專利名稱：等離子體顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種等離子體顯示裝置，特別是設計一種具有均勻放電特性(uniform discharge characteristic)的等離子體顯示裝置。
背景技術：
近年來，各種新型平面顯示器(flat panel display；FPD)不斷的開發(fā)設計出來，例如液晶顯示器(liquid crystal display；LCD)、有機發(fā)光顯示器(organic light emitting diode，OLED)及等離子體顯示器，有漸漸取代傳統(tǒng)陰極射線管(cathode ray tube；CRT)的趨勢。其中，等離子體顯示器是一種藉由氣體放電來產(chǎn)生發(fā)光的平面顯示器，其最大的特色是輕、薄、易于大型化且無視角問題。
等離子體顯示面板主要是利用電極放電累積電荷的方式來顯示畫面，由于其具有大屏幕、高容量以及能夠顯示全彩色(full-color)影像等特點，且等離子體顯示面板技術已漸漸被研究并發(fā)展出可懸掛于戶外的大型平面顯示面板，被喻為是未來最具潛力的平面顯示器技術之一。
請參考圖1，圖1示出傳統(tǒng)等離子體顯示器10的剖面結構示意圖。傳統(tǒng)等離子體顯示器10的結構主要由平行設置的一前基板12與一后基板14所構成。前基板12表面上包含多個橫向電極20用來作為維持電極(sustaining electrode)。此外，前基板12表面上包含一保護層26覆蓋住維持電極20。
后基板14上則設置有多個阻隔壁(barrier rib)28，其平行且等距地設置于后基板14上的介電層的表面上。前、后基板12、14之間存在一間隙，而所述多個阻隔壁(barrier rib)28用來將該間隙分隔成多個放電空間16，且通常一紅色放電空間、一綠色放電空間以及一藍色放電空間被稱為一放電空間組。后基板14還包含多個縱向電極22，其形成于兩個阻隔壁28之間的下基板14的表面上，用來作為數(shù)據(jù)電極(data electrode)，而所述介電層覆蓋于該縱向電極22上。此外，一熒光層29涂布于放電空間16內(nèi)，通常為了使等離子體顯示器10達到全彩化的目的，會分別將具有紅、藍、綠發(fā)光特性的熒光層形成于不同放電空間的后基板14表面與阻隔壁28側壁上。此外，該后基板14還具有一通氣孔50，以利進行后續(xù)的抽氣、灌入放電氣體(如Ar、Xe)以及封管工藝。
上述位于前基板12及后基板14間的橫向電極20、放電空間16、縱向電極22、阻隔壁28及熒光層29被稱為等離子體顯示單元30，而在該等離子體顯示器10中所有的等離子體顯示單元30構成一顯示區(qū)域32，參見圖2，圖2示出傳統(tǒng)等離子體顯示器10的結構。在完成等離子體顯示器的顯示區(qū)域的制造過程后，封合材料40形成于兩基板的四周，來封合該等離子體顯示器10。接著，參見圖3，等離子體顯示器10利用該基板的通氣孔50及氣體泵60進行后續(xù)的抽氣及灌入放電氣體的工藝。
在傳統(tǒng)等離子體顯示器的制造過程中，如在形成阻隔壁或是封合材料的過程中，有機溶劑的使用及廢氣的產(chǎn)生往往是不可避免的。然而，在等離子體顯示器的抽氣及封管的過程中，雜質(zhì)易于被氣流帶至通氣孔50附近，且殘留于顯示區(qū)域32中，如此一來，會嚴重影響通氣孔附近等離子體顯示單元30的放電特性，導致局部區(qū)域出現(xiàn)畫質(zhì)及顯示特性不均及異常的現(xiàn)象。
因此，降低等離子體顯示器內(nèi)殘留雜質(zhì)與放電氣體的比例，以避免等離子體顯示單元放電特性異常的現(xiàn)象發(fā)生，是等離子體顯示技術中一項急待研究的目標。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，為了解決上述問題，本發(fā)明之主要目的在于在顯示區(qū)域及通氣孔之間配置一抽氣灌氣緩沖層，使得在抽氣-灌氣或封管過程中所產(chǎn)生得雜質(zhì)被集中于該抽氣灌氣緩沖層及封合壁之間，并利用一吸附層加以吸收，進而避免雜質(zhì)造成等離子體顯示單元的放電特性異常，以防止等離子體顯示器局部區(qū)域畫質(zhì)不均的現(xiàn)象。
