本發(fā)明涉及光學(xué)膜的制造方法。

背景技術(shù)：

光學(xué)膜是可將光透射或反射吸收的膜，可發(fā)揮折射、雙折射、防反射、視野角擴(kuò)大、光漫射及亮度提高等的光學(xué)功能。

光學(xué)膜作為紅外屏蔽膜、紫外線屏蔽膜、防反射膜、取向膜、偏振膜、偏振片保護(hù)膜、相位差膜、視野角擴(kuò)大膜、亮度提高膜及電磁波屏蔽膜等在液晶顯示器(lcd)、等離子體顯示器(pdp)等的平板顯示器(fpd)、或者建筑物、車輛的窗玻璃等中使用。

作為光學(xué)膜的一例，可列舉出形成至少2層以上的光學(xué)功能層而使用的光學(xué)膜。作為光學(xué)膜，例如已知分別調(diào)整高折射率層和低折射率層的光學(xué)膜厚、具有在基材的表面層疊的多層層疊膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜。已知這樣的膜選擇性地反射特定的波長的光，具有多層層疊膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜已用作光學(xué)反射膜。

就光學(xué)反射膜而言，只通過調(diào)整各層的膜厚、折射率，就能夠控制反射波長。由此，就光學(xué)反射膜而言，通過與其使用目的相符的設(shè)計，能夠?qū)τ诩t外線、紫外線、可見光選擇性地使其反射。

其中，特別地，由于近年來的對于節(jié)能對策的關(guān)心的高漲，從減少對冷氣設(shè)備施加的負(fù)荷的觀點出發(fā)，安裝于建筑物、車輛的窗玻璃而將太陽光的熱線的透過進(jìn)行阻斷的紅外屏蔽膜的期望正在提高。

作為紅外屏蔽膜的形成方法，主要提案有使用蒸鍍法、濺射法等的干式制膜法來形成由使高折射率層和低折射率層交替地層疊的構(gòu)成所組成的層疊膜的方法。但是，就干式制膜法而言，在形成中所使用的真空裝置等變?yōu)榇笮?，制造成本高，大面積化是困難的，而且基材被限定于耐熱性原材料。

已知有代替具有上述這樣的課題的干式制膜法而使用濕式涂布法來形成紅外屏蔽膜的方法(例如參照日本特開2009-86659號公報)。

作為一般用濕式涂布在基材上制作2層以上的層疊膜的方法，有1層1層地涂布·干燥而進(jìn)行層疊的逐次涂布和同時將多個層涂布的同時多層涂布。作為逐次涂布，有旋涂法、棒涂法、刮刀涂布、照相凹版涂布等，特別是在制作光學(xué)反射膜等的多層膜的情況下，由于涂布·干燥次數(shù)增多，因此生產(chǎn)率低。另一方面，作為同時多層涂布，有使用了簾式涂布、滑珠(スライドビード)涂布等的方法，由于能夠同時形成多個層，因此生產(chǎn)率高，因此優(yōu)選采用同時多層涂布。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

同時多層涂布如上述那樣具有生產(chǎn)率高的優(yōu)點。但是，在以往的方法中，存在所制造的光學(xué)膜的涂布故障容易發(fā)生的問題。

因此，本發(fā)明的目的為提供使用了同時多層涂布的、能夠減少光學(xué)膜的涂布故障的制造方法。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的上述課題通過以下的手段而得到解決。

即，光學(xué)膜的制造方法，其是在基材上形成有至少2層以上的光學(xué)功能層的光學(xué)膜的制造方法，具有：通過動態(tài)粘彈性測定來確認(rèn)形成上述各光學(xué)功能層的涂布液的損耗彈性模量的損耗彈性模量確認(rèn)工序、和在基材上將形成上述各光學(xué)功能層的涂布液進(jìn)行同時多層涂布的涂布工序，在上述涂布工序中形成上述各光學(xué)功能層的涂布液的、由下述式1定義的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下時進(jìn)行涂布。

δg”＝g”(60)-g”(0)(式1)

(其中，g”(60)表示測定時間60分鐘時的損耗彈性模量的值，g”(0)表示測定時間0分鐘時的損耗彈性模量的值。)

附圖說明

圖1為可用作分散裝置的一實施方式的乳化分散機(jī)的示意圖。在圖1中，1表示定子齒，2表示轉(zhuǎn)子齒，4及5表示剪切對象液(形成光學(xué)功能層的涂布液)，以及l(fā)a表示間隙。

圖2為可用作分散裝置的一實施方式的壓力式均化器的示意圖。在圖2中，11表示閥片，12表示閥，14表示剪切對象液(形成光學(xué)功能層的涂布液)，以及l(fā)b表示間隙。

圖3為可用作一實施方式的光學(xué)膜制造系統(tǒng)的概略構(gòu)成圖。在圖3中，101表示涂布液制備釜，102、105及109表示送液裝置，103及108表示過濾裝置，104表示涂布液貯存釜，106表示分散裝置，107表示脫泡裝置，114表示涂布裝置，115表示固化裝置，116表示干燥裝置，117表示光學(xué)膜制造系統(tǒng)，l1表示供給路徑，以及r1表示循環(huán)路徑。

