專利名稱：膜形成方法及制造電子源基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到一種適合于形成構(gòu)成電子發(fā)射器件等的組成部分的導(dǎo)電膜的膜形成方法、制作這種導(dǎo)電膜的方法、以及采用這種導(dǎo)電膜的制造電子源基板的方法。
背景技術(shù)：
作為一種簡(jiǎn)單而價(jià)廉的制造表面?zhèn)鲗?dǎo)電子發(fā)射器件的方法，本申請(qǐng)人已經(jīng)提出一種通過噴墨設(shè)備將包含金屬的溶液在液滴狀態(tài)下施加到基板，從而形成一對(duì)元件電極以及位于其間的導(dǎo)電膜的方法(見下列文件1)。本申請(qǐng)人也已經(jīng)提出，應(yīng)用上述方法在同一個(gè)基板上包括按矩陣狀設(shè)置的多個(gè)電子發(fā)射器件的電子源基板的制造方法(見下列文件2)。
圖10示出通過噴墨設(shè)備制造電子發(fā)射器件的制造工藝的例子，其中示出了基板1、器件電極2和3、導(dǎo)電膜4、電子發(fā)射部分8、噴墨噴嘴12、以及液滴13。首先，器件電極2和3被形成在基板1上(圖10A)。然后，包含金屬的溶液從噴墨設(shè)備的噴嘴12作為液滴13被施加在器件電極2與3之間(圖10B)。然后，包含金屬的溶液膜被焙燒以形成導(dǎo)電膜4(圖10C)，使其經(jīng)受通電處理以形成電子發(fā)射部分8。而且，提出一種技術(shù)，即在用于圖像顯示裝置中的濾色器的制造中，對(duì)應(yīng)于相鄰濾色器之間的間隔，在從噴嘴施加濾色器材料的過程中傾斜具有多個(gè)噴嘴的噴墨頭(見下列文件3)。
文件1日本專利申請(qǐng)?zhí)卦S公開No.H08-171850文件2日本專利申請(qǐng)?zhí)卦S公開No.2000-251665(對(duì)應(yīng)于EP936652A)文件3日本專利申請(qǐng)?zhí)卦S公開No.2002-273868(對(duì)應(yīng)于EP1225472A)在專利文件2所述的方法中，液滴的施加位置由噴墨頭相對(duì)于基板的相對(duì)位移來調(diào)整，從而避免生產(chǎn)成品率的損失。然而，當(dāng)為了縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間(tact time)而利用由多個(gè)噴嘴的直線排列構(gòu)成的噴墨頭來同時(shí)在多個(gè)位置施加液滴時(shí)，在基板的形狀偏離設(shè)計(jì)值而畸變的情況下，這種方法無法避免生產(chǎn)成品率的損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于在采用具有多個(gè)噴嘴的噴墨頭在多個(gè)位置局部形成膜的情況下，提供一種有效地修正例如由基板畸變等引起的液滴施加位置的誤差，從而精確而有效地形成膜的方法。本發(fā)明還提供了一種采用該方法的電子源基板制造方法。
在其第一方面，本發(fā)明提供一種通過具有多個(gè)噴嘴的直線排列的噴墨頭，通過向基板的多個(gè)位置局部提供包含膜材料的液滴，而在該基板的多個(gè)位置形成膜的方法，該方法包括下列步驟檢測(cè)基板上多個(gè)位置的位置信息；根據(jù)檢測(cè)步驟中檢測(cè)到的位置信息，計(jì)算用來施加液滴的多個(gè)位置信息；以及根據(jù)多個(gè)液滴施加位置，繞基板的法線旋轉(zhuǎn)噴墨頭，并將液滴施加到基板上。
