一種摩擦配向裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種摩擦配向裝置，用于對(duì)待配向基板進(jìn)行摩擦配向，包括承載平臺(tái)以及相對(duì)位于所述承載平臺(tái)上方的摩擦機(jī)構(gòu)，所述摩擦機(jī)構(gòu)連接到一支撐架上，其中，所述支撐架的第一端連接有第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)分別朝向所述承載平臺(tái)延伸，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)的同一側(cè)面，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第一吹氣孔，所述第一吸氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第一吸氣孔；在所述摩擦機(jī)構(gòu)對(duì)放置于所述承載平臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第一吹氣孔和第一吸氣孔與所述基板之間具有第一間隙。該裝置可以及時(shí)去除配向工藝中掉落的毛屑以及配向膜碎屑，避免造成配向膜摩擦不良。
【專利說(shuō)明】
一種摩擦配向裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器制造過(guò)程中的一種生產(chǎn)設(shè)備，尤其是一種對(duì)液晶顯示器玻璃基板上的配向膜進(jìn)行摩擦配向的摩擦配向裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(TFT_LCD，ThinFilm Transistor-Liquid CrystalDisplay)工藝可分為三大流程，第一段為陣列基板及彩膜基板的工藝，第二段為配向、液晶填充與封合面板工藝;第三段則為偏光片、背光片與面板組裝的液晶顯示模塊。而在面板組立工藝中配向膜的配向工藝扮演著重要且關(guān)鍵的角色。配向工藝除了扮演著控制液晶排列次序及方向的重大任務(wù)外，另外還維系著如視角、反應(yīng)速度、對(duì)比及色彩表現(xiàn)等攸關(guān)高質(zhì)量顯示的特征。
[0003]配向膜的配向即為施予液晶分子方向，目的是給予LCD面板中的全體或局部液晶分子擁有統(tǒng)一且一致的方向性，或是定向排列。而在液晶顯示器施予配向膜配向的目的，在于電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)液晶分子時(shí)，局部或者全體的液晶分子需要有同步且一貫性的動(dòng)作，使得液晶顯示能快速且一致，此時(shí)即需配向工藝來(lái)達(dá)成上述目的。
[0004]目前常用的配向膜配向方式多為使用摩擦布，對(duì)配向膜進(jìn)行接觸式的接觸摩擦，使配向膜產(chǎn)生一規(guī)則的預(yù)傾角度，進(jìn)而使配向膜上的液晶隨之呈現(xiàn)一致預(yù)傾角。圖1為目前對(duì)于玻璃基板表面配向膜的摩擦處理的示意圖，如圖1所示，該摩擦配向裝置包括摩擦輥I，摩擦輥I圓柱面上經(jīng)膠體粘著的摩擦布2，摩擦布2上還設(shè)有毛系。工作時(shí)，將玻璃基板3平行放置在可動(dòng)基臺(tái)4上，基臺(tái)4載著玻璃基板3平行行進(jìn)的同時(shí)，摩擦輥I可與基臺(tái)4成一定角度并按一定的速度旋轉(zhuǎn)，通過(guò)控制摩擦輥I上摩擦布2的毛系壓入玻璃基板3上配向膜的深度、強(qiáng)度等工藝參數(shù)，使得配向膜原本隨機(jī)形成的表面狀態(tài)，因?yàn)榭椢锏哪Σ磷饔?，而造成具有一定角度并均勻排列的預(yù)傾角。摩擦配向的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生一定的配向膜碎肩，并且摩擦布2隨著摩擦輥I高速旋轉(zhuǎn)也會(huì)掉落一些毛肩，掉落的毛肩或配向膜碎肩遺留在玻璃表面會(huì)造成摩擦不良，形成鋸齒狀或平行等間距的不均配向條塊(Rubbing Mura)，最終生產(chǎn)出來(lái)的產(chǎn)品就會(huì)有明顯斜紋和條狀刮痕降為次品或失敗品。因此，如何在摩擦配向中及時(shí)去除掉落的毛肩或配向膜碎肩是目前亟需解決的課題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供了一種摩擦配向裝置，該裝置可以及時(shí)去除配向工藝中掉落的毛肩以及配向膜碎肩，避免造成配向膜摩擦不良。
[0006]為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案:
[0007]—種摩擦配向裝置，用于對(duì)待配向基板進(jìn)行摩擦配向，包括承載平臺(tái)以及相對(duì)位于所述承載平臺(tái)上方的摩擦機(jī)構(gòu)，所述摩擦機(jī)構(gòu)連接到一支撐架上，所述摩擦機(jī)構(gòu)包括摩擦輥以及包覆在所述摩擦輥外側(cè)的摩擦布，其中，所述支撐架的第一端連接有第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)分別朝向所述承載平臺(tái)延伸，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)的同一側(cè)面，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第一吹氣孔，所述第一吸氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第一吸氣孔;在所述摩擦機(jī)構(gòu)對(duì)放置于所述承載平臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第一吹氣孔和第一吸氣孔與所述基板之間具有第一間隙。
[0008]其中，所述第一間隙的高度為1.5±lmm。
[0009]其中，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)沿所述摩擦機(jī)構(gòu)的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)的長(zhǎng)度相等或近于相等。