具體實施方式

本發(fā)明的一方式為光學(xué)膜的制造方法，其是在基材上形成有至少2層以上的光學(xué)功能層的光學(xué)膜的制造方法，具有：通過動態(tài)粘彈性測定來確認(rèn)形成上述各光學(xué)功能層的涂布液的損耗彈性模量的損耗彈性模量確認(rèn)工序、和在基材上將形成上述各光學(xué)功能層的涂布液進(jìn)行同時多層涂布的涂布工序，在上述涂布工序中形成上述各光學(xué)功能層的涂布液的、由下述式1定義的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下時進(jìn)行涂布。

δg”＝g”(60)-g”(0)(式1)

(其中，g”(60)表示測定時間60分鐘時的損耗彈性模量的值，g”(0)表示測定時間0分鐘時的損耗彈性模量的值。)

根據(jù)這樣的構(gòu)成，可以提供使用了同時多層涂布的、能夠減少光學(xué)膜的涂布故障的制造方法。

本發(fā)明人為了解決在以往的方法中發(fā)生了光學(xué)膜的涂布故障的問題，進(jìn)行了深入研究。

在其過程中，發(fā)現(xiàn)涂布液的損耗彈性模量(g”)的增加與作為涂布故障的拖尾、條紋等的膜面缺陷有關(guān)，關(guān)注于這點。

在此，本發(fā)明人推測：在涂布機(jī)的間隙間及涂布時的膜面上發(fā)生來自涂布液的凝聚、由于其凝聚體的存在而涂布液的流動部分地發(fā)生變化，由此涂布故障發(fā)生。另外推測：涂布液中的凝聚發(fā)生的程度與涂布液的損耗彈性模量(g”)的值有關(guān)，凝聚體的數(shù)量越增多，或者尺寸越變大，則其值越增加。予以說明，就凝聚而言，推測由于因分子間力所引起的凝聚、因交聯(lián)反應(yīng)的進(jìn)行所引起的化學(xué)交聯(lián)的進(jìn)行、以及因高分子鏈的纏結(jié)的發(fā)生等所引起的物理交聯(lián)的進(jìn)行等而發(fā)生。

對此，以往沒有關(guān)注涂布液的損耗彈性模量(g”)的增加為涂布故障發(fā)生的原因，未能穩(wěn)定地供給涂布故障的發(fā)生得到了抑制的光學(xué)膜。

因此，本發(fā)明人對于形成各光學(xué)功能層的涂布液，設(shè)置在涂布液制備后測定動態(tài)粘彈性而進(jìn)行損耗彈性模量的確認(rèn)的損耗彈性模量確認(rèn)工序，進(jìn)而，在涂布工序中使用損耗彈性模量的時間變化為一定值以下的涂布液。

發(fā)現(xiàn)通過這樣做能夠抑制涂布故障的發(fā)生、穩(wěn)定地提供外觀優(yōu)異的光學(xué)膜，完成了本發(fā)明。

予以說明，本發(fā)明的一方式在長時間涂布時顯現(xiàn)出更為顯著的效果。對于這點，本發(fā)明人推測是因為：由于經(jīng)時，容易發(fā)生來自涂布液的凝聚，因此更為顯著地得到本發(fā)明的效果。

應(yīng)予說明，以上述為起點，本申請中記載的機(jī)理基于推測，其正確和錯誤不會對本發(fā)明的技術(shù)范圍產(chǎn)生影響。

以下，對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明。應(yīng)予說明，本發(fā)明并不只限定于以下的實施方式。另外，附圖的尺寸比率為了說明的方便而進(jìn)行了夸大，有時與實際的比率不同。

另外，只要無特別說明，操作及物性等的測定在室溫(20～25℃)/相對濕度40～50％rh的條件下進(jìn)行測定。

以下，對本發(fā)明的光學(xué)膜的制造方法詳細(xì)地說明。

[光學(xué)膜的制造方法]

在本發(fā)明的一方式涉及的光學(xué)膜的制造方法中，對形成各光學(xué)功能層的涂布液(本說明書中也稱為“涂布液”)并無特別限制，可使用市售的涂布液，另外，也可使用為了得到作為光學(xué)功能層所期望的特性而制備的涂布液。

(涂布液的制備方法)

以下，對形成光學(xué)功能層的涂布液的制備方法進(jìn)行說明。

對涂布液的制備方法并無特別限制，可列舉出添加具有所期望的功能的材料、進(jìn)行攪拌混合的方法。此時，對各成分的添加順序也無特別限制，可一邊攪拌一邊依次添加各成分進(jìn)行混合，另外也可一邊攪拌一邊一次地添加而混合。就涂布液而言，根據(jù)需要可進(jìn)一步使用溶劑來調(diào)整為適當(dāng)?shù)恼扯取?/p>