為獲得上述目的，本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，包括一第一基板，其中該第一基板具有一第一表面，且該第一基板可為等離子體顯示裝置的前板；該等離子體顯示裝置還具有一第二基板，而該第二基板配置于該第一基板之上，并以第二表面與所述第一表面相對，此外，該第二基板可為等離子體顯示裝置的后板。在該第一基板與該第二基板的四周具有一封合壁，而該封合壁用來封合該第一基板與該第二基板。在該第一基板的所述第一表面及第二基板的所述第二表面之間具有一顯示區(qū)域，該顯示區(qū)域包含多個等離子體顯示單元。此外，該等離子體顯示裝置同時還具有一個或多個通氣孔，這些通氣孔貫通于該顯示區(qū)域之外的第二基板，并具有一個或多個抽氣灌氣緩沖層，這些緩沖層形成于該顯示區(qū)域與相對應的通氣孔之間的第二表面上。而該等離子體顯示裝置還具有一個或多個吸附層，該吸附層形成于該顯示區(qū)域之外的該第一基板的所述第一表面上。
根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，其中該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及第一區(qū)域與第一表面相對應的區(qū)域構成一第二區(qū)域，且該吸附層也可部份或全部形成于該第一表面的該第二區(qū)域內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，其中該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及該第一區(qū)域與該第一表面相對應的區(qū)域系構成一第二區(qū)域，且該吸附層也可與該第一表面的該第二區(qū)域相連。
本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置也可以另一方式實施，其至少包括一第一基板，而該第一基板具有一第一表面，且該第一基板可為等離子體顯示裝置的前板。該等離子體顯示裝置還包含一第二基板，而該第二基板配置于該第一基板之上，并以第二表面與所述第一表面相對，且該第二基板可為等離子體顯示裝置的后板。此外，在該第一基板與該第二基板的四周還具有一封合壁，而該封合壁用來封合該第一基板與該第二基板。在該第一基板的所述第一表面及該第二基板的所述第二表面之間具有一顯示區(qū)域，該顯示區(qū)域包含多個等離子體顯示單元。此外，該等離子體顯示裝置也同時具有一個或多個通氣孔，其貫通于該顯示區(qū)域之外的第二基板，并具有一個或多個抽氣灌氣緩沖層，其形成于該顯示區(qū)域與相應的通氣孔之間的該第二基板的第二表面上，其中，該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及該第一區(qū)域與第一表面相對應的區(qū)域構成一第二區(qū)域。然而，在該第一基板的第一表面上，還具有一保護吸附層，且該保護吸附層對應于該顯示區(qū)域，并延伸至第二區(qū)域的邊界。
根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，其中該保護吸附層延伸到該第二區(qū)域內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，其中進一步包括一個或多個吸附層，其形成于該保護吸附層與該封合壁之間的該第一基板的第一表面上。


為使本發(fā)明之上述目的、特征能更明顯易懂，下文特舉出優(yōu)選實施例，并配合附圖作詳細說明如下圖1是示出傳統(tǒng)等離子體顯示器的剖面結構示意圖；圖2是示出傳統(tǒng)等離子體顯示器的結構透視圖；圖3是示出傳統(tǒng)等離子體顯示器抽氣-灌氣過程示意圖；圖4是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示裝置的優(yōu)選實施例的結構透視圖；圖5是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示器的優(yōu)選實施例的剖面結構示意圖；圖6是示出圖4所示的等離子體顯示器的局部放大圖；圖7a至圖7b是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示器的優(yōu)選實施例的部分結構示意圖；圖8a至圖8e是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示器的其它優(yōu)選實施例的部分結構示意圖；圖9a至圖9c是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示器的其它優