在第二方面，本發(fā)明提供一種制造電子源基板的方法，通過提供具有多個(gè)電子發(fā)射器件的基板，各個(gè)電子發(fā)射器件具有一對(duì)器件電極和具有電子發(fā)射區(qū)且在器件電極之間延伸的導(dǎo)電膜，并且通過將電子發(fā)射器件按矩陣狀布線連接，形成電子源基板，其中，通過第一方面的膜形成方法來形成導(dǎo)電膜。
在第三方面，本發(fā)明提供一種制造電子源基板的方法，它包括下列步驟制備基板，該基板具有排列成矩陣圖形的多個(gè)器件電極以及連接多個(gè)器件電極中的一部分器件電極的多個(gè)直線布線，并檢測(cè)基板上多個(gè)器件電極中的至少一部分器件電極的位置信息；以及按照與基板相對(duì)的關(guān)系，定位具有多個(gè)噴嘴的直線排列的噴墨頭，并從多個(gè)噴嘴施加液滴，使之與器件電極相接觸；其中，液滴施加步驟包括第一液滴施加步驟和第二液滴施加步驟，第一液滴施加步驟根據(jù)檢測(cè)到的位置信息在布線的縱向與噴嘴直線排列的方向限定第一角度的狀態(tài)下施加液滴，第二液滴施加步驟在布線的縱向與噴嘴直線排列的方向限定不同于第一角度的第二角度的狀態(tài)下施加液滴。


圖1是示意平面圖，示出本發(fā)明中噴墨頭與電子源基板上的導(dǎo)電膜之間的位置關(guān)系；圖2是示意平面圖，示出本發(fā)明中電子源基板畸變與噴墨頭的傾斜之間的關(guān)系；圖3是示意平面圖，示出優(yōu)選用于本發(fā)明的利用液滴施加位置的修正機(jī)構(gòu)的噴墨頭設(shè)備的結(jié)構(gòu)；圖4是示意平面圖，示出本發(fā)明的電子源基板的制造步驟；圖5是示意平面圖，示出本發(fā)明的電子源基板的制造步驟；圖6是示意平面圖，示出本發(fā)明的電子源基板的制造步驟；圖7是示意平面圖，示出本發(fā)明的電子源基板的制造步驟；圖8是示意平面圖，示出本發(fā)明的電子源基板的制造步驟；圖9是示意平面圖，示出本發(fā)明中制備的電子源基板的一個(gè)例子；圖10A、10B、10C、10D是示意剖面圖，示出在本發(fā)明中利用噴墨設(shè)備來生產(chǎn)電子發(fā)射器件的步驟；圖11A和11B是示意圖，示出構(gòu)成本發(fā)明電子源基板的電子發(fā)射器件的結(jié)構(gòu)；而圖12是透視圖，示出采用本發(fā)明電子源基板構(gòu)成的顯示板。
具體實(shí)施例方式
下面，將在形成構(gòu)成電子源基板的電子發(fā)射器件中的導(dǎo)電膜的情況下解釋本發(fā)明。
圖11A和11B分別是平面圖和沿圖11A中線A-A的剖面圖，示意地示出在構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明制造的電子源基板的結(jié)構(gòu)中的表面?zhèn)鲗?dǎo)電子發(fā)射器件的基本結(jié)構(gòu)。在圖11A和11B中，示出基板1、器件電極2和3、導(dǎo)電膜4、以及電子發(fā)射區(qū)8。圖12示出采用這種電子發(fā)射器件構(gòu)成的顯示板，其中所示的是本發(fā)明的電子源基板1、下布線5、上布線7、面板60、熒光膜61、金屬背板(陽極電極)62、外側(cè)壁63、圖1所示的電子發(fā)射器件64、隔板65、以及隔板固定件66。下布線5和上布線7跨越絕緣層相互交叉，為簡(jiǎn)明起見而未示出該絕緣層。
參照?qǐng)D12，電子源基板1、面板60、以及外側(cè)壁63構(gòu)成一個(gè)真空外殼，用來使顯示板內(nèi)部維持于真空狀態(tài)。由于真空外殼內(nèi)部被保持在大約10-4Pa的真空下，故提供隔板65作為抗大氣壓部件，以便防止外殼被大氣壓或偶然的沖擊損壞，并且隔板65由在圖像顯示區(qū)外面提供的固定件66固定。