在以下的說明中，主要對于將折射率不同的折射率層層疊而成的光學(xué)反射膜、特別是紅外屏蔽膜的制造方法進(jìn)行說明，但本發(fā)明的對象并不限定于此。應(yīng)予說明，光學(xué)反射膜相當(dāng)于光學(xué)膜，折射率層相當(dāng)于光學(xué)功能層。

作為被同時多層涂布的涂布液，并無特別限制，例如能夠優(yōu)選使用形成構(gòu)成光學(xué)反射膜的高折射率層及低折射率層的涂布液(本說明書中，也簡稱為“高折射率層用涂布液”和“低折射率層用涂布液”)。作為涂布液，此外可列舉出具有高折射率層和低折射率層的中間的折射率的中折射率層用的涂布液；用于使涂布變得容易的低粘度的滑移層用的涂布液；為了抑制在滑動面的涂布液的縮流而在最上層能夠使用的低表面張力的涂布液等。

就對于各折射率層的涂布液而言，優(yōu)選含有無機(jī)氧化物粒子、高分子、交聯(lián)成分、或者根據(jù)需要所添加的其他的添加劑、或溶劑等。應(yīng)予說明，本說明書中，將相對于另一方、折射率高的折射率層稱為高折射率層，將相對于另一方、折射率低的折射率層稱為低折射率層。

以下，對構(gòu)成涂布液的各成分詳述。

(交聯(lián)成分)

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為光學(xué)膜的制造方法，其中，形成各光學(xué)功能層的涂布液的至少1者含有交聯(lián)成分。

交聯(lián)成分具有使涂布液構(gòu)成成分交聯(lián)的功能。

在涂布液含有交聯(lián)成分時，也可能有時無意的交聯(lián)反應(yīng)經(jīng)時地進(jìn)行。此時，認(rèn)為：由于在涂布液中由于交聯(lián)而產(chǎn)生的凝聚體的數(shù)量或大小分別經(jīng)時地增加，因此損耗彈性模量也經(jīng)時地增加。

由此，在本發(fā)明的一方式涉及的光學(xué)膜的制造方法中，在形成各光學(xué)功能層的涂布液的至少1者含有交聯(lián)成分的情況下，得到更為顯著的涂布故障的減輕效果。

在此，在通過交聯(lián)成分使后述的水溶性高分子交聯(lián)的情況下，可對折射率層賦予耐水性。在以下對將高分子交聯(lián)的交聯(lián)成分進(jìn)行說明，但交聯(lián)成分并不限定于此。

作為可使用的交聯(lián)成分，只要與高分子發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，則并無特別限制。在高分子為未改性聚乙烯醇或改性聚乙烯醇的情況下，例如優(yōu)選使用硼酸及其鹽(以硼原子作為中心原子的含氧酸及其鹽)等，更具體地，原硼酸、二硼酸、偏硼酸、四硼酸、五硼酸、八硼酸或它們的鹽等。硼酸及其鹽可單獨使用，也可使用2種以上。

作為交聯(lián)成分，此外也能夠使用公知的化合物。交聯(lián)成分一般為具有可與高分子反應(yīng)的基團(tuán)的化合物、或者促進(jìn)樹脂所具有的不同的基團(tuán)之間的反應(yīng)的化合物，根據(jù)樹脂的種類適當(dāng)?shù)剡x擇使用。作為交聯(lián)成分的具體例，并無特別限制，例如可列舉出二縮水甘油基乙基醚、乙二醇二縮水甘油基醚、1,4-丁二醇二縮水甘油基醚、1,6-二縮水甘油基環(huán)己烷、n,n-二縮水甘油基-4-縮水甘油氧基苯胺、山梨醇多縮水甘油基醚、甘油多縮水甘油基醚等的環(huán)氧系交聯(lián)成分；甲醛、乙二醛等的醛系交聯(lián)成分；2,4-二氯-4-羥基-1,3,5-s-三嗪等的活性鹵素系交聯(lián)成分；1,3,5-三-丙烯酰基-六氫-s-三嗪、雙乙烯基磺?；谆训鹊幕钚砸蚁┗祷衔?；鋁明礬等。

予以說明，涂布液中的交聯(lián)成分的濃度，以固體成分換算計，優(yōu)選為0.001～2質(zhì)量％。如果交聯(lián)成分在上述范圍，則涂布液具有一定的拉絲性、粘性，對于成膜變得更為有利，另外，所形成的折射率層可具有更為優(yōu)選的耐水性，因此優(yōu)選。另外，在涂布液中的交聯(lián)成分的濃度以固體成分換算計為0.001～1質(zhì)量％時，能夠使涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)更小，因此更優(yōu)選。涂布液中的交聯(lián)成分的濃度更優(yōu)選為0.01～1質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為0.05～0.20質(zhì)量％。

