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電攝影感光體,使用該感光體的電攝影設(shè)備及組件的制作方法

文檔序號(hào):2763682閱讀:265來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:電攝影感光體,使用該感光體的電攝影設(shè)備及組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種電攝影感光體,特別涉及一種其感光層含特種化合物的電攝影感光體(下文中有時(shí)稱作“感光體”)。
本發(fā)明還涉及分別使用上述電攝影感光體的電攝影設(shè)備和組件。
迄今為止,無(wú)機(jī)感光體的感光層均以諸如硒、氧化鋅或鎘等無(wú)機(jī)光層材料作為主要組分。無(wú)機(jī)感光體在電攝影的主要性能方面可達(dá)到一定程度,但其存在的問題是成膜性差、塑性低而成本高。無(wú)機(jī)光導(dǎo)材料通常毒性較大。因此,在制作感光體和處理無(wú)機(jī)光導(dǎo)材料時(shí),受到很大限制。
另一方面,以有機(jī)光導(dǎo)材料作主要成分的許多有機(jī)感光體可克服無(wú)機(jī)感光體的上述缺陷并已引起人們極大的注意,因而有機(jī)感光體正在被推廣并已在一些場(chǎng)合中投入使用。當(dāng)有機(jī)光導(dǎo)材料用于有機(jī)感光體時(shí),要制作一種含諸如聚-N-乙烯咔唑的有機(jī)光導(dǎo)材料和諸如2,4,7-三硝基-9-芴酮的路易斯酸的電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物。電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物或有機(jī)光導(dǎo)材料有重量輕、成膜性好等優(yōu)點(diǎn),但在感光性、耐用性及抗環(huán)境變化的穩(wěn)定性等方面不如無(wú)機(jī)感光材料。
因此,人們提出了一種有疊層結(jié)構(gòu)的感光體,其中感光層包括一個(gè)含有諸如有機(jī)光導(dǎo)染料或顏料的電荷發(fā)生材料(CGM)的電荷發(fā)生層(CGL)和一個(gè)含電荷轉(zhuǎn)移材料(CTM)的電荷轉(zhuǎn)移層(CTL)(即所謂“功能分離型感光體”)。功能分離型感光體在感光性和耐用性方面比普通感光體有明顯地改善。
功能分離型感光體可在寬的范圍內(nèi)選擇CGM和CTM。因此,可方便地制備具有任意特性的感光體。
以CGM為例,已知的材料的偶氮顏料、多環(huán)苯醌顏料、花青染料、方形酸染料及吡喃鎓鹽型染料。在上述CGM中,由于偶氮顏料具有良好的耐光性,大的電荷發(fā)生能力且容易合成,因此多種偶氮顏料被用作CGM。
以CTM為例,已知的材料有日本專利公布(JP-B)No.4188/1977中記述的吡唑啉化合物;JP-B42380/1980或日本已公開專利申請(qǐng)(JP-A)NO.52063/1980中記述的腙化合物;JP-B32372/1983或JP-A132955/1986中記述的三苯基胺化合物;及JP-A151955/1979或JP-A198043/1983中記述的芪化合物。
CTM應(yīng)具備下述特性(ⅰ)耐光和/或熱的性能;
(ⅱ)抗由電暈放電產(chǎn)生的臭氧,有害氣體及硝酸的性能;
(ⅲ)高的電荷轉(zhuǎn)移能力;
(ⅳ)與有機(jī)溶劑和/或粘合樹脂的良好的相容性;
(ⅴ)制備簡(jiǎn)單、價(jià)格低廉。
近年來(lái),人們要求進(jìn)一步改進(jìn)感光體的耐用性。為此,在感光層上涂覆了一個(gè)保護(hù)層。然而,CTL也存在一些缺點(diǎn),如在CTL中的裂紋,CTL的晶化及CTL的相分離。這些缺點(diǎn)會(huì)破壞成象質(zhì)量。
在適用于近代數(shù)字化的反轉(zhuǎn)顯影系統(tǒng)中,由于主充電電極與轉(zhuǎn)印充電電極彼此相對(duì),故其轉(zhuǎn)印充電特性(即,所謂的“轉(zhuǎn)印記憶”現(xiàn)象)有所不同。因此,在最終圖象上極易發(fā)生圖象密度不均勻的情況。
本發(fā)明的目的是提供一種具有高感光性以及既使在反復(fù)使用時(shí)仍具有極好的電攝影穩(wěn)定性的電攝影感光體。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種具有感光層的電攝影感光體,該感光層本上不會(huì)產(chǎn)生裂紋且含有基本上不晶化的電荷轉(zhuǎn)移材料。
本發(fā)明的進(jìn)一步和目的是提供一種具有減小的轉(zhuǎn)印記憶的電攝影感光體。
本發(fā)明再進(jìn)一步的目的是提供分別包含所說(shuō)的電攝影感光體的一個(gè)電攝影設(shè)備和一個(gè)組件。
根據(jù)本發(fā)明的電攝影感光體包括一個(gè)導(dǎo)電的基體和一個(gè)位于導(dǎo)電基體上的感光層,其中所說(shuō)的感光層滿足下列條件(a)或(b)(a)所說(shuō)的感光層含下式(1)的芴化合物
式中R1和R2分別代表氫原子、烷基、芳基或芳烷基,其條件是R1和R2不能同時(shí)代表氫原子;或(b)所說(shuō)的感光層含式(2)中的芴化合物
式中R3,R4,R5和R6分別代表氫原子或烷基,而n和m分別代表1或2,其條件是R3,R4,R5,R6不能同時(shí)代表氫原子,以及含有下式(3)中的其最大熔點(diǎn)為160℃的三芳基胺化合物
式中Ar1,Ar2和Ar3分別代表芳基或雜環(huán)基,所說(shuō)的三芳基胺化合物不同于式(2)中的芴化合物。
本發(fā)明還提供了一種使用前述電攝影感光體的電攝影設(shè)備和組件。
本發(fā)明的目的,特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合下文的優(yōu)選實(shí)施例和附圖作更清楚地描述。


