本實(shí)用新型是涉及一種光罩檢測裝置，尤其是涉及一種可對(duì)光罩的框架上的防塵膜進(jìn)行微粒檢測，且通過測距后升降調(diào)整的方式，對(duì)各檢測區(qū)域精準(zhǔn)采集檢測影像，以對(duì)應(yīng)產(chǎn)生防塵膜高度信息及檢測信息的光罩檢測裝置。

背景技術(shù)：

就現(xiàn)有的半導(dǎo)體組件制造技術(shù)來說，半導(dǎo)體組件的電路圖案是通過光罩將電路圖案轉(zhuǎn)印至晶圓的表面上形成的。

換言之，由于半導(dǎo)體組件的微小化，在制造半導(dǎo)體組件的過程中，光罩的缺陷將會(huì)大大影響硅晶圓表面之電路圖案的質(zhì)量，例如造成電路圖案之扭曲或變形；而，目前最常見的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此，為了維持光罩在使用期間的質(zhì)量，公知技術(shù)中光罩的表面上設(shè)置一種光罩保護(hù)薄膜(pellicle)，用以防止微粒掉落在光罩表面：然而，光罩保護(hù)膜的構(gòu)造中所包含防塵膜在設(shè)置過程中，可能會(huì)被微粒附著，進(jìn)而恐具有光罩在作業(yè)或運(yùn)送途中，位于防塵膜上的微粒掉落在光罩表面的風(fēng)險(xiǎn)。

承上述，如何在光罩的使用之前，將光罩保護(hù)薄膜的防塵膜上的微粒檢測出來，將是該相關(guān)產(chǎn)業(yè)亟需思考并解決的一大課題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于上述公知的問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種光罩檢測裝置，用以解決公知技術(shù)中所面臨的問題。

基于上述目的，本實(shí)用新型提供一種光罩檢測裝置，其包含檢測基座、移動(dòng)平臺(tái)、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)、承載平臺(tái)、激光測距模塊、垂直位移模塊、處理模塊及影像采集模塊。檢測基座的一面上設(shè)有支架。沿檢測基座作第一方向位移的移動(dòng)平臺(tái)設(shè)于檢測基座之的一面上，且位于檢測基座及支架之間。沿移動(dòng)平臺(tái)作與第一方向垂直的第二方向位移的轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)設(shè)于移動(dòng)平臺(tái)上。承載平臺(tái)設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)的一面上，承載平臺(tái)承載光罩，光罩包含基板、框架及防塵膜，框架設(shè)于基板的一面上，防塵膜設(shè)于框架上。對(duì)應(yīng)防塵膜的其中一個(gè)檢測區(qū)域產(chǎn)生測距信號(hào)的激光測距模塊設(shè)于支架一側(cè)距模塊。垂直位移模塊設(shè)于支架的一側(cè)。根據(jù)測距信號(hào)控制垂直位移模塊升降的處理模塊連結(jié)激光測距模塊及垂直位移模塊。于垂直位移模塊升降后，采集由激光測距模塊所測量的檢測區(qū)域的檢測影像的影像采集模塊連結(jié)處理模塊，且相鄰激光測距模塊而設(shè)置于垂直位移模塊上。其中，當(dāng)影像采集模塊采集其中一個(gè)檢測區(qū)域的檢測影像后，移動(dòng)平臺(tái)將下一個(gè)檢測區(qū)域移至對(duì)應(yīng)激光測距模塊及影像采集模塊的位置，以產(chǎn)生下一個(gè)檢測區(qū)域的測距信號(hào)及檢測影像，處理模塊根據(jù)多個(gè)測距信號(hào)產(chǎn)生防塵膜高度信息，且根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息。

較佳地，移動(dòng)平臺(tái)可包含轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)沿著位移的導(dǎo)軌。

較佳地，檢測信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其組合。

承上所述，本實(shí)用新型之光罩檢測裝置于影像采集模塊在采集其中一個(gè)檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過激光測距模塊對(duì)檢測區(qū)域進(jìn)行測量，待設(shè)有影像采集模塊的垂直位移模塊根據(jù)測距信號(hào)升降后，影像采集模塊再對(duì)該檢測區(qū)域進(jìn)行檢測影像的采集；以達(dá)到精密檢測之目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的效果。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的方塊圖。