電子源基板1具有n×m個(gè)(n和m是等于或大于2的正整數(shù)，并可根據(jù)所希望的像素?cái)?shù)目恰當(dāng)?shù)剡x擇)電子發(fā)射器件64。利用m個(gè)上布線7和n個(gè)下布線5，這些器件被排列成簡(jiǎn)單的矩陣。上布線7與下布線5之間的各個(gè)交點(diǎn)由未示出的絕緣層絕緣。
熒光膜61被分成例如在陰極射線管(CRT)領(lǐng)域中采用的三原色即紅色、綠色、藍(lán)色的熒光體。例如按條形或點(diǎn)形施加各個(gè)顏色的熒光體。在不同顏色的熒光體之間，提供黑色導(dǎo)電部件(黑條形或黑色矩陣)。
在熒光膜61的內(nèi)表面(與電子源基板1相對(duì))上，也提供在CRT領(lǐng)域已知的金屬背板62作為陽極電極。
下面參照?qǐng)D4-9來解釋圖11A和11B所示電子源基板的制造方法。
首先，各自由器件電極2和3組成的多個(gè)電極對(duì)被形成在絕緣基板1上(圖4)。然后形成下布線5，以便共連接排列在同一列中的器件電極3(圖5)，并形成層間絕緣層6(圖6)。在層間絕緣層6中，形成接觸孔，以便在待形成在其上的上布線7和器件電極2之間電連接。然后形成上布線7，以便共連接排列在同一行中的器件電極2(圖7)。然后，通過本發(fā)明的膜形成方法施加包含導(dǎo)電膜4材料的溶液，以便連接各個(gè)電極對(duì)中的器件電極2和3，并進(jìn)行燒結(jié)以形成導(dǎo)電膜4(圖8)。所得到的導(dǎo)電膜4經(jīng)受通電處理，以形成電子發(fā)射區(qū)8(圖9)。
圖1示意地示出本發(fā)明的噴墨頭與由這種噴墨頭形成的電子源基板上的導(dǎo)電膜4之間的位置關(guān)系，其中所示的是噴墨頭11和噴嘴12，并且，其中與圖4-10相同的各部件用相同的參考號(hào)表示。為簡(jiǎn)化起見，這些圖示出具有6行6列電子發(fā)射器件的電子源以及具有6個(gè)噴嘴12的噴墨頭的例子。但電子發(fā)射器件的數(shù)目通常大于噴墨頭11中的噴嘴數(shù)目。因此，通過噴墨頭11平行于上布線7的掃描運(yùn)動(dòng)施加液滴的步驟被執(zhí)行多次，并且，在每一步驟中，使噴墨頭11沿平行于下布線5的方向有一個(gè)位移。
如圖1所示，噴墨頭11的噴嘴12的間距L可能與電子源基板上的導(dǎo)電膜4的間距d不匹配。因此，通過使噴墨頭11相對(duì)于器件陣列傾斜下列角度而匹配間距θ＝sin-1(d/L)更具體地說，噴墨頭被傾斜成使噴嘴的排列方向相對(duì)于器件陣列或上布線7的縱向形成角度θ。然而，在基板1如圖2所示發(fā)生畸變的情況下，導(dǎo)電膜4的間距亦即液滴施加位置的間距，取決于基板1內(nèi)的位置A-C而變得不同。因此，在本發(fā)明中，噴墨頭11在基板內(nèi)的各個(gè)位置繞基板1的法線旋轉(zhuǎn)以調(diào)整相對(duì)于器件陣列的傾斜，從而在噴嘴12的間距與導(dǎo)電膜4的間距一致的狀態(tài)下施加液滴。更具體地說，噴墨頭11被構(gòu)造成其角度可任意變化。而且，預(yù)先測(cè)量各個(gè)位置的基板畸變。然后，對(duì)應(yīng)于從這些測(cè)量值計(jì)算的各個(gè)位置中計(jì)算的間距dn，將噴墨頭11旋轉(zhuǎn)成使噴墨頭11采取下列傾斜角θ＝sin-1(dn/L)(n＝1，2，3，...)