。
圖1,是使用本發(fā)明的電攝影感光體的電攝影設(shè)備的示意結(jié)構(gòu)圖。
圖2,是使用本發(fā)明的電攝影設(shè)備作為復(fù)印機(jī)的傳真機(jī)的框圖。
本發(fā)明的電攝影感光體的特征是感光層含上述式(1)中所示的芴化合物或感光層含上述式(2)所示的芴化合物及由上述式(3)所示的最高熔點(diǎn)為160℃的三芳基胺化合物,其中式(2)中的芴化合物與式(3)中的三芳基胺化合物不同。
在上述式(1)到(3)中,R1至R6和Ar1至Ar3可包括下面的特定的基。適于式(1)和(2)的烷基包括甲基,乙基,丙基,丁基。適于(1)和(3)的芳基或包括苯基,萘基,蒽基,芘基。適合于式(1)的芳烷基包括芐基、苯乙基。適于式(3)Ar1至Ar3的雜環(huán)基可包括吡啶基,噻吩基,呋喃基和喹啉基。
在式(1)的芴化合物中,R1和R2最好同是烷基。
在式(2)的芴化合物中,R5和R6最好同是烷基。另外,當(dāng)n是2和/或m是3時(shí),相應(yīng)的兩個(gè)R3基和/或/R4基可以彼此相同或彼此不同。
鑒于裂紋和晶化問題,式(3)的三芳基胺化合物的最高熔點(diǎn)(m.p.)以140℃為隹,而考慮到干燥問題,其熔點(diǎn)應(yīng)再稍高以便在室溫下呈固態(tài)。因此,式(3)的三芳基胺化合物的最高熔點(diǎn)應(yīng)為160℃。
式(1)至(3)的R1至R6及Ar1至Ar3均應(yīng)有一個(gè)取代基。這些取代基可以是烷基,例如甲基,乙基,丙基或丁基;芳烷基,例如芐基,苯乙基或萘甲基;芳基,例如苯基,萘基,蒽基或芘基;雜環(huán)基,例如吡啶基,噻吩基,喹啉基或呋喃基;烷氧基,例如甲氧基,乙氧基或丙氧基;芳氧基,例如苯氧基或萘氧基;鹵素原子,例如氟,氯,溴,碘;硫代烷基,例如硫代甲基,硫代乙基;硫代芳基,例如硫代苯基,硫代萘基;氨基,例如二甲基氨,二乙基氨或二苯基氨;以及羥基。
由式(1)的(2)所示的上述芴化合物的特定的及這完備的實(shí)例可由下述結(jié)構(gòu)式所包括。















合成實(shí)施例(1-4號(hào)實(shí)例化合物的合成)將16.9g的二苯基胺,50.0g的9,9-二甲基芴,10.0g的碳酸鉀酐和3.0g的銅粉加入到70ml的鄰-二氯苯中,在180-185℃的溫度下攪拌8小時(shí)。反應(yīng)完畢后,冷卻反應(yīng)混合物并進(jìn)行過濾。將濾出液低壓下濃縮以得到一個(gè)固體。把適量的甲基·乙基酮加到該固體中以獲得一晶體。晶體通過過濾還原并用硅膠柱中色層分離法(洗脫劑甲苯/己烷)提純,從而得到28.2g的2-(N,N-二苯基)氨-9,9-二甲基芴酮(收回率79%;熔點(diǎn)144.2-145.1℃)。
在下文中,式(3)所示的上述三芳基胺化合物的特定且非完備的實(shí)例可包括下述結(jié)構(gòu)式。
熔點(diǎn)≤160℃











熔點(diǎn)>160℃(不含式(3)的化合物)





本發(fā)明電攝影感光體的感光層可以包含下述的層結(jié)構(gòu)(1)一個(gè)含電荷發(fā)生材料的下層和一個(gè)含電荷轉(zhuǎn)移材料的上層;
(2)一個(gè)含電荷轉(zhuǎn)移材料的下層和一個(gè)含電荷發(fā)生材料的上層;以及(3)一個(gè)含電荷發(fā)生材料和電荷轉(zhuǎn)移材料的單個(gè)層。
式(1)和(2)的芴化合物及最高熔點(diǎn)為160℃的式(3)的三芳基胺化合物,均具有強(qiáng)的空穴轉(zhuǎn)移能力,因此很適于用在上述具有(1),(2)或(3)的結(jié)構(gòu)的感光層中作為電荷轉(zhuǎn)移材料。用于本發(fā)明感光體充電步驟的主充電電極對(duì)于結(jié)構(gòu)(1)最好為負(fù),對(duì)于結(jié)構(gòu)(2)最好為正而對(duì)于結(jié)構(gòu)(3)則可正可負(fù)。
本發(fā)明的感光體可帶有一個(gè)位于感光層表面的保護(hù)層以改善其耐作性和粘結(jié)性。也可在感光層與導(dǎo)電基體之間加入一內(nèi)涂層(或一基層)以控制電荷注入特性。
本發(fā)明的感光體可含一個(gè)具有上述層結(jié)構(gòu)(1)的感光層。下面,通過最隹實(shí)施例說(shuō)明含如此感光層的感光體。
感光體依次包括一個(gè)導(dǎo)電基體,一個(gè)含電荷發(fā)生材料(CGM)的電荷發(fā)生層(CGL),一個(gè)含電荷轉(zhuǎn)移材料(CTM)的電荷轉(zhuǎn)移層(CTL)以及選擇地包括上述的內(nèi)涂層和/或保護(hù)層。CGL和CTL構(gòu)成整個(gè)感光層。
導(dǎo)電基體可包括(ⅰ)一種金屬或合金例如鋁、鋁合金、不銹鋼或銅,制成的板或鼓(或滾筒);
(ⅱ)一個(gè)含非導(dǎo)電物質(zhì)例如玻璃、樹脂或紙,或上述基體(ⅰ)的疊層或蒸鍍的基體;其中每一物質(zhì)上均涂覆有諸如鋁,鋁金、鈀、銠、金或鉑的金屬或合金層;以及(ⅲ)一個(gè)含非導(dǎo)電物質(zhì)(如,玻璃、樹脂或紙),或上述基體(ⅰ)的涂覆或蒸鍍的基體,其中每一物質(zhì)上均涂覆有諸如導(dǎo)電聚合物,氧化錫或氧化銅的導(dǎo)電層。
CGL中的CGM可包括(ⅰ)單偶氮型,雙偶氮型,三偶氮型的偶氮顏料;
(ⅱ)金屬酞菁及非金屬酞菁類的酞菁顏料;
(ⅲ)靛藍(lán)及硫靛藍(lán)的靛藍(lán)顏料;
(ⅳ)芘酰亞胺及芘酐的芘的顏料;
(ⅴ)蒽醌及芘-1,8-醌的多環(huán)醌;
(ⅵ)角鯊鎓(Squalium)染料;
(ⅶ)吡鎓鹽(Pysiliumsalt)及硫代吡鎓鹽(thiopyziliumsalt);
(ⅷ)三苯甲烷染料;和(ⅸ)諸如硒和非晶硅無(wú)機(jī)物質(zhì)。
上述的CGM可單獨(dú)使用,也可以兩種或多種材料混合使用。
在本發(fā)明中,最好偶氮顏料(ⅰ)和酎菁顏料(ⅱ)作CGM。下式(A)的酞菁顏料及下式(B-1),(B-2),(B-3)和C的偶氮顏料很適于作CGM。