(yōu)選實施例的部分結構示意圖；以及圖10a至圖10b是示出根據(jù)本發(fā)明所述的等離子體顯示器的其它優(yōu)選實施例的部分結構示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，其特點在于形成一抽氣灌氣緩沖層，該抽氣灌氣緩沖層配置于第二基板的顯示區(qū)域及通氣孔之間，并在第一基板上配置一吸附層，當該抽氣灌氣緩沖層及該吸附層的相互關系符合本發(fā)明所述的等離子體顯示裝置的結構時，可有效地將在等離子體顯示裝置制造過程、抽氣-灌氣及封管過程中所產(chǎn)生的雜質(zhì)(impurity)集中并吸附于顯示區(qū)域之外，以保持等離子體顯示裝置內(nèi)等離子體顯示單元的正常工作。以下，將配合附圖并以等離子體顯示裝置為例，來詳細說明本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置。
首先，請參考圖4及圖5，它們示出本發(fā)明所述的等離子體顯示器的優(yōu)選實施例，用來進一步解釋本發(fā)明及各部件的相對關系。如圖4所示，該等離子體顯示裝置100具有一第一基板102；以及一第二基板104，第二基板104平行地設置于該第一基板102之下，而該第一基板102及該第二基板104之間具有一由多個等離子體顯示單元所組成的顯示區(qū)域132；一封合壁140，其用來封裝并連結該第一基板102及該第二基板104；以及一個或多個通氣孔150，其貫通于該顯示區(qū)域之外的第二基板104。其中，如圖5所示，本發(fā)明所述的等離子體顯示單元130包括一橫向電極120，其形成于該第一基板102上；一保護層126，其覆蓋于該橫向電極120；一縱向電極122，其形成于該第二基板104上；一介電層124，其覆蓋于該縱向電極122上；一對阻隔壁128，其形成于該縱向電極122的兩側；一熒光層129，其形成于阻隔壁128及介電層124上；及一放電空間144。請參考圖6，圖6為第4圖的局部放大圖，具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置100特征在于一抽氣灌氣緩沖層160，該緩沖層160形成于該顯示區(qū)域132與相對應的通氣孔150之間的第二基板104上，且一吸附層162形成于該顯示區(qū)域132與該封合壁140之間的第一基板102上。其中，該抽氣灌氣緩沖層160用來集中在抽氣-灌氣及封管過程中所產(chǎn)生的雜質(zhì)，以避免該雜質(zhì)擴散至顯示區(qū)域132，其材料可為一封合材料，且該抽氣灌氣緩沖層160也可以與該封合壁為相同的材料，例如為玻璃膠；該吸附層162用來吸收由該抽氣灌氣緩沖層所集中的雜質(zhì)，其材料可以可為鎂化物、鋁化物或是鋯化物，而在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，該吸附層可與該保護層為相同的材質(zhì)，例如為氧化鎂。請參考圖5，該抽氣灌氣緩沖層160與該封合壁140在第二基板104上構成一第一區(qū)域164，而該抽氣灌氣緩沖層160與該第一區(qū)域164對應于第一基板102的區(qū)域構成一第二區(qū)域166，在此優(yōu)選實施例中，該吸附層162部分形成于該第二基板的第二區(qū)域166內(nèi)。在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例中，該吸附層162也可完全形成于該第二基板的第二區(qū)域166內(nèi)，如圖7a所示；而在本發(fā)明其它優(yōu)選實施例中，該吸附層162也可與該第二基板的第二區(qū)域166相連，如圖7b所示。
本發(fā)明所述的抽氣灌氣緩沖層的形狀以及其與通氣孔和吸附層的相對位置可按照需要而加以設計及改變。請參照圖8a至圖8c，圖中示出本發(fā)明的其它優(yōu)選實施例的剖面示意圖。該抽氣灌氣緩沖層160在第二基板104上所構成的區(qū)域除了可以為長條形外，還可視需要設計為其它形狀，例如可為L型，如圖8a所示；在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例中，該抽氣灌氣緩沖層160在該第二基板104上所構成的區(qū)域也可為一階梯型，如圖8b及圖8c所示。此外，本發(fā)明所述的該吸附層162還可視需要設計為多個區(qū)塊，如圖8d所示；而該吸附層162也可進一步包含于對應于該通氣孔150的第一基板102，如圖8e所示。