這種旋轉(zhuǎn)操作與噴墨頭11平行于上布線7的掃描運(yùn)動(dòng)同時(shí)執(zhí)行?？梢杂苫?代替噴墨頭11來執(zhí)行掃描運(yùn)動(dòng)。這種旋轉(zhuǎn)操作無須被限制為連續(xù)地改變角度的操作。例如，可以在多個(gè)區(qū)域的各個(gè)區(qū)域中不連續(xù)地傾斜噴墨頭。換言之，本發(fā)明的特征在于，取決于各個(gè)區(qū)域中的器件間距，噴墨頭在基板第一區(qū)中的液滴施加處的傾斜角不同于噴墨頭在基板第二區(qū)中的液滴施加處的傾斜角。
應(yīng)當(dāng)理解，上述旋轉(zhuǎn)操作包括本發(fā)明精神與范圍內(nèi)的繞樞軸的操作。
圖3是示意圖，示出優(yōu)選用于本發(fā)明的利用液滴施加位置修正機(jī)構(gòu)的噴墨頭設(shè)備的構(gòu)造。在圖3中，示出配備有X-Y掃描機(jī)構(gòu)(未示出)的平臺(tái)31、作為例如由激光測(cè)量來檢測(cè)平臺(tái)位置的位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的平臺(tái)掃描控制器32和33、圖像處理設(shè)備34、CCD相機(jī)35、用來控制噴墨頭對(duì)準(zhǔn)微調(diào)機(jī)構(gòu)的位置修正控制機(jī)構(gòu)37、噴墨控制/驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38、以及控制計(jì)算機(jī)39。
在圖3所示的結(jié)構(gòu)中，平臺(tái)31配備有其上放置電子源基板1(為簡(jiǎn)明起見，除了器件電極2和3之外，省略了其上的結(jié)構(gòu))、用來沿X和Y方向位移電子源基板1的X-Y掃描機(jī)構(gòu)(未示出)。在電子源基板1上方能夠觀察基板的位置處，提供CCD相機(jī)35和噴墨頭11。在所示的結(jié)構(gòu)中，噴墨頭11被固定到該設(shè)備，而電子源基板1被平臺(tái)31移動(dòng)到任意位置，從而實(shí)現(xiàn)噴墨頭11與電子源基板1之間的相對(duì)位移。預(yù)先測(cè)量噴墨頭11的位置與液滴對(duì)基板1的施加位置之間的關(guān)系?？梢酝ㄟ^各種方法，例如通過采用CCD相機(jī)35獲取器件電極2和3的圖像，然后對(duì)圖像對(duì)比度進(jìn)行二值化(binarized)，并計(jì)算在二值化的特定對(duì)比度的區(qū)域中的重心位置，檢測(cè)最佳位置。在該操作中，為了改善二值化圖像的精度，可以在二值化中引入圖像的放大、縮小、或嵌入。圖像處理設(shè)備34可以是任何一種能夠執(zhí)行所需圖像處理的設(shè)備，例如可以有利地采用First公司制造的通用圖像處理設(shè)備CS-902。
然后，將通過圖像處理設(shè)備34得到的圖像信息(重心的位置)與用于確定平臺(tái)31的位置的位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)(平臺(tái)掃描控制器32和33)所得到的位置信息進(jìn)行比較。因而，在設(shè)備上確定放置在平臺(tái)31上的電子源基板1上的各個(gè)器件的重心位置信息。該信息被提供給控制計(jì)算機(jī)39。
用來將液滴施加到電子源基板1上的噴墨頭11跨越噴墨頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(未示出)被連接到該設(shè)備，并能夠由位置修正控制機(jī)構(gòu)37來精確地位移噴墨頭的位置。噴墨頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)由壓電元件以及用來將壓電元件的位移轉(zhuǎn)換成旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的機(jī)構(gòu)構(gòu)成，并能夠沿垂直于噴墨頭11的方向精確地旋轉(zhuǎn)。