另外，就光學(xué)功能層中的交聯(lián)成分的含量而言，相對于光學(xué)功能層全體的質(zhì)量，優(yōu)選為0.02～20質(zhì)量％。如果交聯(lián)成分的含量在上述范圍內(nèi)，則充分地確保光學(xué)功能層的作為膜的強(qiáng)度，因此優(yōu)選。從同樣的觀點出發(fā)，光學(xué)功能層中的交聯(lián)成分的含量更優(yōu)選為0.2～10質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5～2質(zhì)量％。

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為光學(xué)膜的制造方法，其中，形成光學(xué)功能層的涂布液的至少1者含有高分子和無機(jī)氧化物粒子。

(高分子)

就能夠使用的高分子而言，并無特別限制，例如可列舉出聚乙烯醇類、聚乙烯基吡咯烷酮類、聚丙烯酸、丙烯酸-丙烯腈共聚物、丙烯酸鉀-丙烯腈共聚物、醋酸乙烯酯-丙烯酸酯共聚物、或者丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等丙烯酸系樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸共聚物、或者苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等苯乙烯丙烯酸樹脂、苯乙烯-苯乙烯磺酸鈉共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羥基乙酯-苯乙烯磺酸鉀共聚物、苯乙烯-馬來酸共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、乙烯基萘-丙烯酸共聚物、乙烯基萘-馬來酸共聚物、醋酸乙烯酯-馬來酸酯共聚物、醋酸乙烯酯-巴豆酸共聚物、醋酸乙烯酯-丙烯酸共聚物等的醋酸乙烯酯系共聚物和這些的鹽等的合成水溶性高分子；明膠、增稠多糖類等的天然水溶性高分子等。

即使在這些高分子中，從制造時的處理和膜的柔軟性的方面出發(fā)，優(yōu)選為聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮類和含有其的共聚物、明膠、增稠多糖類(特別是纖維素類)，從光學(xué)特性的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為聚乙烯醇。這些高分子可以1種單獨地使用，也可將2種以上并用而使用。

就本發(fā)明的一實施方式中使用的聚乙烯醇而言，可使用合成品，或者也可使用市售品。作為聚乙烯醇使用的市售品并無特別限制，例如可列舉出pva-102、pva-103、pva-105、pva-110、pva-117、pva-120、pva-124、pva-135、pva-203、pva-205、pva-210、pva-217、pva-220、pva-224、pva-235、pva-617(以上為株式會社クラレ制造)、jc-25、jc-33、jf-03、jf-04、jf-05、jp-03、jp-04、jp-05、jp-45(以上為日本酢ビ·ポバール株式會社制造)等。

作為優(yōu)選使用的聚乙烯醇，除了將聚醋酸乙烯酯水解而得到的通常的聚乙烯醇以外，也包含改性聚乙烯醇。作為改性聚乙烯醇，并無特別限制，例如可列舉出陽離子改性聚乙烯醇、陰離子改性聚乙烯醇、非離子改性聚乙烯醇、乙烯醇系聚合物等。

將醋酸乙烯酯水解而得到的聚乙烯醇的平均聚合度優(yōu)選100以上。如果為該范圍，則具有與金屬氧化物的吸附更為優(yōu)異、金屬氧化物的分散性變得更為良好的效果。從同樣的觀點出發(fā)，平均聚合度更優(yōu)選為200～5,000。進(jìn)而，除了上述效果，從能夠使涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)進(jìn)一步變小的觀點出發(fā)，平均聚合度更優(yōu)選為200～3000。其中，平均聚合度是指粘均聚合度，按照jisk6726：1994測定。

另外，皂化度優(yōu)選70～100摩爾％。如果為該范圍，則具有在水中的溶解性良好、涂布后的膜缺陷變少的效果。從同樣的觀點出發(fā)，皂化度更優(yōu)選為80～99.5摩爾％。

作為陽離子改性聚乙烯醇，并無特別限制，例如可列舉出日本特開昭61-10483號公報中記載的、在上述聚乙烯醇的主鏈或側(cè)鏈中具有伯～叔氨基、季銨基的聚乙烯醇，陽離子改性聚乙烯醇例如通過將具有陽離子性基團(tuán)的烯屬不飽和單體和醋酸乙烯酯的共聚物皂化等而得到。

對陰離子改性聚乙烯醇并無特別限制，例如可列舉出日本特開平1-206088號公報中記載的、具有陰離子性基團(tuán)的聚乙烯醇、日本特開昭61-237681號公報和日本特開昭63-307979號公報中記載的、乙烯醇和具有水溶性基團(tuán)的乙烯基化合物的共聚物和日本特開平7-285265號公報中記載的具有水溶性基團(tuán)的改性聚乙烯醇等。

另外，作為非離子改性聚乙烯醇，并無特別限制，例如可列舉出日本特開平7-9758號公報中記載的、使聚氧化烯基加成于乙烯醇的一部分的聚乙烯醇衍生物、日本特開平8-25795號公報中記載的具有疏水性基團(tuán)的乙烯基化合物與乙烯醇的嵌段共聚物、具有硅烷醇基的硅烷醇改性聚乙烯醇、具有乙酰乙?；Ⅳ驶?、羧基等反應(yīng)性基團(tuán)的反應(yīng)性基團(tuán)改性聚乙烯醇等。另外，作為乙烯醇系聚合物，可列舉出エクセバール(商品名：株式會社クラレ制造)、ニチゴーgポリマー(商品名：日本合成化學(xué)工業(yè)株式會社制造)等。