[0010]其中，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)相比于所述第一吸氣機(jī)構(gòu)更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)。
[0011]其中，所述第一吹氣孔的開(kāi)口方向朝向所述第一吸氣機(jī)構(gòu)傾斜，所述第一吸氣孔的開(kāi)口方向朝向所述第一吹氣機(jī)構(gòu)傾斜。
[0012]進(jìn)一步地，所述支撐架的第二端連接有第二吹氣機(jī)構(gòu)和第二吸氣機(jī)構(gòu)，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)和第二吸氣機(jī)構(gòu)分別朝向所述承載平臺(tái)延伸，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)和第二吸氣機(jī)構(gòu)同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)的同一側(cè)面并且與所述第一吹氣機(jī)構(gòu)和第一吸氣機(jī)構(gòu)位于相對(duì)側(cè)，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第二吹氣孔，所述第二吸氣機(jī)構(gòu)的底端設(shè)置有第二吸氣孔;在所述摩擦機(jī)構(gòu)對(duì)放置于所述承載平臺(tái)的基板進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第二吹氣孔和第二吸氣孔與所述基板之間具有第二間隙。
[0013]其中，所述第二間隙的高度為1.5±lmm。
[0014]其中，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)和第二吸氣機(jī)構(gòu)沿所述摩擦機(jī)構(gòu)的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)的長(zhǎng)度相等或近于相等。
[0015]其中，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)相比于所述第二吸氣機(jī)構(gòu)更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)。
[0016]其中，所述第二吹氣孔的開(kāi)口方向朝向所述第二吸氣機(jī)構(gòu)傾斜，所述第二吸氣孔的開(kāi)口方向朝向所述第二吹氣機(jī)構(gòu)傾斜。
[0017]有益效果:本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦配向裝置，至少在摩擦機(jī)構(gòu)的同一側(cè)同時(shí)設(shè)置有吹氣機(jī)構(gòu)和吸氣機(jī)構(gòu)，通過(guò)吹氣-吸氣的處理動(dòng)作，可以及時(shí)地去除配向工藝中掉落的毛肩以及配向膜碎肩，避免造成配向膜摩擦不良。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1現(xiàn)有的摩擦配向裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦配向裝置的正視圖；
[0020]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦配向裝置的左視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。這些優(yōu)選實(shí)施方式的示例在附圖中進(jìn)行了例示。附圖中所示和根據(jù)附圖描述的本發(fā)明的實(shí)施方式僅僅是示例性的，并且本發(fā)明并不限于這些實(shí)施方式。
[0022]在此，還需要說(shuō)明的是，為了避免因不必要的細(xì)節(jié)而模糊了本發(fā)明，在附圖中僅僅示出了與根據(jù)本發(fā)明的方案密切相關(guān)的結(jié)構(gòu)和/或處理步驟，而省略了與本發(fā)明關(guān)系不大的其他細(xì)節(jié)。
[0023]參閱圖2和圖3，本實(shí)施例提供了一種摩擦配向裝置，用于對(duì)待配向基板進(jìn)行摩擦配向，其中，圖2是所述摩擦配向裝置的正視圖，圖3是所述摩擦配向裝置的左視圖。如圖2和圖3所示，所述摩擦配向裝置包括承載平臺(tái)10以及相對(duì)位于所述承載平臺(tái)10上方的摩擦機(jī)構(gòu)20，所述摩擦機(jī)構(gòu)20連接到一支撐架30上，所述摩擦機(jī)構(gòu)20包括摩擦輥21以及包覆在所述摩擦輥21外側(cè)的摩擦布22。其中，所述支撐架30的第一端31連接有第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a分別朝向所述承載平臺(tái)10延伸，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)20的同一側(cè)面，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a的底端設(shè)置有第一吹氣孔401，所述第一吸氣機(jī)構(gòu)50a的底端設(shè)置有第一吸氣孔501;在所述摩擦機(jī)構(gòu)20對(duì)放置于所述承載平臺(tái)10上的基板60進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第一吹氣孔401和第一吸氣孔501與所述基板60之間具有第一間隙hi。
[0024]進(jìn)一步地，在本實(shí)施例中，如圖2和圖3所示，所述摩擦配向裝置中，所述支撐架30的第二端32連接有第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b分別朝向所述承載平臺(tái)10延伸，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)20的同一側(cè)面并且與所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50b位于相對(duì)側(cè)，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b的底端設(shè)置有第二吹氣孔402，所述第二吸氣機(jī)構(gòu)50b的底端設(shè)置有第二吸氣孔502;在所述摩擦機(jī)構(gòu)20對(duì)放置于所述承載平臺(tái)10上的基板60進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第二吹氣孔402和第二吸氣孔502與所述基板60之間具有第二間隙h2。