圖3為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的光罩的第一示意圖。

圖4為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的光罩的第二示意圖。

圖5為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的檢測流程圖。

具體實(shí)施方式

為利貴審查員了解本實(shí)用新型的特征、內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所能達(dá)成的效果，茲將本實(shí)用新型配合附圖，并以實(shí)施例的表達(dá)形式詳細(xì)說明如下，而其中所使用的附圖，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本實(shí)用新型實(shí)施后的真實(shí)比例與精準(zhǔn)配置，故不應(yīng)就所附的附圖的比例與配置關(guān)系解讀、局限本實(shí)用新型于實(shí)際實(shí)施上的權(quán)利范圍。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)、特征以及達(dá)到的技術(shù)方法將參照例示性實(shí)施例及所附附圖進(jìn)行更詳細(xì)地描述而更容易理解，且本實(shí)用新型或可以不同形式來實(shí)現(xiàn)，故不應(yīng)被理解僅限于此處所陳述的實(shí)施例，相反地，對(duì)所屬技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識(shí)者而言，所提供的實(shí)施例將使本實(shí)用新型公開更加透徹與全面且完整地傳達(dá)本實(shí)用新型的范疇，且本實(shí)用新型將僅為所附加的權(quán)利要求所定義。

請(qǐng)參閱圖1至4；圖1為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的示意圖；圖2為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的方塊圖；圖3為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的光罩的第一示意圖；圖4為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的光罩的第二示意圖。如圖所示，本實(shí)用新型的光罩檢測裝置100包含了檢測基座110、移動(dòng)平臺(tái)120、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130、承載平臺(tái)140、激光測距模塊150、垂直位移模塊160、處理模塊170及影像采集模塊180。其中，移動(dòng)平臺(tái)120用以帶動(dòng)承載著光罩141的承載平臺(tái)140移動(dòng)位移，以使光罩141的防塵膜103的各檢測區(qū)域104依序移至對(duì)應(yīng)激光測距模塊150及影像采集模塊180的位置；垂直位移模塊160用以帶動(dòng)影像采集模塊180升降；處理模塊170連結(jié)移動(dòng)平臺(tái)120、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130、激光測距模塊150、垂直位移模塊160及影像采集模塊180，并用以控制移動(dòng)平臺(tái)120移動(dòng)、控制垂直位移模塊160升降，以及分析檢測影像以產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的檢測信息，且根據(jù)測距信號(hào)產(chǎn)生防塵膜高度信息。

換言之，檢測基座110的一面上設(shè)有支架111。移動(dòng)平臺(tái)120則設(shè)于檢測基座110設(shè)有支架111的一面上，且移動(dòng)平臺(tái)120位于檢測基座110及支架111之間，即，支架111橫亙于移動(dòng)平臺(tái)120之上；移動(dòng)平臺(tái)120可沿檢測基座110作第一方向位移。轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130設(shè)于移動(dòng)平臺(tái)120之上，且可沿著移動(dòng)平臺(tái)120作第二方向位移；其中；第一方向與第二方向互為垂直，換句話說，光罩141可通過移動(dòng)平臺(tái)于檢測基座110平面上作相對(duì)檢測基座110的X軸及Y軸方向的位移。

承載平臺(tái)140設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130的一面上，承載平臺(tái)140承載光罩141；如圖3所示，光罩141包含基板101、框架102及防塵膜103，框架102設(shè)于基板101的一面上，防塵膜103設(shè)于框架102上，而防塵膜103上具有多個(gè)檢測區(qū)域104，即為測量及檢測的目標(biāo)對(duì)象。

激光測距模塊150設(shè)于支架111的一側(cè)，用以測量防塵膜103中之多個(gè)檢測區(qū)域104，激光測距模塊150對(duì)應(yīng)防塵膜103的其中一個(gè)檢測區(qū)域104產(chǎn)生測距信號(hào)。垂直位移模塊160設(shè)于支架111一側(cè)。處理模塊170根據(jù)測距信號(hào)控制垂直位移模塊160升降。影像采集模塊180相鄰激光測距模塊150而設(shè)置于垂直位移模塊160上，且于垂直位移模塊160升降后，采集由激光測距模塊150所測量的檢測區(qū)域104的檢測影像。其中，通過處理模塊170控制垂直位移模塊160升降，以使所欲采集的檢測區(qū)域104與影像采集模塊180的距離符合影像采集模塊180的焦距；而，垂直位移模塊160較佳是以垂直移動(dòng)平臺(tái)120的方向升降，即使影像采集模塊180相對(duì)防塵膜103進(jìn)行升降作動(dòng)。