就聚乙烯醇而言，也能夠?qū)⒕酆隙?、改性的種類不同等的2種以上并用。在使聚乙烯醇為2種以上的情況下，可分別添加各聚乙烯醇。

高分子的重均分子量優(yōu)選1,000以上且200,000以下，更優(yōu)選3,000以上且40,000以下。重量平均分子量例如能夠使用凝膠滲透色譜(gpc)在下述測定條件下測定。

予以說明，涂布液中的高分子的濃度以固體成分換算計優(yōu)選為0.9～10質(zhì)量％。如果高分子的濃度在上述范圍內(nèi)，則涂布液具有一定的粘性，對于制膜可變得有利，因此優(yōu)選。從同樣的觀點出發(fā)，高分子的濃度更優(yōu)選為1～8質(zhì)量％。

另外，光學(xué)功能層中的高分子的含量相對于光學(xué)功能層全體的質(zhì)量優(yōu)選為18～70質(zhì)量％。如果高分子的含量在上述范圍內(nèi)，則充分地確保光學(xué)功能層的作為膜的強(qiáng)度，因此優(yōu)選。從同樣的觀點出發(fā)，高分子的含量更優(yōu)選為20～65質(zhì)量％。

(無機(jī)氧化物粒子)

作為無機(jī)氧化物粒子，并無特別限制，例如能夠使用選自li、na、mg、al、k、ca、sc、ti、v、cr、mn、fe、co、ni、cu、zn、rb、sr、y、nb、zr、mo、ag、cd、in、sn、sb、cs、ba、la、ta、hf、w、ir、tl、pb、bi和稀土類金屬、以及硅(si)中的1種或2種以上的無機(jī)氧化物等。

無機(jī)氧化物粒子的平均粒徑以優(yōu)選的順序表示，優(yōu)選為100nm以下、4～50nm、4～30nm。其中，平均粒徑是指一次平均粒徑。就無機(jī)氧化物粒子的平均粒徑而言，在對無機(jī)氧化物粒子進(jìn)行了被覆處理的情況下(例如二氧化硅附著氧化鈦等)，無機(jī)氧化物粒子的平均粒徑是指母體(二氧化硅附著氧化鈦的情況下為處理前的氧化鈦)的平均粒徑。

在低折射率層用涂布液中，優(yōu)選使用氧化硅(二氧化硅、sio2)作為無機(jī)氧化物粒子。其中，作為氧化硅，例如可列舉出合成非晶質(zhì)二氧化硅、膠體二氧化硅等。予以說明，膠體二氧化硅能夠通過硅酸鈉的采用酸等的復(fù)分解、將通過離子交換樹脂層而得到的硅溶膠加熱熟化而得到。作為這樣的膠體二氧化硅，并無特別限制，例如能夠使用日本特開昭57-14091號公報、日本特開昭60-219083號公報、日本特開昭60-219084號公報、日本特開昭61-20792號公報、日本特開昭61-188183號公報、日本特開昭63-17807號公報、日本特開平4-93284號公報、日本特開平5-278324號公報、日本特開平6-92011號公報、日本特開平6-183134號公報、日本特開平6-297830號公報、日本特開平7-81214號公報、日本特開平7-101142號公報、日本特開平7-179029號公報、日本特開平7-137431號公報和國際公開第94/26530號小冊子等中記載的膠體二氧化硅等。另外，這樣的氧化硅(sio2)可使用市售品。作為市售的膠體二氧化硅，并無特別限制，例如可列舉出スノーテックス(注冊商標(biāo))oxs(日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造)等。

作為高折射率層用涂布液中所含有的無機(jī)氧化物，并無特別限制，例如可列舉出氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁(alumina)、氧化鋯、氧化鉿、氧化鈮、氧化鉭、氧化鎂、氧化鋇、氧化銦、氧化錫、氧化鉛、作為由這些氧化物構(gòu)成的復(fù)合氧化物的鈮酸鋰、鈮酸鉀、鉭酸鋰、鋁·鎂氧化物(mgal2o4)等的粒子和復(fù)合粒子。作為無機(jī)氧化物，從形成透明、折射率更高的高折射率層的觀點出發(fā)，優(yōu)選為鈦、氧化鋯等的高折射率無機(jī)氧化物微粒，即，氧化鈦微粒、氧化鋯微粒，更優(yōu)選為金紅石型(正方晶形)二氧化鈦粒子。