噴墨頭11還被噴墨頭控制/驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38驅(qū)動(dòng)和控制，使之能夠在任意時(shí)刻從各個(gè)噴嘴噴出液滴。由控制計(jì)算機(jī)39控制噴墨頭控制/驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38。
用于噴墨頭11的噴出頭單元可以是任何一種能夠形成任意液滴的設(shè)備。然而，優(yōu)選是能夠控制在大約十到幾十毫微克范圍內(nèi)并能夠容易地形成幾十毫微克或更小的非常小體積的液滴的噴墨方法的設(shè)備。兩種代表性的噴墨方法是利用熱能在溶液中產(chǎn)生氣泡并基于這種氣泡產(chǎn)生而噴出溶液的方法(氣泡噴射(Bubble Jet)(注冊(cè)商標(biāo))方法)；以及利用動(dòng)能噴出溶液的方法(壓電噴射方法)。
對(duì)于用來形成電子發(fā)射器件的導(dǎo)電膜4的從噴墨頭11噴出的液滴的材料，沒有特殊的限制，只要能夠形成液滴即可，可以是其中上述金屬被分散或溶解在水或溶劑中的溶液，或金屬有機(jī)化合物的溶液。在用來形成導(dǎo)電膜的元素或化合物基于鈀的情況下，可以采用包含乙醇胺絡(luò)合物的水溶液。這種乙醇胺絡(luò)合物例如可以是乙酸鈀乙醇胺絡(luò)合物(PA-ME)、乙酸鈀二乙醇胺絡(luò)合物(PA-DE)、或乙酸鈀三乙醇胺絡(luò)合物(PA-TE)。也可以采用乙酸鈀丁基乙醇胺絡(luò)合物(PA-BE)或乙酸鈀二甲基乙醇胺絡(luò)合物(PA-DME)。通過噴墨頭11將這種溶液的液滴施加在器件電極2和3上所希望的位置處。
(實(shí)施例)(實(shí)施例1)
根據(jù)圖4-9所示的步驟，制備電子源基板。
采用通過在厚度為2.8mm的玻璃PD-200(Asahi Glass公司制造)上涂敷和燒結(jié)厚度為100nm的二氧化硅膜作為鈉阻擋層而制備的基板1。采用有機(jī)溶劑充分地清洗基板1，并在120℃下烘干。
然后，通過濺射方法，將厚度為5nm的鈦膜形成在基板1上作為下涂層，并在其上形成厚度為40nm的鉑膜。然后通過包括光抗蝕劑的涂敷、曝光和顯影隨之以腐蝕的光刻工藝，對(duì)這些膜進(jìn)行構(gòu)圖而制備器件電極2和3(圖4)。然后將銀漿料絲網(wǎng)印刷在基板上以形成下布線5(圖5)。器件電極2和3被制備成具有20微米的間隙、50微米的電極寬度、50nm的厚度、以及1mm的間距，而下布線5被形成為具有300微米的寬度和5微米的厚度。
然后，為了上布線與下布線之間的絕緣，通過絲網(wǎng)印刷方法形成主要由二氧化硅構(gòu)成的層間絕緣層6(圖6)。
然后，通過絲網(wǎng)印刷方法形成主要由銀組成的上布線7(圖7)。
用來形成布線5和7以及層間絕緣層6的絲網(wǎng)印刷方法使得能夠降低成本，但由于對(duì)印刷的漿料的燒結(jié)步驟(400-500℃)，故基板1呈現(xiàn)出偏離設(shè)計(jì)值的畸變。
然后，通過噴墨設(shè)備以60立方微米的液滴施加包含有機(jī)鈀化合物的溶液，以便其在器件電極2和3之間延伸。通過將鈀-脯氨酸絡(luò)合物溶解在由水和異丙醇(IPA)形成的溶劑中，并加入一些添加劑，制備該有機(jī)鈀化合物的溶液。對(duì)于液滴施加，預(yù)先通過測(cè)量設(shè)備對(duì)基板1的畸變量進(jìn)行測(cè)量，從而確定器件的平均間距dn。通過經(jīng)常將傾斜角θn控制為滿足下列關(guān)系，而將液滴施加在所希望的位置θn＝sin-1(dn/L)，n＝1，2，3，...。