此外，本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，由于該吸附層可進一步由與該顯示區(qū)域的保護層相同的材料構成，因此在本發(fā)明的某些優(yōu)選實施例中，在第一基板102上形成一保護吸附層170以同時取代保護層及吸附層，請參照圖9a至圖9c，換言之，該保護吸附層170不但形成于該顯示區(qū)域132所在的該第一基板102上，也同時形成于該顯示區(qū)域132與該封合壁140之間的第一基板102上。在一優(yōu)選實施例中，該保護吸附層170的至少一個邊界172可位于該第二區(qū)域166內(nèi)，如圖9a所示；而在另一優(yōu)選實施例中，該保護吸附層170的至少一個邊界172也可與該第二區(qū)域的邊界相連，如圖9b所示；在其它優(yōu)選實施例中，該保護吸附層170除了為長方形外，還可視需要設計為其它形狀，如圖9c所示。
此外，請參照圖10a及圖10b，本發(fā)明所述的具有保護吸附層170的等離子體顯示裝置100，除了利用保護吸附層170來吸附雜質(zhì)之外，還可視需要搭配一個或多個吸附層162，該吸附層162形成于該保護吸附層170與該封合壁140之間的第一基板102上。其中該吸附層162的至少一個邊界可位于該第二區(qū)域內(nèi)，如圖10a所示，還可與該第二區(qū)域166的邊界相連，如圖10b所示。
綜上所述，本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，藉由針對吸附層、抽氣灌氣緩沖層及通氣孔之間相互關系的設計，有效地將在抽氣-灌氣或封管過程中所產(chǎn)生的雜質(zhì)集中于顯示區(qū)外，并利用吸附層加以吸收，避免雜質(zhì)污染顯示區(qū)域而影響等離子體顯示單元的放電特性，以得到均勻放電特性的等離子體顯示裝置。
此外，本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，該吸附層可進一步與該保護層在相同的步驟中以相同的材料形成，也就是形成一保護吸附層，用來同時取代吸附層及保護層；而且，該抽氣灌氣緩沖層也可與該封合壁在相同的步驟中以相同的材料形成，因此，也可在公知的圖形化保護層及封合壁的步驟中對上述兩者加以設計，不需額外的工藝步驟及設備，就可實現(xiàn)本發(fā)明所述的具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置，如此一來，可以在不增加任何制造時間及成本的前提下，大幅提升等離子體顯示裝置的效能。
上面本發(fā)明雖然以優(yōu)選實施例公開，但是其并非用來限定本發(fā)明的范圍，本領域技術人員在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi)可以做出各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視后附的權利要求書限定者為準。
權利要求
1.一種等離子體顯示裝置，包括第一基板，具有一第一表面；第二基板，配置于該第一基板之上，并以一第二表面與該第一基板的第一表面相對；封合壁，其位于該第一基板與該第二基板的四周，用以封合該第一基板與該第二基板顯示區(qū)域，形成于該第一基板的第一表面及該第二基板的第二表面之間；至少一通氣孔，其貫通于該顯示區(qū)域之外的第二基板；至少一抽氣灌氣緩沖層，其形成于該顯示區(qū)域與相對應的通氣孔之間的第二基板的第二表面上；以及至少一吸附層，形成于該顯示區(qū)域之外的第一基板的第一表面上。
2.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的第二基板的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及該第一區(qū)域對應于第一基板的第一表面的區(qū)域構成一第二區(qū)域，且該吸附層部分或全部形成于該第一表面的該第二區(qū)域內(nèi)。
3.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的第二基板的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及該第一區(qū)域對應于第一表面的區(qū)域構成一第二區(qū)域，且該吸附層與該第一表面的第二區(qū)域相連。