另外，作為氧化鈦粒子，并無特別限制，例如可使用對水系的氧化鈦溶膠的表面進(jìn)行改性而使分散狀態(tài)穩(wěn)定了的產(chǎn)物、如國際公開第2013/054912號中記載那樣用含硅的水合氧化物將氧化鈦粒子被覆了的產(chǎn)物等、采用公知的方法制造的核殼粒子。作為用含硅的水合氧化物將氧化鈦粒子被覆了的產(chǎn)物，例如可列舉出使sio2附著于金紅石型二氧化鈦粒子的表面的二氧化硅附著二氧化鈦溶膠等。

予以說明，對涂布液中的無機(jī)氧化物粒子的濃度并無特別限制，以固體成分換算計，優(yōu)選為1～15質(zhì)量％。如果涂布液中的無機(jī)氧化物粒子的含量為1質(zhì)量％以上，則更容易得到所期望的折射率，因此優(yōu)選。另外，如果涂布液中的無機(jī)氧化物粒子的含量為15質(zhì)量％以下，則膜的柔軟性提高，制膜變得更為容易，因此優(yōu)選。從同樣的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為2～10質(zhì)量％。

另外，相對于光學(xué)功能層全體的質(zhì)量，光學(xué)功能層中的無機(jī)氧化物粒子的含量優(yōu)選為20～90質(zhì)量％。如果無機(jī)氧化物粒子的含量在上述范圍內(nèi)，則光學(xué)膜的光反射效率進(jìn)一步提高，因此優(yōu)選。從同樣的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為35～80質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為55～75質(zhì)量％。

(其他添加劑)

作為其他添加劑，并無特別限制，例如可列舉出日本特開昭57-74193號公報、日本特開昭57-87988號公報和日本特開昭62-261476號公報等中記載的紫外線吸收劑、陰離子、陽離子或非離子的各種表面活性劑、硫酸、磷酸、醋酸、檸檬酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鉀等ph調(diào)節(jié)劑、消泡劑、二甘醇等的潤滑劑、防腐劑、防霉劑、抗靜電劑、消光劑、抗氧化劑、阻燃劑、紅外線吸收劑、色素、顏料、乳液樹脂、粘度調(diào)節(jié)劑、觸變性賦予劑等公知的各種添加劑等。另外，只要是本領(lǐng)域技術(shù)人員，它們的添加量也能夠適當(dāng)?shù)卮_定，它們的混合也能夠參照以往公知的常識、或者將其組合而進(jìn)行。

在此，檸檬酸可作為ph調(diào)節(jié)劑來發(fā)揮功能。予以說明，涂布液中的檸檬酸的濃度以固體成分換算計，優(yōu)選為0.01～2質(zhì)量％。如果檸檬酸在上述范圍內(nèi)，則從確保高分子和金屬氧化物的在液體中的穩(wěn)定性、抑制凝聚的觀點出發(fā)而優(yōu)選。另外，涂布液中的檸檬酸的濃度以固體成分換算計，為0.01～1質(zhì)量％時，能夠進(jìn)一步使涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)變小，因此特別優(yōu)選。

另外，涂布液中的表面活性劑的濃度以固體成分換算計，優(yōu)選為0.005～0.3質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.005～0.1質(zhì)量％。

(溶劑)

作為溶劑，并無特別限制，例如可列舉出水、有機(jī)溶劑、或者它們的混合溶劑等。作為上述有機(jī)溶劑，并無特別限制，例如可列舉出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇等的醇類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯等的酯類；二乙基醚、丙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等的醚類；二甲基甲酰胺、n-甲基吡咯烷酮等的酰胺類；丙酮、甲乙酮、乙酰丙酮、環(huán)己酮等的酮類等。這些有機(jī)溶劑可單獨使用或者將2種以上混合使用。從環(huán)境方面、操作的簡便性等的觀點出發(fā)，作為涂布液的溶劑，優(yōu)選使用水、或者水和甲醇、乙醇、或醋酸乙酯的混合溶劑，更優(yōu)選使用水。

(損耗彈性模量確認(rèn)工序)

本發(fā)明的一方式涉及的光學(xué)膜的制造方法具有通過動態(tài)粘彈性測定來確認(rèn)形成各光學(xué)功能層的涂布液的損耗彈性模量的損耗彈性模量確認(rèn)工序。

損耗彈性模量確認(rèn)工序是測定所制備的涂布液的損耗彈性模量、確認(rèn)由下述式1定義的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的工序。

δg”＝g”(60)-g”(0)(式1)

(其中，g”(60)表示測定時間60分鐘時的損耗彈性模量的值，g”(0)表示測定時間0分鐘時的損耗彈性模量的值。)

在涂布液中存在其損耗彈性模量經(jīng)時地進(jìn)行變化，在這樣的涂布液中，伴隨著經(jīng)時的損耗彈性模量的增加，涂布故障的發(fā)生頻率增加。在此，在用比測定時間60分鐘短的時間來確認(rèn)了損耗彈性模量的時間變化的情況下，在發(fā)生涂布故障的情況與沒有發(fā)生涂布故障的情況的比較中，兩者的測定結(jié)果的差異小，檢測精度有可能降低。認(rèn)為這是因為：在如上述這樣的短的測定時間內(nèi)，可能存在涂布時成為涂布故障的原因的凝聚體的數(shù)非常少、或者尺寸非常小的情況。因此，為了得到足夠的檢測精度，使用與涂布故障的相關(guān)良好的測定時間60分鐘時的測定值作為評價指標(biāo)。

