專利名稱：對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的電子槍真空薄膜沉積系統(tǒng)，其真空腔體底部空間被電子槍及其供電部件、水冷部件等所占據(jù)，真空泵系統(tǒng)往往被安裝在真空腔體壁面的一側(cè)，如圖1、2所示，這樣放置的真空泵在腔體內(nèi)形成不對(duì)稱的流場(chǎng)，如圖3所示。因流場(chǎng)不對(duì)稱，導(dǎo)致腔體內(nèi)橫截面上的壓力分布不均勻從而影響薄膜沉積質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種流場(chǎng)對(duì)稱、不影響成膜質(zhì)量的對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)解決方案為一種對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，在所述真空腔體外側(cè)相對(duì)于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對(duì)于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個(gè)真空泵接口。
進(jìn)一步，在所述真空腔體側(cè)壁相對(duì)于真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
由于本發(fā)明中真空泵接口設(shè)置于真空腔體底部法蘭盤的邊緣或真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且，真空泵接口的對(duì)稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場(chǎng)的對(duì)稱分布，這種對(duì)稱流場(chǎng)使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在基片表面上沉積更加均勻。


圖1為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)的主視圖；圖2為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)的俯視圖；圖3為目前普遍的真空獲得系統(tǒng)內(nèi)的流場(chǎng)示意圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例一真空獲得系統(tǒng)主視圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例一真空獲得系統(tǒng)俯視圖；圖6為本發(fā)明實(shí)施例二真空獲得系統(tǒng)俯視圖；圖7為本發(fā)明真空腔體內(nèi)的流場(chǎng)示意圖；圖8為本發(fā)明實(shí)施例三真空獲得系統(tǒng)主視圖；圖9為本發(fā)明實(shí)施例三真空獲得系統(tǒng)俯視圖。
具體實(shí)施例方式如圖4、5所示實(shí)施例一，本發(fā)明對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)包括真空腔體1，真空腔體1底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體1’，該盤狀腔體1’連接一法蘭盤2，法蘭盤2上預(yù)設(shè)置有若干個(gè)電子槍和其它部件的接口及備用口3，在法蘭盤2邊緣相對(duì)于真空腔體1的水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口4，在實(shí)施例一中設(shè)置了四個(gè)真空泵接口。
法蘭盤2可采用圖4、5所示實(shí)施例一中的長(zhǎng)方形，或如圖6實(shí)施例二所示采用圓盤形或其他形狀。如圖6所示實(shí)施例二中，法蘭盤2為圓形，在圓形法蘭盤2上預(yù)設(shè)置有若干個(gè)電子槍和其它部件的接口及備用口3，在圓形法蘭盤2邊緣，以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個(gè)真空泵接口4。
由于真空泵接口4設(shè)置于法蘭盤的邊緣，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對(duì)稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場(chǎng)的對(duì)稱分布，如圖7所示，這種對(duì)稱流場(chǎng)可以使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
如圖8、9所示實(shí)施例三，也是一種對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)形式，包括真空腔體1，在真空腔體1的側(cè)壁5上以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個(gè)真空泵接口4，真空腔體1底部設(shè)置有若干個(gè)電子槍和其它部件的接口及備用口3。由于真空泵接口4設(shè)置于真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件在接口3的安裝和布置，而且真空泵接口的周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場(chǎng)的對(duì)稱分布，這種對(duì)稱流場(chǎng)可以使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
權(quán)利要求
1.一種對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，其特征在于在所述真空腔體外側(cè)相對(duì)于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對(duì)于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
3.如權(quán)利要求2所述的對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個(gè)真空泵接口。
4.如權(quán)利要求1所述的對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于在所述真空腔體側(cè)壁相對(duì)于真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種對(duì)稱布置的真空獲得系統(tǒng)，包括真空腔體，在所述真空腔體外側(cè)相對(duì)于所述真空腔體水平截面的幾何中心線對(duì)稱設(shè)置有若干個(gè)真空泵接口。由于本發(fā)明真空泵設(shè)置于底法蘭盤的邊緣或真空腔體側(cè)壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對(duì)稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內(nèi)流場(chǎng)的對(duì)稱分布，這種對(duì)稱流場(chǎng)使電子槍蒸發(fā)的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
文檔編號(hào)C23C14/00GK1766320SQ20051012404
公開日2006年5月3日 申請(qǐng)日期2005年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月28日
發(fā)明者劉宏立, 樊菁, 舒勇華 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院力學(xué)研究所