式中,R代表氫原子,鹵素原子,烷基,烷氧基、氰基或硝基,K代表1-4的整數(shù)。


式中,R′代表烷基,芳烷基,芳基或雜環(huán)基;X代表氫原子,鹵素原子,烷氧基,氰基或硝基。
在式(A)和(C)中,R和R′可包括下列特定的基鹵素原子,如氟,氯或溴;烷基,如甲基、乙基或丙基;烷氧基,如,甲氧基,乙氧基或丙氧基;芳基,如苯基,萘基或蒽基;芳烷基,如芐基或苯乙基;以及雜環(huán)基,如吡啶基,噻吩基,呋喃基或喹啉基。
顏料(A)和(B)的R或R′均可有取代基。這些取代基可以包括烷基,如甲基,乙基,丙基或丁基;芳烷基,如芐基,苯乙基或萘甲基;芳基,如苯基,萘基,蒽基或芘基;雜環(huán)基,如吡啶基,噻吩基,喹啉基或呋喃基;烷氧基,如甲氧基,乙氧基或丙氧基;芳氧基,如苯氧基或萘氧基;鹵素原子,如氟,氯,溴,碘;硫代烷基,如硫代甲基或硫代乙基;硫代芳基,如硫代苯基,硫代萘基;氨基,如二甲基氨,二乙基氨,二苯基氨;以及氫氧基。
顏料(A)和(C)最好包含下面舉出的特種基。
酞菁顏料(A)顏料例號(hào)RKA-(1)-H1A-(2) -CH31A-(3)-Cl1A-(4)-Cl4A-(5)-Br1A-(6) -OCH31A-(7)-CN1A-(8) -NO21
偶氮顏料(C)


在本發(fā)明中,可通過蒸鍍,濺鍍或化學(xué)蒸鍍方法,或?qū)GM彌散在含有粘結(jié)樹脂的溶液中并將得到的涂層液體用已知的諸如熱浸,旋轉(zhuǎn)涂覆,輥涂,線錠涂(Wirebarcoating),噴涂或刮涂的涂鍍方法涂覆到導(dǎo)電基體上,然后干燥涂層,從而在導(dǎo)電基體上形成CGL。使用的粘結(jié)樹脂可從已知的眾多樹脂諸如,聚碳酸酯樹脂,聚酸樹脂,多芳基化合物樹脂,聚乙烯醇縮丁醛樹脂,聚苯乙烯樹脂,聚乙烯醇縮醛樹脂,二丙烯鄰苯二甲酸鹽樹脂,丙烯樹脂,甲基丙烯樹脂,乙烯乙酸鹽樹脂,苯芳基樹脂,硅氧烷樹脂,聚砜樹脂,丁苯共聚物,醇酸樹脂,環(huán)氧樹脂,尿素樹脂以及氯乙烯-乙烯基乙酸鹽共聚物中選擇。這些粘結(jié)樹脂可單獨(dú)使用也可兩種或多種混合使用。CGL中粘結(jié)樹脂的最大重量百分比以80wt%為好,尤以40wt%為隹。
溶劑可從溶解上述粘結(jié)樹脂的溶劑中選擇它們包括醚,酮,胺,酯,芳香化合物,醇,以及脂族鹵化烴。如果需要CGL可含一種或多種已知的感光劑。
CGL的最大厚度最好為5μm,0.01至2μm最隹。
最好將滿足條件(a)或(b)的上述芴化合物或三芳基胺化合物與粘結(jié)樹脂一起溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲?,將得到的涂覆液即溶液用上述的涂覆方法涂到預(yù)定的表面(例如,導(dǎo)電基體,電荷發(fā)生層等和表面)上,然后干燥得到的涂層即或形成本發(fā)明的CTL。
用于形成CTL的粘結(jié)劑可包括上述用于CGL的樹脂;以及有機(jī)光導(dǎo)聚合物,例如,聚-N-乙烯咔唑,聚乙烯蒽。
CTM(即,芴化合物(1)或芴化合物(2)及三芳基胺(3))最好以10至500份重量,尤其是50至200份重量,與100份重量樹脂進(jìn)行混合?;衔?2)/化合物(3)的混合比例可選為1/9至9/1,以重量計(jì)。
CTL與CGL彼此電連接。因此,在電場(chǎng)的作用下,CTL中的CTM具有接受發(fā)生于CGL中的電荷載流子并將電荷載流子從CGL或CTL轉(zhuǎn)移到感光層表面的功能。
當(dāng)CTL的厚度過大時(shí)CTM將不能轉(zhuǎn)移電荷載流子,因此,考慮到CTM的電荷轉(zhuǎn)移能力,CTL的厚度以5~40μm為好,以10~30μm最隹。CTL還可含有所需的添加劑,例如,抗氧化劑、紫外吸收劑及增塑劑。
單層結(jié)構(gòu)的感光層(即,前述的結(jié)構(gòu)(3))的厚度以5~40μm為好,10~30μm最隹。
本發(fā)明的電攝影感光體不但可用于普通復(fù)印機(jī),而且還用于傳真機(jī),激光打印機(jī),發(fā)光二極管(LED)打印機(jī)、陰極射線管(CRT)打印機(jī),液晶打印機(jī),以及其它應(yīng)用電攝影、例如激光制版等領(lǐng)域。
圖1是使用本發(fā)明電攝影感光體的電攝影設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖1中,作為影象載體的感光鼓(即,感光體)1沿感光鼓1內(nèi)箭頭所示方向以規(guī)定的圓周速度繞軸1a轉(zhuǎn)動(dòng)。感光鼓表面被充電裝置2均勻充電而帶上要求的正或負(fù)電壓。影象曝光裝置(未示出)使感光鼓1被影象L曝光(如,通過狹縫曝光或激束掃描曝光),從而使與曝光影象相應(yīng)的靜電潛影形成在感光鼓1的表面上。顯影裝置4使靜電潛影形成調(diào)色劑圖象。與感光鼓1同步轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)印充電器5將調(diào)色劑圖象轉(zhuǎn)印到由供應(yīng)部分(未示出)送到感光鼓1與轉(zhuǎn)印充電器之間的轉(zhuǎn)印材料P上。帶有調(diào)色劑圖象的轉(zhuǎn)印材料P從感光鼓1上分離并被送到定影裝置8,隨后,圖象被定影在轉(zhuǎn)印材料P上并作為一個(gè)拷貝從電攝影設(shè)備輸出。轉(zhuǎn)印之后,感光鼓1表面的殘余調(diào)色劑由清潔裝置6去除以提供一個(gè)清潔的感光鼓表面,而鼓1表面上的殘余電荷由預(yù)曝光裝置7清除以備下一個(gè)復(fù)印過程。為感光鼓1均勻充電的充電器2一般為電暈充電器。轉(zhuǎn)印充電器5一般也多是電暈充電器。
根據(jù)本發(fā)明的電攝影設(shè)備可帶有一個(gè)組件。該組件包括下述或從中選擇的多個(gè)裝置,即感光體(感光鼓),充電器,顯影裝置,清潔裝置等等,該組件可根據(jù)需要在電攝影設(shè)備上拆裝。例如,該組件可由感光體至少一個(gè)充電器,顯影裝置及清潔裝置構(gòu)成一個(gè)借助電攝影設(shè)備機(jī)體內(nèi)的導(dǎo)向裝置(如導(dǎo)軌)在該設(shè)備機(jī)體上拆裝的單個(gè)組件。
電攝影設(shè)備用作復(fù)印機(jī)或打印機(jī)時(shí),閱讀信息資料的反射光或從原件發(fā)射或利用傳感器閱讀原件而發(fā)射的光將信息資料轉(zhuǎn)換為信號(hào)并驅(qū)動(dòng)激光束掃描LED陣列或液晶快門陣列以產(chǎn)生影象L,并對(duì)感光體曝光。
本發(fā)明的電攝影設(shè)備用作傳真打印機(jī)時(shí),用來(lái)曝光的影象光由需打印的接受到的信息提供。圖2是這一實(shí)施例的框圖,圖2中,控制器11控制影象閱讀部件10和印刷器19。CPU(中央處理單元)17控制控制器11。通過傳送電路13來(lái)自影象閱讀部件的閱讀信息被送到對(duì)方處,另一方面來(lái)自對(duì)方處的所要接受信息通過接受電路12被送到印刷器19。影象存儲(chǔ)器存儲(chǔ)特定的影象信息。印刷器控制器18控制印刷器19,標(biāo)號(hào)14代表電話聽筒。
經(jīng)電路15而接受的影象信息(該影象信息從遠(yuǎn)方與本傳真機(jī)相連的傳真機(jī)的電路發(fā)送)由接受電路12解調(diào)并在該影象信息的信號(hào)還原處理之后存入影象存儲(chǔ)器16。當(dāng)至少一頁(yè)影象存入影象存儲(chǔ)器16時(shí),頁(yè)影象記錄啟動(dòng)。CPU17從影象存儲(chǔ)器16讀出一頁(yè)影象信息,并將該頁(yè)已經(jīng)完成信號(hào)還原處理的影象信息送入印刷器控制器18。印刷器控制器18從CPU17接受一頁(yè)影象信息并控制印刷器19以便進(jìn)行影象信息記錄。在印刷器19記錄時(shí),CPU17將接受后續(xù)的影象信息頁(yè)。影象信息的接受與記錄即如上所述。
下面將結(jié)合實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明。
例1-1一種用于電荷發(fā)生層(CGL)的涂覆液可通過添加1.0g的下式的雙偶氮顏料