予以說明，如果測定開始時(測定時間0分鐘)與測定時間60分鐘時的損耗彈性模量的差值，即損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下，則作為涂布故障的拖尾、條紋等面狀缺陷的發(fā)生得到抑制。

損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的結(jié)果，就其值成為3.0以下的涂布液而言，在比60分鐘短的時間下幾乎不引起使涂布故障發(fā)生的頻率的凝聚的發(fā)生和使涂布故障發(fā)生的尺寸的凝聚體的發(fā)生。此時，由于在一般的涂布工序中在比60分鐘短的時間內(nèi)涂布液從涂布機(jī)中被排出、在膜上相接，由此推測涂布故障得到抑制。

由此，假設(shè)損耗彈性模量確認(rèn)工序中的測定的結(jié)果為損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0時，在后述的損耗彈性模量調(diào)整工序中需要調(diào)整涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)以使得成為3.0以下。

這樣涂布液經(jīng)過確認(rèn)損耗彈性模量的時間變化(δg”)的工序，進(jìn)而根據(jù)需要經(jīng)過調(diào)整損耗彈性模量的時間變化(δg”)的工序，由此能夠穩(wěn)定地且可靠地提供抑制了涂布故障的光學(xué)膜。

其中，涂布液的損耗彈性模量(g”)能夠通過使用了流變儀的動態(tài)粘彈性測定、例如在下述的裝置和條件下測定。

裝置：rheostress6000(thermoscientific公司制造)

傳感器系統(tǒng)：錐板(圓錐半徑60mm、圓錐角度＝1°)

剪切應(yīng)力：0.5pa

測定頻率：1hz

測定時間：60分鐘

測定溫度：35℃

樣品量：1ml

應(yīng)予說明，因為損耗彈性模量的時間變化(δg”)的判斷需要60分鐘的時間，認(rèn)為在算出了值的時刻，測定中使用的涂布液的狀態(tài)與測定開始時的狀態(tài)相比發(fā)生了變化。例如，測定中使用的溶液在測定開始時具有損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的狀態(tài)，但在測定結(jié)束后認(rèn)為也可能變化到損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的狀態(tài)。

因此，在本發(fā)明的一方式中的光學(xué)膜的制造中，作為損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下的涂布液，能夠?qū)p耗彈性模量的時間變化(δg”)被推定為3.0以下的涂布液在后述的涂布工序中使用。即，作為在后述的涂布工序中進(jìn)行涂布的涂布液，能夠準(zhǔn)備與損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的涂布液相同狀態(tài)的溶液而使用。作為該涂布液，也可與進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液自身獨立地重新準(zhǔn)備配方與進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液相同、并且涂布液制備后經(jīng)過了與直至損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的時間相同時間的涂布液。另外，在損耗彈性模量的時間變化(δg”)起因于可逆的變化而發(fā)生的體系中，對于進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液，根據(jù)需要可在后述的損耗彈性模量調(diào)整工序中進(jìn)行調(diào)整以使損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下而使用。

另外，損耗彈性模量確認(rèn)工序可通過使用配方與光學(xué)膜的制造中使用的涂布液相同、并且使其經(jīng)過與涂布液制備后直至損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的時間相同時間而制備的模擬液，相對于實際的光學(xué)膜的制造事先進(jìn)行而設(shè)置。這種情況下，就光學(xué)膜的制造中使用的涂布液而言，由于事先推定損耗彈性模量的時間變化(δg”)是否成為了3.0以下以及損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的情況下為了使其成為3.0以下所需要的條件，因此在實際的光學(xué)膜的制造中可以不設(shè)置使用了實際的涂布液的再次的損耗彈性模量確認(rèn)工序。

予以說明，在損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下時，能夠不經(jīng)過后述的損耗彈性模量調(diào)整工序而將涂布液涂布。但是，即使損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的情況下，以進(jìn)一步的涂布故障的改善為目的，優(yōu)選在損耗彈性模量調(diào)整工序中進(jìn)行調(diào)整以使損耗彈性模量的時間變化(δg”)進(jìn)一步變小。

從進(jìn)一步抑制涂布故障的發(fā)生的觀點出發(fā)，損耗彈性模量的時間變化(δg”)優(yōu)選為2.0以下，更優(yōu)選為1.0以下。

另外，損耗彈性模量的時間變化(δg”)優(yōu)選為0以上。在損耗彈性模量的時間變化(δg”)不到0的情況下，在涂布液中有可能發(fā)生其構(gòu)成成分的分解。是因為此時涂布液的粘度等也經(jīng)時地變得不穩(wěn)定，與其相伴，膜厚控制也變得不穩(wěn)定，因此在膜面中容易發(fā)生不均。