[0025]通過(guò)在摩擦機(jī)構(gòu)的兩側(cè)分別同時(shí)設(shè)置有吹氣機(jī)構(gòu)和吸氣機(jī)構(gòu)，通過(guò)吹氣-吸氣的處理動(dòng)作(如圖2中黑色箭頭示出的吹氣-吸氣的方向)，在摩擦機(jī)構(gòu)進(jìn)行摩擦配向時(shí)，可以及時(shí)地迅速地去除配向工藝中掉落的毛肩以及配向膜碎肩，避免造成配向膜摩擦不良。其中，第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a以及第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b可以分別控制，第一吸氣機(jī)構(gòu)50a和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b可以是連接到抽真空平臺(tái)，通過(guò)抽真空實(shí)現(xiàn)吸氣，以吸除掉落的毛肩以及配向膜碎肩。需要說(shuō)明的是，在另外的一些實(shí)施例中，也可以僅設(shè)置有一個(gè)吹氣機(jī)構(gòu)和一個(gè)吸氣機(jī)構(gòu)，例如僅設(shè)置第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a，或者是僅設(shè)置第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b，但是僅設(shè)置的一個(gè)吹氣機(jī)構(gòu)和一個(gè)吸氣機(jī)構(gòu)應(yīng)當(dāng)設(shè)置在摩擦機(jī)構(gòu)20，這樣才可實(shí)現(xiàn)及時(shí)地迅速地去除配向工藝中掉落的毛肩以及配向膜碎肩。
[0026]其中，所述第一間隙hi的高度為1.5± 1mm，同樣地，所述第二間隙h2的高度也是I.5± Imm0
[0027]在本實(shí)施例中，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第一吸氣機(jī)構(gòu)50a沿所述摩擦機(jī)構(gòu)20的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)20的長(zhǎng)度相等或近于相等。同樣地，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b和第二吸氣機(jī)構(gòu)50b沿所述摩擦機(jī)構(gòu)20的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)20的長(zhǎng)度相等或近于相等。
[0028]在本實(shí)施例中，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a相比于所述第一吸氣機(jī)構(gòu)50a更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)20。同樣地，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b相比于所述第二吸氣機(jī)構(gòu)50b更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)20。將第一吹氣機(jī)構(gòu)40a和第二吹氣機(jī)構(gòu)40b設(shè)置為更加靠近所述摩擦機(jī)構(gòu)20，可以在第一時(shí)間吹起由于摩擦產(chǎn)生的毛肩和碎肩，更加及時(shí)地去除這些雜物。
[0029]在本實(shí)施例中，所述第一吹氣孔401的開(kāi)口方向朝向所述第一吸氣機(jī)構(gòu)50a傾斜，所述第一吸氣孔501的開(kāi)口方向朝向所述第一吹氣機(jī)構(gòu)40a傾斜。同樣地，所述第二吹氣孔402的開(kāi)口方向朝向所述第二吸氣機(jī)構(gòu)50b傾斜，所述第二吸氣孔502的開(kāi)口方向朝向所述第二吹氣機(jī)構(gòu)40b傾斜。這樣可以使得毛肩和碎肩等雜物更加容易被吹起并抽除。
[0030]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦配向裝置，至少在摩擦機(jī)構(gòu)的同一側(cè)同時(shí)設(shè)置有吹氣機(jī)構(gòu)和吸氣機(jī)構(gòu)，通過(guò)吹氣-吸氣的處理動(dòng)作，可以及時(shí)地去除配向工藝中掉落的毛肩以及配向膜碎肩，避免造成配向膜摩擦不良。
[0031]需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開(kāi)來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0032]以上所述僅是本申請(qǐng)的【具體實(shí)施方式】，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本申請(qǐng)?jiān)淼那疤嵯拢€可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種摩擦配向裝置，用于對(duì)待配向基板進(jìn)行摩擦配向，包括承載平臺(tái)(10)以及相對(duì)位于所述承載平臺(tái)(10)上方的摩擦機(jī)構(gòu)(20)，所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)連接到一支撐架(30)上，所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)包括摩擦輥(21)以及包覆在所述摩擦輥(21)外側(cè)的摩擦布(22)，其特征在于，所述支撐架(30)的第一端(31)連接有第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)和第