專利名稱：干式等離子切割系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種切割系統(tǒng)，特別是一種干式等離子切割系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在切割裝置中，現(xiàn)有的干式等離子切割系統(tǒng)設(shè)有胎架，在胎架的上方設(shè) 有等離子割據(jù)，在切割后，產(chǎn)生的粉塵采用大型吸塵器吸取，但這種用吸塵 器吸取的方式，不僅吸塵效果不理想，且用過一段時(shí)間后，對切割粉塵的吸 除效果更不理想，使用吸塵器不僅用電功率大費(fèi)電，從而提高費(fèi)用，且噪聲 較大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服以上的不足，提供一種降低噪聲，節(jié)約能源， 降低生產(chǎn)成本，除塵效果好的干式等離子切割系統(tǒng)。
本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn) 一種干式等離子切割系統(tǒng)，包 括胎架，胎架置于設(shè)有的水箱內(nèi)部，在胎架的上方設(shè)有等離子割據(jù)，且水箱 高出胎架上平面50 100mm。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)胎架置于設(shè)有的水箱內(nèi)部，在切 割前只需要向水箱內(nèi)注入水，這樣切割的煙塵割渣都會(huì)被水吸收，使得鐵板 表面幾乎無煙塵，不僅降低了噪音，且節(jié)約能源，降低了生產(chǎn)成本。


圖l為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖中標(biāo)號(hào)l-胎架、2-水箱、3-割據(jù)。
具體實(shí)施例方式
為了加深對本發(fā)明的理解，下面將結(jié)合實(shí)施例和附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步 詳述，該實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明保護(hù)范圍的限定。
如圖1示出了本發(fā)明干式等離子切割系統(tǒng)的一種具體實(shí)施方式
，包括胎 架1，胎架1置于設(shè)有的水箱2內(nèi)部，在胎架1的上方設(shè)有等離子割據(jù)3， 水箱2高出胎架l上平面50 100mm,水箱可由水泥澆注制成，在切割前只 需要向水箱內(nèi)注入水，且水的上平面離胎架1的上平面lOmm左右，即水的 上平面距鐵板的下表面lOmm,切割時(shí)只需要將鐵板放在胎架1上，鐵板的厚 度，就是胎架1上平面與等離子割據(jù)3之間的距離，等離子割據(jù)3置于水箱 2內(nèi)，在鐵板的上方，這樣切割的煙塵割渣都會(huì)被水吸收，使得鐵板表面幾 乎無煙塵，不僅降低了噪音，且節(jié)約能源，降低了生產(chǎn)成本。
權(quán)利要求
1、一種干式等離子切割系統(tǒng)，包括胎架(1)，其特征在于所述胎架(1)置于設(shè)有的水箱(2)內(nèi)部，所述胎架(1)的上方設(shè)有等離子割據(jù)(3)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述干式等離子切割系統(tǒng)，其特征在于所述水箱(2) 高出胎架(1)上平面50 100mm。
全文摘要
本發(fā)明涉及干式等離子切割系統(tǒng)，包括胎架，胎架置于設(shè)有的水箱內(nèi)部，在胎架上的上方設(shè)有等離子割據(jù)，且水箱高出胎架上平面50～100mm。本發(fā)明具有降低噪聲，節(jié)約能源，降低生產(chǎn)成本，除塵效果好的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)B23K10/00GK101623791SQ20091018385
公開日2010年1月13日 申請日期2009年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月3日
發(fā)明者劉立新 申請人:南通明德重工有限公司