到含0.4g丁醛樹脂(80mol%度的丁醛)的60ml環(huán)己酮溶液中,并用混砂機(jī)彌散10小時(shí)來(lái)制備。
利用線錠將CGL涂覆液體在鋁片上,經(jīng)干燥而得到0.15μm厚的CGL。
然后,1.0g的芴化合物(例如,1-4號(hào)化合物)和1.0g的聚碳酸酯樹脂(平均分子量,Mw=20,000)溶解在7.0g氯苯中而制成涂覆液。
用線錠把該涂覆液涂在上述制備的CGL上,以干燥而形成厚度為23μm的電荷轉(zhuǎn)移層(CTL)。這樣便制成了電攝影感光體。
根據(jù)靜電法,用靜電復(fù)印機(jī)試驗(yàn)器(SP-428型,由Kawaguchi Denki 公司制造)以電暈電壓(-5KV)對(duì)制成的感光件充負(fù)電并在暗處保持1秒鐘。然后,以20Lux的照度對(duì)感光體曝光以檢驗(yàn)充電特性。更進(jìn)一步,通過在初始階段檢測(cè)表面電壓(Vo),在暗衰減1秒鐘后檢測(cè)得到的表面電壓(V1)以及檢測(cè)電壓V1減為原電壓的1/5所需的曝光量(E1/5Lux.Sec)(即,感光度),來(lái)檢驗(yàn)感光體的充電特性。
為了檢測(cè)亮區(qū)電壓(VL)和暗區(qū)電壓(VD)的波動(dòng),應(yīng)將上述感光體安裝到平紙復(fù)印機(jī)(PPC)NP-3825(Canon 公司制造)用感光鼓的滾筒上,并在VD和VL的初始階段電壓分別為-700V的-200V的條件下進(jìn)行5000張紙的復(fù)印試驗(yàn)(耐用性試驗(yàn))。5000張紙復(fù)印試驗(yàn)后,分別測(cè)試VD和VL以檢驗(yàn)VD和VL的波動(dòng)并與初始階段的數(shù)據(jù)比較。
上述結(jié)果示于表1中。
表1

例1-2到1-8及比較例1-1到1-3用與例1-1中相同的方法制備和檢驗(yàn)電攝影感光體,只是將芴化合物(1-4)分別改為前述的芴化合物(1-1),(1-5),(1-6),(1-7),(1-9),(1-10),(1-11)或下述的比較化合物(1-1C),(1-2C)和(1-3C)。
比較化合物號(hào)