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)和第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)分別朝向所述承載平臺(tái)(10)延伸，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)和第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的同一側(cè)面，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)的底端設(shè)置有第一吹氣孔(401)，所述第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)的底端設(shè)置有第一吸氣孔(501);在所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)對(duì)放置于所述承載平臺(tái)(10)上的基板(60)進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第一吹氣孔(401)和第一吸氣孔(501)與所述基板(60)之間具有第一間隙。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第一間隙的高度為1.5±Imm03.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)和第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)沿所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的長(zhǎng)度相等或近于相等。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)相比于所述第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第一吹氣孔(401)的開(kāi)口方向朝向所述第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)傾斜，所述第一吸氣孔(501)的開(kāi)口方向朝向所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)傾斜。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述支撐架(30)的第二端(32)連接有第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)和第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)和第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)分別朝向所述承載平臺(tái)(10)延伸，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)和第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)同時(shí)位于所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的同一側(cè)面并且與所述第一吹氣機(jī)構(gòu)(40a)和第一吸氣機(jī)構(gòu)(50a)位于相對(duì)側(cè)，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)的底端設(shè)置有第二吹氣孔(402)，所述第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)的底端設(shè)置有第二吸氣孔(502);在所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)對(duì)放置于所述承載平臺(tái)(10)上的基板(60)進(jìn)行摩擦配向時(shí)，所述第二吹氣孔(402)和第二吸氣孔(502)與所述基板(60)之間具有第二間隙。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第二間隙的高度為1.5±Imnin8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)和第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)沿所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度，與所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)的長(zhǎng)度相等或近于相等。9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)相比于所述第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)更接近于所述摩擦機(jī)構(gòu)(20)。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述第二吹氣孔(402)的開(kāi)口方向朝向所述第二吸氣機(jī)構(gòu)(50b)傾斜，所述第二吸氣孔(502)的開(kāi)口方向朝向所述第二吹氣機(jī)構(gòu)(40b)傾斜。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK106094352SQ201610698754
【公開(kāi)日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年8月22日 公開(kāi)號(hào)201610698754.8, CN 106094352 A, CN 106094352A, CN 201610698754, CN-A-106094352, CN106094352 A, CN106094352A, CN201610698754, CN201610698754.8
【發(fā)明人】馬小弟, 孫世英
【申請(qǐng)人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司