更具體地說，在平臺(tái)31相對(duì)于噴墨頭11位移(掃描運(yùn)動(dòng))期間，噴墨頭11的傾斜角θ經(jīng)常改變。
然后，在300℃下執(zhí)行10分鐘的加熱處理，以便形成由氧化鈀(PdO)細(xì)小顆粒組成的導(dǎo)電膜4(圖8)，并通過在器件電極2和3之間施加電壓而使導(dǎo)電膜4經(jīng)受通電處理，從而形成電子發(fā)射區(qū)8(圖9)。
這樣得到的電子源基板被用于制備圖12所示的顯示板，并制備能夠進(jìn)行NTSC制式電視顯示的成像設(shè)備，從而實(shí)現(xiàn)高圖像質(zhì)量的圖像顯示。
(實(shí)施例2)直至上布線7的制備，執(zhí)行與實(shí)施例1相同的步驟。制備包含0.2％的乙酸鈀-乙醇胺絡(luò)合物、15％的異丙醇、1％的乙二醇、以及0.05％的聚乙烯醇的水溶液，并通過圖3所示的設(shè)備，將這種水溶液的液滴施加到基板上。
在本實(shí)施例中，以下列方式進(jìn)行上述水溶液的液滴施加步驟[1]通過CCD相機(jī)35獲取基板1上各個(gè)器件區(qū)的圖像，圖像處理設(shè)備34執(zhí)行從這樣獲取的圖像中提取器件電極2和3的圖像的處理。在本實(shí)施例中，通過對(duì)獲取的圖像進(jìn)行二值化，進(jìn)行圖像提??；[2]通過控制計(jì)算機(jī)39，根據(jù)該圖像處理所得到的液滴施加圖形(成對(duì)器件電極2和3的圖形)的重心位置以及由位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)得到的平臺(tái)31的位置信息，計(jì)算液滴的施加位置(測(cè)量值)。并且，通過比較該測(cè)量值與設(shè)計(jì)值，控制計(jì)算機(jī)39制作一個(gè)修正表，并計(jì)算取決于基板1中位置的器件平均間距dn。
在本實(shí)施例中，通過按照對(duì)應(yīng)于與在噴墨頭11中包含的噴嘴數(shù)目相同的器件數(shù)目的間隔獲取圖像，并通過對(duì)該器件范圍執(zhí)行平均間距dn的計(jì)算，計(jì)算器件的平均間距dn。在例如由加熱處理引起基板1的畸變(相對(duì)于設(shè)計(jì)值的誤差)小的情況下，通過取較大的間隔，能夠進(jìn)一步縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
在通過使具有X-Y掃描機(jī)構(gòu)的平臺(tái)31與噴墨控制/驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38同步而執(zhí)行的掃描操作中，施加液滴。在該操作中，從修正表得到的與位置有關(guān)的平均間距dn被提供給位置修正控制機(jī)構(gòu)37，以便驅(qū)動(dòng)噴墨頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，從而控制液滴的施加位置，并將液滴施加到各個(gè)器件上的最佳位置處。
在每個(gè)器件上液滴被施加4次，然后在350℃下被加熱10分鐘，以便得到厚度為10nm的由細(xì)小氧化鈀顆粒組成的導(dǎo)電膜4。然后使導(dǎo)電膜4經(jīng)受通電處理，以便獲得電子發(fā)射區(qū)8。
這樣得到的電子源基板被用來制備圖12所示的顯示板，并制備能夠進(jìn)行NTSC制式電視顯示的成像設(shè)備，從而實(shí)現(xiàn)高圖像質(zhì)量的圖像顯示。