結(jié)果示于表2,表3。


從表1-3可知,用于本發(fā)明感光體的式(1)芴化合物與比較化合物相比,在反復(fù)使用時(shí),具有高的感光性(即,低的E1/5)和良好的電壓穩(wěn)定性(即,VD和VL的波動(dòng)變小)。
例1-9將1.0gτ-型非金屬酞菁彌散于含0.4g苯氧基樹脂的50g環(huán)己酮溶液中40小時(shí),即可制成CGL涂覆液。把涂覆液用線錠涂到鋁片上,在80℃溫度下干燥0.5小時(shí)即可形成厚0.2μm的CGL。
然后,把1.0g芴化合物(1-5)和1.0g雙酚Z-型聚碳酸樹脂(MW=80,000)溶于7.0g的氯苯中。將得到的溶液用線性錠涂在CGL上并在120℃條件下干燥1小時(shí)而形成20μm厚的CTL。這樣,便制成電攝影感光體。
用電暈放電(-5KV)對(duì)制成的感光體充電以建立初始電壓Vo,之后,感光體在暗處滯留1秒鐘后,測(cè)量感光體的表面電壓(V1),為了檢測(cè)感光度,需測(cè)量把暗衰減后的電壓V1減小到其值的1/6時(shí)所需的曝光量(E1/6,μJ/cm2)。光源是激光,發(fā)自鍺/鋁/砷構(gòu)成的半導(dǎo)體。
測(cè)量結(jié)果如下Vo-700VV1-695VE1/60.45μJ/cm2將上述感光體裝入作為電攝影打印機(jī)的激光打印機(jī)(由Canon公司生產(chǎn),商品名為L(zhǎng)BP-CX)中,打印機(jī)裝配有作反轉(zhuǎn)顯影系統(tǒng)和成象之用的上述半導(dǎo)體激光器。
其中其成象條件如下主充電后的表面電壓-700V影象曝光后的表面電壓-150V轉(zhuǎn)印電壓+700V顯影極性負(fù)工作速度50mm/sec顯影條件(顯影偏壓)-450V影象曝光掃描系統(tǒng)在主充電之前的影象掃描曝光22.0lux.sec(整個(gè)表面曝光使用紅光)在成象復(fù)印3000頁(yè)后,復(fù)印質(zhì)量依然與前3000頁(yè)一樣良好、穩(wěn)定。
例1-10把1.0g的4-(4-二甲氨基苯)-2,6-二苯基噻喃鎓過氯酸鹽和10g的芴化合物(1-7)彌散在含10g聚酸共聚物(MW=100,000)的100g甲苯/二噁烷(1/1以重量計(jì))混合溶劑的溶液中,用球磨機(jī)攪拌20小時(shí)而制成涂覆液。將該涂覆液用線性錠涂在鋁片上,在120℃溫度下干燥1小時(shí)而形成感光層,從而制成電攝影感光體。
用與例1-1中的相同方法檢測(cè)制成的感光體,其檢測(cè)結(jié)果列于表4中。
表4

例1-11將醇溶尼龍樹脂(尼龍6-66-610-12四聚合物)含量為2%的甲醇溶液涂在鋁基片上并干燥而形成厚0.5μm的內(nèi)涂層。
用混砂機(jī)將結(jié)構(gòu)式如下的10g三偶氮顏料彌散在20ml四氫呋喃

制備在70g的氯苯/二氯甲烷(4/1的重量計(jì))混合溶劑中含10g的芴化合物(1-8)和10g的雙酚A聚碳酸鹽樹脂(MW=20,000)的溶液,并進(jìn)行前述的彌散,然后再用混砂機(jī)彌散2小時(shí)。用線錠將制成的彌散液涂到內(nèi)涂層上并干燥而制成16μm厚的感光層,從而制得電攝影感光體。
用例1-9的方法檢測(cè)制得的感光體,其結(jié)果下Vo-710VV1-690VE1/60.74μJ/cm2例2-1在鋁片上形成一個(gè)含乙烯基氯/馬來(lái)酐/乙烯基乙酸鹽共聚物的厚0.2μm的內(nèi)涂層。
然后,將用日本已公開專利申請(qǐng)(JP-A)N.17066/1989中的方法而合成的5g試樣顏料A-(1)加到含2g丁縮醛樹脂(丁縮醛度65mol%,數(shù)均分子量(Mn=25,000)的95ml環(huán)己酮溶液中,隨后用混砂機(jī)彌散25小時(shí)。用線錠將彌散液涂到內(nèi)涂層上,干燥后形成0.5μm厚的CGL。
將5g芴化合物(1-4)和5g雙酚Z聚碳酸鹽樹脂(粘度平均分子量=30,000)溶解在70ml氯苯中并用線錠涂在CGL上,而后經(jīng)干燥形成18μm厚的CTL。
除使用-5.5KV的電暈充電及用鹵燈獲得21ux照度外其余均采用與例1-1相同的方法測(cè)試制得的電攝影感光體的Vo,V1和E1/5。測(cè)試結(jié)果如下Vo-720VV1-705VE1/50.45lux.sec
然后,把該感光體安裝在包括電暈充電器(15.6KV),曝光系統(tǒng),顯影裝置,轉(zhuǎn)印充電器,消除殘余電荷的曝光系統(tǒng)及清潔器的電攝影復(fù)印設(shè)備的一個(gè)滾筒上,并在環(huán)境條件為10%/5℃、50%/18℃和80%/35℃(相對(duì)濕度(%)/溫度(℃))的情況下成象復(fù)印10,000張。
在上述三種條件下成象質(zhì)量清晰良好。即使成象10,000次后,復(fù)印圖像依然不會(huì)模糊或缺損。這說(shuō)明本發(fā)明的感光體具有良好的成象特性。
例2-2至2-10除下面表5中所示的顏料和化合物代替示例顏料A-(1)和芴化合物(1-4)外,用與例2-1相同的方法制備和測(cè)試電攝影感光體。該情況示于表5中。
為了檢測(cè)亮區(qū)電壓(VL)與暗區(qū)電壓(VD)的波動(dòng),將上述感光體裝在一個(gè)與例2-1中所用的相同的電攝影復(fù)印設(shè)備的滾筒上,并在VD和VL的初始值分別為-700V和-200V的條件下復(fù)印試驗(yàn)10,000張。復(fù)印10,000張后,測(cè)量VD及VL,并分別用初始階段的VD。VL減去測(cè)出的VD、VL而得到△VD和△VL的波動(dòng)值。
其結(jié)果示于表6中。

比較例2-1至2-4除了分別用下列比較化合物(2-1C),(2-2C),(2-3C)和(2-4C)替換芴合物(1-12)外,用與例2-2相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
比較化合物

測(cè)量結(jié)果示于表7。

比較例2-5至2-10除示于下表8內(nèi)的示例顏料和比較化合物配合使用外,用與例2-2相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。檢測(cè)結(jié)果示于下表9中。


