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金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置的制作方法

文檔序號(hào):3269471閱讀:325來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種金屬熔體凈化裝置,特別是一種金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,采用電磁場(chǎng)凈化金屬熔體的裝置,往往要往金屬液中插入電極,而高溫熔體和反應(yīng)活性高的熔體而言,將導(dǎo)致電極材料污染金屬熔體,并且往往需要電場(chǎng)和磁場(chǎng)兩套發(fā)生裝置,導(dǎo)致能耗大大增加。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,無(wú)需往金屬液中插入電極,避免電極污染金屬熔體,凈化效率較高,能耗較小,可實(shí)現(xiàn)開(kāi)路處理,處理量較大。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案一種金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,包括一個(gè)向上開(kāi)口的凈化容器,其特征在于凈化容器的開(kāi)口擴(kuò)展成液流槽,并在中間的導(dǎo)電塊分隔成進(jìn)液槽和出液槽;導(dǎo)電塊下面連接一塊垂直的分隔墻,分隔板下端與凈化容器內(nèi)底保持有效距離,則使凈化容器內(nèi)腔形成下流通道、上升通道和底部通道;下流通道和上升通道內(nèi)布滿垂直管段;凈化容器外圍設(shè)置一個(gè)行波磁場(chǎng)發(fā)生器;凈化容器下部有一個(gè)排渣口。
上述的凈化容器的橫截面為正方形或長(zhǎng)方形。
上述的管段的長(zhǎng)度與分隔墻的高度相同,而內(nèi)徑為2-5mm。
上述的凈化容器外表面有保溫材料層。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下顯而易見(jiàn)的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)在本實(shí)用新型中,金屬熔體從進(jìn)液槽流經(jīng)下流通道、底部通道和上升通道,然后從出液槽流出,由于采用了行磁場(chǎng)發(fā)生器,利用此金屬熔體自身形成的回路而感生出電流,進(jìn)而將電磁力施加在金屬熔體中,整個(gè)過(guò)程無(wú)需電極與金屬熔體直接接觸,避免對(duì)金屬熔體帶來(lái)新的污染。并通過(guò)導(dǎo)電塊,構(gòu)成導(dǎo)電回路,使金屬熔體經(jīng)過(guò)雙重電磁過(guò)濾,提高凈化能力,降低能耗。處理量較大,適用于各種金屬熔體的凈化處理。


圖1是本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖圖2是圖1中A-A處剖視圖。
圖3是圖1的俯視圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例是參見(jiàn)圖1、圖2和圖3,本金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置包含有一個(gè)向上開(kāi)口的凈化容器10,凈化容器10的開(kāi)口擴(kuò)展成液流槽,并在中間的導(dǎo)電塊4分隔成進(jìn)液槽7和出液槽1;導(dǎo)電塊4下面連接一塊垂直的分隔墻13,分隔墻13下端與凈化容器10內(nèi)底保持有效距離,則使凈化容器10內(nèi)腔形成下流通道6、上升通道3和底部通道9;下流通道6和上升通道3內(nèi)布滿垂直管段5、2;凈化容器10外圍設(shè)置一個(gè)行波磁場(chǎng)發(fā)生器12;凈化容器10下部有一個(gè)排渣口8。上述的凈化容器10的橫截面為正方形或長(zhǎng)方形。上述的管段5、2的長(zhǎng)度與分隔墻13的高度相同,而內(nèi)徑為2-5mm。上述的凈化容器10外表面有保溫材料層11。