4.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，該吸附層的材料為鎂化物、鋁化物或是鋯化物。
5.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，吸附層的材料為氧化鎂。
6.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，顯示區(qū)域還包括一保護層，其形成于該第一基板的第一表面上，且該保護層的材料與該吸附層的材料相同。
7.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，顯示區(qū)域還包括一保護層，其形成于第一基板的第一表面上，且該保護層與該吸附層相連。
8.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層在第二基板的第二表面上所構成的區(qū)域為長條形、L形或是階梯形。
9.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層的材料為一封合材料。
10.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，該抽氣灌氣緩沖層的材料為玻璃膠。
11.如權利要求1所述的等離子體顯示裝置，其中，該抽氣灌氣緩沖層的材料與封合壁的材料相同。
12.一種等離子體顯示裝置，包括第一基板，具有一第一表面；第二基板，其配置于該第一基板之上，并以一第二表面與該第一基板之第一表面相對；封合壁，其位于該第一基板與該第二基板的四周，用以封合該第一基板與該第二基板顯示區(qū)域，其形成于該第一基板的第一表面及該第二基板的第二表面之間；至少一通氣孔，貫通于該顯示區(qū)域之外的第二基板；至少一抽氣灌氣緩沖層，其形成于該顯示區(qū)域與相對應的通氣孔之間的第二基板的第二表面上，且該抽氣灌氣緩沖層與封合壁之間的的第二表面構成一第一區(qū)域，而抽氣灌氣緩沖層及該第一區(qū)域對應于該第一基板的第一表面的區(qū)域構成一第二區(qū)域；以及保護吸附層，其形成于該第一基板的第一表面上，且對應于該顯示區(qū)域，并延伸至該第二區(qū)域的邊界。
13.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，該保護吸附層的材料為氧化鎂。
14.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層在第二基板的第二表面上所構成的區(qū)域為長條形、L形或是階梯形。
15.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層的材料為封合材料。
16.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層的材料為玻璃膠。
17.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，抽氣灌氣緩沖層的材料與該封合壁的材料相同。
18.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，其中，保護吸附層延伸到第二區(qū)域內(nèi)。
19.如權利要求12所述的等離子體顯示裝置，還包括一個或多個吸附層，其形成于保護吸附層與封合壁之間的第一基板的第一表面上。
20.如權利要求19所述的等離子體顯示裝置，其中，吸附層的材料為鎂化物、鋁化物或是鋯化物。
21.如權利要求19所述的等離子體顯示裝置，其中，吸附層的材料為氧化鎂。
22.如權利要求19所述的等離子體顯示裝置，其中，吸附層的材料與該保護吸附層的材料相同。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種具有均勻放電特性的等離子體顯示裝置。主要目的在于在顯示區(qū)域及通氣孔之間配置一抽氣灌氣緩沖層，使在抽氣－灌氣或封管過程中所產(chǎn)生的雜質(zhì)被集中于該抽氣灌氣緩沖層及封合壁之間，并利用吸附層加以吸收，進而避免雜質(zhì)造成等離子體顯示單元的放電特性異常，以防止等離子體顯示器局部區(qū)域畫質(zhì)不均的現(xiàn)象。
文檔編號H01J17/49GK1545123SQ20031011643
公開日2004年11月10日 申請日期2003年11月21日 優(yōu)先權日2003年11月21日
發(fā)明者陳柏丞, 吳俊翰 申請人:友達光電股份有限公司