例3-1在鋁片上形成一層厚0.2μm,含乙烯基氯/馬來(lái)酐/乙烯乙酸鹽共聚物的內(nèi)涂層。
然后,把5g示例偶氮顏料B-(1)加到含2g丁縮醛樹脂(丁縮醛度64mol%,Mn=30,000)的95ml環(huán)己酮溶液中,用混砂機(jī)彌散16小時(shí)。用線錠把彌散液涂在內(nèi)涂層上并干燥而形成0.4μm厚的CGL。
用與例2-1相同的方法在CGL上形成厚19μm的CTL,這樣便制成電攝影感光體。
用例2-1中的方法測(cè)試制成的感光體,其結(jié)果如下Vo-705VV1-696V
E1/51.62lux.sec在前述三個(gè)條件下,可得到良好、準(zhǔn)確的復(fù)印圖象。即使復(fù)印10,000張之后,得到的圖象仍不會(huì)缺損功模糊。因此,本發(fā)明的感光體具有良好的成象性能。
例3-2至3-8除了配合使用表10中所示的例偶氮顏料(B-1),(B-2),(B-3)及芴化合物外,用例3-1的方法制備并用例2-2和方法檢測(cè)電攝影感光體。

檢測(cè)結(jié)果示于表11。

比較例3-1至3-4除了芴化合物(1-12)被下述比較化合物(3-1C),(3-2C),(3-3C)和(3-4C)分別替換外,用例3-2中的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
比較化合物

檢測(cè)結(jié)果示于表12。

比較例3-5至3-10除表13中配合使用的示例顏料和比較化合物外,用與例3-2中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。檢測(cè)結(jié)果示于表14中。


例4-1在鋁片上形成一層厚0.1μm、含乙烯基氯/馬來(lái)酐/乙烯乙酸鹽共聚物的內(nèi)涂層。
然后,把5g例顏料C-(3)加到含2g丁縮醛樹脂(丁縮醛度63ml%,Mn=20,000)的95ml環(huán)己酮溶液中,隨后用混砂機(jī)彌散20小時(shí)。用線錠把彌散液涂在內(nèi)涂層上并干燥而形成0.3μm厚的CGL。
用與例2-1相同的方法在CGL上形成一層厚19μm的CTL,這樣便制成電攝影感光體。
用與例2-1相同的方法檢測(cè)制成的感光體,其結(jié)果如下Vo-701VV1-698V
E1/50.85lux.sec在上述三個(gè)條件下可得到良好、準(zhǔn)確的復(fù)印圖象。即使復(fù)印10,000張之后,得到的圖象仍不會(huì)缺損或模糊。因此,本發(fā)明的感光體具有良好的成象性能。
例4-2至4-28除使用配合示于表15中的例顏料和芴化合物外,用與例4-1相同的方法制備并用與例2-2相同的方法檢測(cè)電攝影感光體。
表15例例,顏料芴化合物4-2C-11-124-3C-11-44-4C-11-54-5C-11-1
4-6C-21-54-7C-21-14-8C-21-84-9C-31-454-10C-31-54-11C-31-84-12C-31-154-13C-51-54-14C-51-1104-15C-51-134-16C-61-44-17C-61-84-18C-61-144-19C-81-12154-20C-81-44-21C-101-84-22C-121-54-23C-161-14-24C-181-8204-25C-181-34-26C-191-124-27C-191-44-28C-201-525
表16例 E1/5(lux.sec) △VD(V) △VL(V)54-20.98-17+204-30.87-8+64-40.80-7+54-51.01-16+184-60.81-6+6104-71.04-13+214-80.92-5+84-90.94-5+84-100.89-5-34-110.95-8+10154-121.12-16+284-130.90+3+84-141.15-16+154-151.18-13+254-160.87-3-5204-170.88±0+54-181.14-15+174-190.98-8+264-200.94+8+104-211.06-6+8254-220.97-8+64-231.12-8+154-241.10-5-5
4-251.34-18+184-261.48-16+284-271.12-5-54-280.97-5-5比較例4-1至4-4除了用下列比較化合物(4-1C),(4-2C),(4-3C)和(4-4C)分別替換芴化合物(1-12)外,用與例4-2中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
比較化合物

檢測(cè)結(jié)果示于表17中。

比較例4-5至4-16除配合使用示于表18中的例顏料和比較化合物外,用與例4-2中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體,檢測(cè)結(jié)果示于表19中。


例5-1把結(jié)構(gòu)式為

的3.9g偶氮顏料加到含2g丁縮醛樹脂(丁縮醛度70mol%)的95ml環(huán)己酮溶液中,并用混砂機(jī)彌散37小時(shí)。
用線錠把CGL涂覆液涂在鋁片上,經(jīng)干燥制成0.18μm的厚的CGL層。
把住含8g芴化合物(2-3),2g三苯胺化合物(3-37)及8.33g聚碳酸酯樹脂(Mn=33,000)的70g氯苯溶液用線錠涂覆在CGL層上并干燥制成厚19μm的CTL層,從而制得一電攝影感光體。
除復(fù)印試驗(yàn)3,000張外,用與例1-1中相同的方法檢測(cè)制成的感光體。檢測(cè)結(jié)果列于下文的表20中。
如下文所述,還要對(duì)感光體的感光層進(jìn)行加速抗裂試驗(yàn),對(duì)電荷轉(zhuǎn)移材料進(jìn)行加速晶化試驗(yàn)。
抗裂試驗(yàn)將一指形物切觸或壓在感光體試驗(yàn)表面上以使指形的脂質(zhì)部分與感光體表面相接,隨后在常溫、常壓下保持32小時(shí)。在達(dá)到規(guī)定的保持時(shí)間后,用顯微鏡(由UnionCorp制造的VERSAMET6390型,放大倍數(shù)=50)觀測(cè)感光體的接觸部分,檢查是否產(chǎn)生裂紋。
抗晶化試驗(yàn)使上述經(jīng)指形抗裂試驗(yàn)的感光體在75℃溫度下保持兩星期。兩星期后,用上述的顯微鏡(放大率50)觀測(cè)感光體的接觸部分檢查是否發(fā)生晶化。
上述的試驗(yàn)結(jié)果均示于表20中。
例5-2至5-18及比較例5-1至5-13除用表20-24所示給定量的化合物分別代替8g的芴化合物(2-3)和2g的三苯基胺化合物(3-37)外,用與例5-1中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
在比較例5-2中使用下述比較化合物(5-1C)。
比較化合物

