jìn)行垂直方向移動；一腔體蓋，用于覆蓋該腔體以形成一封閉空間；及一擴散器，設(shè)置于該腔體蓋內(nèi)并用于將制程氣體擴散至該腔體中，其特征是具有，一呈矩形的底部，該底部由一金屬片材制成，其上形成一孔洞，供該臺座軸穿過設(shè)置；一側(cè)壁，具有一高度，并結(jié)合至該底部并包圍該底部的周圍，該側(cè)壁由至少一金屬片材制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的側(cè)壁由四片金屬片材制成，其中各金屬片結(jié)合至相鄰的金屬片以共同形成該側(cè)壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的側(cè)壁由一片金屬片材制成，該金屬片材包圍所述的底部周圍并在二相對端結(jié)合以形成該側(cè)壁。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的底部與側(cè)壁間以螺栓彼此結(jié)合，且其間還設(shè)置有O形環(huán)以密封其間的界面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的底部和側(cè)壁間彼此焊接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，在所述的淀積腔底側(cè)、臺座軸上固定一底部支撐臺用于支撐被卸下的底部。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的各側(cè)壁的金屬片材間是與相鄰的金屬片彼此焊接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多件式化學(xué)氣相淀積腔體，其特征在于，所述的底部及側(cè)壁由鋁金屬片材制成。
專利摘要一種多件式化學(xué)氣相淀積腔體，用于處理一基板，具有一支撐該基板的臺座，所述的臺座可在該淀積腔體中進(jìn)行垂直方向移動；一腔體蓋，用于覆蓋該腔體以形成一封閉空間；及一擴散器，設(shè)置于所述的腔體蓋內(nèi)并用于將制程氣體擴散至該腔體中，其特征是具有，一呈矩形的底部，該底部是由一金屬片材制成，其上形成一孔洞，供該臺座的軸穿過設(shè)置；一具有一預(yù)定高度的側(cè)壁，結(jié)合至該底部并包圍該底部的周圍，該側(cè)壁由至少一金屬片材制成。
文檔編號C23C16/06GK2823274SQ20052000458
公開日2006年10月4日 申請日期2005年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月6日
發(fā)明者羅賓·蒂納, 栗田伸一 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司