而，當(dāng)影像采集模塊180采集其中一個(gè)檢測區(qū)域104的檢測影像后，移動(dòng)平臺(tái)120將下一個(gè)檢測區(qū)域104移至對(duì)應(yīng)激光測距模塊150及影像采集模塊180的位置，以產(chǎn)生下一個(gè)檢測區(qū)域104的測距信號(hào)及檢測影像；通過上述方式，取得各檢測區(qū)域104的測距信號(hào)及檢測影像，以使處理模塊170可根據(jù)多個(gè)測距信號(hào)產(chǎn)生防塵膜高度信息，且根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息；其中，檢測信息包含檢測區(qū)域中的微粒相關(guān)信息，如微粒位置、微粒尺寸等。

承上述，移動(dòng)平臺(tái)120進(jìn)一步可包含導(dǎo)軌121，轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130位于導(dǎo)軌121之上，進(jìn)而轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130可沿著導(dǎo)軌121進(jìn)行第二方向位移。

如圖4所示，由于可能因氣壓改變而使得防塵膜103與基板101之間的空間中的氣體產(chǎn)生膨脹，而造成防塵膜103凸起，凸起的防塵膜103在光罩141的使用過程中，將可能產(chǎn)生防塵膜103破裂而沾附在光罩141上的情況；因此，通過激光測距模塊150對(duì)各檢測區(qū)域104產(chǎn)生測距信號(hào)之后，處理模塊170便可根據(jù)多個(gè)測距信號(hào)產(chǎn)生防塵膜高度信息，且可進(jìn)一步將防塵膜高度信息匯整而以附圖表示，以事先將過度凸起的光罩141取出，達(dá)到掌握防塵膜103膨脹情況的效果。

請(qǐng)參閱圖5，其為本實(shí)用新型的光罩檢測裝置的檢測流程圖。如圖所示，本實(shí)用新型的光罩檢測裝置可包含下列檢測步驟：

在步驟S51中：測量位于預(yù)設(shè)位置的光罩的防塵膜中的其中一個(gè)檢測區(qū)域，并對(duì)應(yīng)產(chǎn)生測距信號(hào)。預(yù)設(shè)位置是指激光測距模塊可進(jìn)行測量及影像采集模塊可進(jìn)行檢測影像的采集的位置。

在步驟S52中：根據(jù)測距信號(hào)控制設(shè)于垂直位移模塊上的影像采集模塊升降。

在步驟S53中：采集對(duì)應(yīng)測距信號(hào)的檢測區(qū)域的檢測影像。

在步驟S54中：通過移動(dòng)平臺(tái)將另一個(gè)檢測區(qū)域移至預(yù)設(shè)位置，并對(duì)應(yīng)產(chǎn)生測距信號(hào)及采集檢測影像。

反復(fù)執(zhí)行上述中步驟S51至步驟S54直至所有檢測區(qū)域都測量且檢測完畢。

在步驟S55中：測量多個(gè)檢測區(qū)域后，根據(jù)多個(gè)測距信號(hào)產(chǎn)生防塵膜高度信息。

在步驟S56中：采集多個(gè)檢測區(qū)域之多個(gè)檢測影像后，根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息。

承上所述，本實(shí)用新型的光罩檢測裝置于影像采集模塊在采集其中一個(gè)檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過激光測距模塊對(duì)該檢測區(qū)域進(jìn)行測量，待設(shè)有影像采集模塊的垂直位移模塊根據(jù)測距信號(hào)升降后，影像采集模塊再對(duì)該檢測區(qū)域進(jìn)行檢測影像的采集；以達(dá)到精密檢測之目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

以上所述之實(shí)施例僅為說明本實(shí)用新型之技術(shù)思想及特點(diǎn)，其目的在使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，當(dāng)不能以之限定本實(shí)用新型之專利范圍，即大凡依本實(shí)用新型所公開的精神所作的均等變化或修飾，仍應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求內(nèi)。