檢測(cè)結(jié)果示于表20-24中。





從表2-24可知,與比較例相比,本發(fā)明的感光體具有良好的電攝影性能并可避免感光層產(chǎn)生裂紋和CTM的晶化。
例5-19用線錠把含4.8g N-甲氧甲基6-尼龍樹脂(MW=35,000)和9.0g醇熔共聚物尼龍樹脂(MW=30,000)的75g甲醇溶液涂覆在鋁基底上,經(jīng)干燥形成0.9μm厚的內(nèi)涂層。
將6g氧化鈦酞菁加到含5.0g苯氧基樹脂的175g環(huán)己酮溶液中并用混砂機(jī)彌散該混合液36小時(shí),用刮片將彌散的液體涂覆在內(nèi)涂層上,經(jīng)干燥形成厚19μm的CGL。
然后,把7g芴化合物(2-25),3g三苯基胺化合物(3-3)和8.33g苯乙烯-丙烯酸鹽(8∶2)共聚物(MW=25,000)溶解在65g氯苯中。用刮片將制成的溶液涂在CGL上,經(jīng)干燥形成20μm厚的CTL,便制成電攝影感光體。
用電暈電壓(-5KV)給制成的感光體充電以建立初始電壓Vo,并在暗處保持1秒鐘,而后測(cè)量表面電壓(V1)。測(cè)量V1暗衰為原值的1/6所需曝光量(E1/6,μJ/cm2)以檢測(cè)感光體的感光度。所用光源是發(fā)自含鎵/鋁/砷的四元半導(dǎo)體的激光(輸出5mw,發(fā)射波長(zhǎng)780nm)。
將上述感光體裝在帶有上述半導(dǎo)體激光器且使用反轉(zhuǎn)顯影系統(tǒng)的用作電攝影印刷機(jī)的一個(gè)激光復(fù)印機(jī)(名稱LBP-SX,制造廠家Canon公司)中,在無(wú)轉(zhuǎn)印電流的條件下測(cè)量主充電電壓(Vd1)及在有轉(zhuǎn)印電流的條件下測(cè)量主充電電壓(Vd2)以便檢驗(yàn)轉(zhuǎn)印記憶(Vd1-Vd2),然后進(jìn)行成象操作。
使用的成象條件如下
主充電之后的表面電壓-700V影象曝光之后的表面電壓-150V(曝光量1.0μJ/cm2)轉(zhuǎn)印電壓+700V顯影極性負(fù)工作速度47mm/sec顯影條件(顯影偏壓)-450V影曝光掃描系統(tǒng)主充電前的影象掃描曝光8.0lux.sec(整個(gè)表面曝光用紅光)線掃描激光束根據(jù)特征和影象信號(hào)進(jìn)行成象。即可得到與特征和影象相應(yīng)的良好的復(fù)印圖象。
另外,按例5-1中的方法檢測(cè)感光體的裂紋和晶化。
檢測(cè)結(jié)果示于下文的表25中。
例5-20至5-30除了分別示于表25和26中給定量的化合物替換7g芴化合物(2-25)和3g三苯基胺化合物(3-3)外,用與例5-19中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
檢測(cè)結(jié)果示于下文的表25和26中。
比較例5-14至5-22除了用于表27中給定量的化合物分別代替7g芴化合物(2-25)和7g三苯基胺化合物(3-3)外,用與例5-19中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
在比較例5-21中,使用下列的比較化合物(5-1C)。
比較化合物

檢測(cè)結(jié)果示于下面的表27中。



例5-31至5-39除了使用表28中給定的例5-19、5-20和5-24中使用的化合物外,用與例5-19中相同的方法制備并檢測(cè)電攝影感光體。
檢測(cè)結(jié)果示于下面的表28中。

例5-40用球磨機(jī)把4g的4-(4-二甲氨基苯)-2,6-二苯基噻喃鎓高氯酸鹽,1.8g的芴化合物(1-7)和3.2g的三苯基胺化合物(3-5)彌散在含15g聚酯共聚物(MW=48,000)的100g甲苯/二噁烷(1/1重量比)混合溶劑的溶液中16小時(shí)而制成涂覆液。用線錠把涂覆液在鋁片上并在120℃下干燥1小時(shí)而形成感光層。這便制成電攝影感光體。
用與例5-1中相同的方法檢測(cè)該制成的感光體,得到下列結(jié)果。
Vo-700VV1-690VE1/53.51lux.sec32小時(shí)后無(wú)裂紋產(chǎn)生,兩周后未發(fā)現(xiàn)晶化。
例5-41把含25%醇溶尼龍樹脂(尼龍6-66-610-12四元聚合物)的甲醇溶液涂到鋁基底上,經(jīng)干燥形成厚1.7μm的內(nèi)涂層。
在70g氯苯/二氯甲烷(重量比6/1)的混合溶劑中加入2g三苯基氨化合物(3-15),8g芴化合物(2-46)和10g雙酚A聚碳酸酯樹脂(MW=30,000)制成溶液并將該溶液涂到上述的內(nèi)涂層上,經(jīng)干燥形成厚18μm的CTL。
然后,把4g下式的顏料

加到含2g丁縮醛樹脂(丁縮醛度=63mol%)的75ml四氫呋喃溶液中,并在混砂機(jī)中攪拌20小時(shí)。用線錠把制得的涂覆液涂到CTL上,經(jīng)干燥形成厚0.90μm的CGL,便制成了電攝影感光體。
除了對(duì)感光體充正電外,用與例5-1中相同的方法檢測(cè)制成的感光體。檢測(cè)結(jié)果如下。
Vo+700VV1+697VE1/52.51lux.sec例42通過浸泡將含5g N-甲氧基甲酯6-尼龍樹脂(MW=28,000)和10g醇溶共聚物尼龍樹脂(MW=27,000)的45g甲醇及60g丁醇的混合溶劑加到玻璃基底上,經(jīng)干燥形成1μm厚的內(nèi)涂層。
隨后,把5g芴化合物(2-30),5g三苯基胺化合物(3-53)和15g雙酚A聚碳酸酯樹脂(MW=27,000)溶解在100g氯苯/二氯甲烷(重量比3/7)混合溶劑中。用線錠把制得的溶液涂在內(nèi)涂層上經(jīng)干燥形成厚15μm的CTL。
然后,將57g下式的丙烯酸鹽單體