在本發(fā)明中，檢測(cè)在基板上的液滴施加位置且據(jù)此而旋轉(zhuǎn)噴墨頭，以噴嘴間距與液滴施加位置的間距匹配的方式施加液滴，本發(fā)明使得能夠減小液滴施加位置的誤差，并提高膜形成過程中的生產(chǎn)成品率。因此，本發(fā)明能夠有效而精確地形成電子發(fā)射器件的導(dǎo)電膜，從而更價(jià)廉地制造電子源基板。
權(quán)利要求
1.一種通過從具有沿直線排列的多個(gè)噴嘴的噴墨頭將液滴施加到基板上的多個(gè)位置而在基板上的多個(gè)位置形成膜的膜形成方法，該方法包含下列步驟檢測(cè)基板上多個(gè)位置的位置信息；根據(jù)檢測(cè)步驟中檢測(cè)到的位置信息，計(jì)算待施加液滴的多個(gè)液滴施加位置的信息；以及根據(jù)多個(gè)液滴施加位置的信息，繞垂直于基板的法線旋轉(zhuǎn)噴墨頭，并將液滴施加到基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的膜形成方法，其中，所述檢測(cè)基板上位置信息的步驟檢測(cè)基板上多個(gè)結(jié)構(gòu)特征的排列狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的膜形成方法，其中，所述多個(gè)結(jié)構(gòu)特征的排列狀態(tài)是多個(gè)結(jié)構(gòu)特征的間距。
4.一種制造電子源基板的方法，該基板包括多個(gè)電子發(fā)射器件，各個(gè)電子發(fā)射器件具有一對(duì)器件電極和具有電子發(fā)射區(qū)且在器件電極上延伸的導(dǎo)電膜，并且，其中所述多個(gè)電子發(fā)射器件按矩陣狀布線連接其中，通過權(quán)利要求1的膜形成方法來形成導(dǎo)電膜。
5.一種制造電子源基板的方法，包括下列步驟制備基板，該基板具有排列成矩陣圖形的多個(gè)器件電極以及連接多個(gè)器件電極中的一部分器件電極的多個(gè)直線布線，并檢測(cè)基板上多個(gè)器件電極中的至少一部分器件電極的位置信息；以及與基板相對(duì)，定位具有沿直線排列的多個(gè)噴嘴的噴墨頭，并從多個(gè)噴嘴施加液滴，使之與器件電極相接觸；其中，液滴施加步驟包括第一液滴施加步驟和第二液滴施加步驟，第一液滴施加步驟根據(jù)檢測(cè)到的位置信息在布線的縱向與噴嘴直線排列的方向限定第一角度的狀態(tài)下施加液滴，第二液滴施加步驟在布線的縱向與噴嘴直線排列的方向限定不同于第一角度的第二角度的狀態(tài)下施加液滴。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的制造電子源基板的方法，其中，在通過移動(dòng)所述噴墨頭和所述基板中的至少一個(gè)而使二者之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)的情況下，執(zhí)行所述液滴施加步驟。
全文摘要
在采用具有多個(gè)噴嘴的噴墨頭在多個(gè)位置中形成膜的情況下，提供一種對(duì)例如由基板畸變引起的液滴施加位置的誤差進(jìn)行有效修正的方法，從而以高的生產(chǎn)成品率制造電子源。通過預(yù)先獲取基板(1)的表面圖像，檢測(cè)電子源基板(1)上的器件電極(2)和(3)的位置，然后計(jì)算導(dǎo)電膜(4)的位置作為液滴施加位置，且噴墨頭(11)的傾斜角θ被調(diào)整成使噴嘴(12)的間距與所得到的液滴施加位置的間距d匹配。
文檔編號(hào)H01J9/02GK1865003SQ20061007167
公開日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2006年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月28日
發(fā)明者三島誠治 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社