本實(shí)用新型的工作原理如下由于采用了行波磁場(chǎng)發(fā)生器12,利用金屬熔體自身回路而感生出電流,進(jìn)而將電磁力施加在金屬熔體中,整個(gè)過(guò)程無(wú)需與金屬熔體直接接觸,因而避免對(duì)金屬熔體帶來(lái)新的污染。由于采用下降-上升6、3流道結(jié)構(gòu),并通過(guò)導(dǎo)電塊4將進(jìn)液槽7和出液槽1的金屬熔體連成導(dǎo)電回路,使金屬熔體經(jīng)過(guò)雙重電磁過(guò)濾,從而凈化能力較以往的電磁凈化裝置至少提高一倍,同時(shí),這種結(jié)構(gòu)使金屬熔體所受電磁力作用距離的延長(zhǎng),可以相應(yīng)采用更小的磁感應(yīng)強(qiáng)度,這可以大大降低能耗。此外,由于行波磁場(chǎng)發(fā)生器12在磁場(chǎng)移動(dòng)方向上的尺寸不受限制,而且金屬熔體通道可以采用密排方式,因而金屬熔體處理量也可大大增加,能滿足工業(yè)化生產(chǎn)的要求。此外,金屬熔體經(jīng)過(guò)一次電磁凈化后,聚集成團(tuán)的夾雜物群如果脫落,在流經(jīng)底部通道9時(shí),將沉淀在該通道內(nèi),通過(guò)排渣口15,可使夾雜物開(kāi)路出凈化系統(tǒng),從而避免了凈化器的過(guò)早堵塞。雙重電磁凈化的結(jié)構(gòu),能實(shí)現(xiàn)不同粒徑的夾雜物在不同的區(qū)域分離;粗大的夾雜物在流經(jīng)下流通道6被分離,而細(xì)小夾雜物有一部分在下流通道6中分離外,另外大部分在上升通道3中得以分離,這樣不但大大提高凈化裝置分離夾雜物的能力,還能大大延長(zhǎng)凈化裝置的更換周期,因而適用性更為廣泛。
權(quán)利要求1.一種金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,包括一個(gè)向上開(kāi)口的凈化容器(10),其特征在于凈化容器(10)的開(kāi)口擴(kuò)展成液流槽,并在中間的導(dǎo)電塊(4)分隔成進(jìn)液槽(7)和出液槽(1);導(dǎo)電塊(4)下面連接一塊垂直的分隔墻(13),分隔墻(13)下端與凈化容器(10)內(nèi)底保持有效距離,則使凈化容器(10)內(nèi)腔形成下流通道(6)、上升通道(3)和底部通道(9);下流通道(6)和上升通道(3)內(nèi)布滿垂直管段(5、2);凈化容器(10)外圍設(shè)置一個(gè)行波磁場(chǎng)發(fā)生器(12);凈化容器(10)下部有一個(gè)排渣口(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,其特征在于凈化容器(10)采取下流(6)和上升管道(3),其中的金屬液通過(guò)導(dǎo)電塊(4)組成多個(gè)導(dǎo)電回路。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,其特征在于管段(5、2)的長(zhǎng)度與分隔墻(13)的高度相同,而管段(5、2)的截面形狀可以為圓形、或方形、或三角形或者梯形,截面積為0.5-100mm2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置,其特征在于行波磁場(chǎng)發(fā)生器(12)不與凈化容器(10)中的金屬液直接接觸。
專利摘要本實(shí)用新型設(shè)計(jì)一種金屬熔體行波磁場(chǎng)凈化裝置。它包含有一個(gè)向上開(kāi)口的凈化容器,凈化容器的開(kāi)口擴(kuò)展成液流槽,并在中間的導(dǎo)電塊分隔成進(jìn)液槽和出液槽;導(dǎo)電塊下面連接一塊垂直的分隔墻,分隔墻下端與凈化容器內(nèi)底保持有效距離,則使凈化容器內(nèi)腔形成下流通道、上升通道和底部通道;下流通道和上升通道內(nèi)布滿垂直管段;凈化容器外圍設(shè)置一個(gè)行波磁場(chǎng)發(fā)生器;凈化容器下部有一個(gè)排渣口。本實(shí)用新型無(wú)需往金屬中插入電極,避免電極污染金屬熔體,凈化效率高,能耗較小,可實(shí)現(xiàn)開(kāi)路凈化處理,處理量較大,適用于各種金屬熔體的凈化處理。
文檔編號(hào)C21C7/00GK2760044SQ20042002367
公開(kāi)日2006年2月22日 申請(qǐng)日期2004年6月11日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月11日
發(fā)明者鐘云波, 任忠鳴 申請(qǐng)人:上海大學(xué)
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