33g的平均粒度400

(彌散前)的氧化錫顆粒,2g的2-甲基噻噸酮和300g的甲基溶纖劑混合,并在混砂機(jī)中攪拌64小時(shí)。將制得的混合液加到CTL上并用高壓水銀燈(光強(qiáng)8mw/cm2,照射距離25cm)光致聚合30秒使該液體固化成2.7μm厚的保護(hù)層,這就制成了用來(lái)檢測(cè)裂紋和晶化的試驗(yàn)結(jié)構(gòu)。
用透射顯微鏡(倍率50)按下文的方式檢驗(yàn)試驗(yàn)結(jié)構(gòu)上發(fā)生的裂紋和晶化。
光從試驗(yàn)結(jié)構(gòu)的背面(玻璃基底側(cè))發(fā)射到感光體上,以形成75度的入射角(即入射到玻璃基底表面的光線與經(jīng)入射點(diǎn)垂直該表面直線夾角)。CTL中的裂紋和晶化將被檢測(cè)。
例5-43至5-47和比較例5-23至5-26除使用表29中給定的化合物分別取代5g芴化合物(2-30)和5g三苯基胺化合物(3-53)外,用與例5-42中相同的方法制備并檢測(cè)試驗(yàn)結(jié)構(gòu)。檢測(cè)結(jié)果示于表29中。

如上所述,本發(fā)明提供一種電攝影感光體,其特征在于感光層含有式(1)的芴化合物或含有式(2)的芴化合物以及含有最高熔點(diǎn)為160℃的式(3)的三苯基胺化合物。該感光體在被反復(fù)充電和曝光而連續(xù)成象時(shí),顯示出高的感光度并且亮區(qū)電壓及暗區(qū)電壓的電壓降穩(wěn)定,因此具有很好的耐用性。當(dāng)使用反轉(zhuǎn)顯影系統(tǒng)時(shí),該感光體還減少轉(zhuǎn)印記憶。且該感光體可基本消除感光層中的裂紋和電荷轉(zhuǎn)移材料的晶化等造成最終圖象缺陷的因素。
權(quán)利要求
1.一種電攝影感光體,包括一個(gè)導(dǎo)電基底和位于該導(dǎo)電基體上的一個(gè)感光層,其所說(shuō)的感光層滿足下列條件(a)或(b)(a)所說(shuō)的感光層含下式(1)的芴化合物
式中,在R1和R2不同時(shí)為氫原子的前提下,R1和R2分別代表氫原子,烷基,芳基或芳烷基;或(b)所說(shuō)的感光層含下式(2)的芴化合物
式中,在R3,R4,R5和R6不同時(shí)為氫原子的前提下,R3,R4,R5和R6分別代表氫原子或烷基,n和m分別代表1或2,以及含最高熔點(diǎn)為160℃的下式(3)的三芳基胺化合物
式中,Ar2,Ar2和Ar3分別代表芳基或雜環(huán)基,所說(shuō)的本芳基胺化合物與式(2)的芴化合物不同。
2.如權(quán)利要求1的感光體,其特征在于,式(1)中的R1和R2同為烷基。
3.如權(quán)利要求1的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層含一個(gè)電荷發(fā)生層和一個(gè)電荷轉(zhuǎn)移層。
4.如權(quán)利要求3的感光體,其特征在于,所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(a)或(b)。
5.如權(quán)利要求3的感光體,其特征在于,依次設(shè)置所說(shuō)的導(dǎo)電基底,所說(shuō)的電荷發(fā)生層和所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層,并且所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(a)或(b)。
6.如權(quán)利要求1的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(a)。
7.如權(quán)利要求6的感光體,其特征在于,式(1)中的R1和R2同為烷基。
8.如權(quán)利要求6的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層含一個(gè)電荷發(fā)生層和一個(gè)電荷轉(zhuǎn)移層。
9.如權(quán)利要求8的感光體,其特征在于,所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(a)或(b)。
10.如權(quán)利要求8的感光體,其特征在于,依次設(shè)置所說(shuō)的導(dǎo)電基底,所說(shuō)的電荷發(fā)生層和所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層,并且所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(a)。
11.如權(quán)利要求1感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(b)。
12.如權(quán)利要求11的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層含一個(gè)電荷發(fā)生層和一個(gè)電荷轉(zhuǎn)移層。
13.如權(quán)利要求12的感光體,其特征在于,所說(shuō)的電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(b)。
14.如權(quán)利要求12的感光體,其特征在于,依次設(shè)置所說(shuō)的導(dǎo)電基底,所說(shuō)的電荷發(fā)生層和所說(shuō)的電荷的轉(zhuǎn)移層,并且電荷轉(zhuǎn)移層滿足條件(b)。
15.如權(quán)利要求1的感光體,其特征在于,在所說(shuō)的導(dǎo)電基底和感光層之間有一個(gè)內(nèi)涂層。
16.如權(quán)利要求1的感光體,其特征在于,在所說(shuō)的感光層上有一個(gè)保護(hù)層。
17.一種電攝影設(shè)備,包括一個(gè)如權(quán)利要求1的電攝影感光體,用于形成靜電潛影的裝置,使形成的靜電潛影的裝置以及使顯影的圖象轉(zhuǎn)印接受材料上的裝置。
18.如權(quán)利要求17的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(a)。
19.如權(quán)利要求17的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(b)。
20.一種組件單元,包括一個(gè)如權(quán)利要求1的電攝影感光體和至少一個(gè)充電裝置,顯影裝置及清潔裝置;其特征在于,所說(shuō)的感光體及所說(shuō)的至少一個(gè)充電裝置,顯影裝置和清潔裝置被整體地支撐而構(gòu)成不一單個(gè)的組件單元,該組件單元可根據(jù)需要在設(shè)備主體上拆裝。
21.如權(quán)利要求20的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(a)。
22.如權(quán)利要求20的感光體,其特征在于,所說(shuō)的感光層滿足條件(b)。
全文摘要
一種在導(dǎo)電基底上涂覆感光層而構(gòu)成的電攝影感光體。其特征是感光層含一種特定的芴化合物或含另一種特定的芴化合物以及一種特定的三苯基胺化合物。用于電攝影設(shè)備的感光層具有諸如高感度,在反復(fù)使用時(shí)的良好的電壓穩(wěn)定性,減弱的轉(zhuǎn)印記憶,感光層中無(wú)裂紋及電荷轉(zhuǎn)移材料不晶化等優(yōu)良的電攝影性能。
文檔編號(hào)G03G5/06GK1082726SQ9310636
公開日1994年2月23日 申請(qǐng)日期1993年4月23日 優(yōu)先權(quán)日1992年4月23日
發(fā)明者金丸哲郎, 菊地憲裕, 妹尾章弘, 田中孝和 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社
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