(損耗彈性模量調(diào)整工序)

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為光學(xué)膜的制造方法，其在損耗彈性模量確認(rèn)工序和后述的涂布工序之間還具有如下的損耗彈性模量調(diào)整工序：對于在形成各光學(xué)功能層的涂布液中至少損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的涂布液，對涂布液進(jìn)行分散，由此對涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)進(jìn)行調(diào)整以使得成為3.0以下。

就損耗彈性模量調(diào)整工序而言，在上述的損耗彈性模量確認(rèn)工序中損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0時，能夠在損耗彈性模量確認(rèn)工序中對涂布液進(jìn)行分散，由此對確認(rèn)了損耗彈性模量的涂布液進(jìn)行調(diào)整以使得損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下。

在損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的情況下，通常,就損耗彈性模量的時間變化(δg”)而言,通過進(jìn)行使涂布液分散的處理而減少。作為其理由，推測原因在于：損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的涂布液為發(fā)生凝聚的頻率高、凝聚體的尺寸大的狀態(tài)，結(jié)果通過進(jìn)行涂布液的再分散，凝聚體的數(shù)量變少，或者凝聚體的尺寸變小。

予以說明，如在上述的損耗彈性模量確認(rèn)工序的說明中所述那樣，因為損耗彈性模量的時間變化(δg”)的判斷需要60分鐘的時間出發(fā)，認(rèn)為在算出了值的時刻，測定中使用的涂布液的狀態(tài)變化為與測定開始時的涂布液的狀態(tài)不同的狀態(tài)。

因此，在設(shè)置損耗彈性模量調(diào)整工序的情況下，作為損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下的涂布液，能夠?qū)p耗彈性模量的時間變化(δg”)被推定為3.0以下的涂布液在后述的涂布工序中使用。即，作為在后述的涂布工序中涂布的涂布液，能夠準(zhǔn)備與損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的涂布液相同狀態(tài)的溶液而使用。作為該涂布液，也可與進(jìn)行了最后的(確認(rèn)了損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下時的)損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液自身獨立地重新準(zhǔn)備配方與進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液相同、并且涂布液制備后直至最后的彈性彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時進(jìn)行相同的處理、經(jīng)過了相同時間的涂布液。另外，在損耗彈性模量的時間變化(δg”)起因于可逆的變化而發(fā)生的體系中，對于進(jìn)行了最后的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的動態(tài)粘彈性測定的涂布液，根據(jù)需要可在損耗彈性模量調(diào)整工序中再次進(jìn)行調(diào)整以使損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下而使用。

另外，就損耗彈性模量調(diào)整工序中的制備條件而言,可應(yīng)用使用與光學(xué)膜的制造中使用的涂布液相同配方的模擬液所找出的制備條件。即，可使用模擬液，相對于實際的光學(xué)膜的制造事先地找到用于使損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下的條件，應(yīng)用該條件。通過這樣使用模擬液來推定制備條件而應(yīng)用其值，也能夠?qū)嶋H的光學(xué)膜的制造中的、通過使用實際的涂布液的損耗彈性模量確認(rèn)工序和損耗彈性模量調(diào)整工序的反復(fù)的、找出用于使損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下的條件的操作省略。

進(jìn)而，在損耗彈性模量調(diào)整工序中，也可反復(fù)進(jìn)行調(diào)整以使得涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下，維持涂布液的狀態(tài)以使得損耗彈性模量的時間變化(δg”)不超過3.0以下。作為這樣的方法，例如可列舉出如下的方法：對于在最初的損耗彈性模量確認(rèn)工序中損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的涂布液，在損耗彈性模量調(diào)整工序中進(jìn)行調(diào)整以使得損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下，然后，每經(jīng)過一定時間就再次在損耗彈性模量調(diào)整工序中進(jìn)行調(diào)整。這樣的方法例如能夠在后述的具有循環(huán)工序的光學(xué)膜制造系統(tǒng)等中實施。

其中，就在經(jīng)過了損耗彈性模量確認(rèn)工序后在損耗彈性模量調(diào)整工序中被分散了的涂布液而言，根據(jù)需要，可再次在損耗彈性模量確認(rèn)工序中測定損耗彈性模量的時間變化(δg”)。

予以說明，即使在損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的情況下，以進(jìn)一步的涂布故障的改善為目的，優(yōu)選進(jìn)一步調(diào)整損耗彈性模量的時間變化(δg”)。對于優(yōu)選的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值及其理由，記載于上述的損耗彈性模量確認(rèn)工序的說明中。

就涂布液而言，能夠通過進(jìn)行剪切處理而使其分散。

(剪切處理)

本說明書中，“剪切處理”是指給予某些剪切力的處理。但是，根據(jù)本發(fā)明，能夠采用如下的方法：在具有規(guī)定的間隙的流路等中，以規(guī)定的速度使剪切對象液(形成光學(xué)功能層的涂布液)移動，對該剪切對象液給予剪切力。

本說明書中，“剪切速度”根據(jù)下述式2算出。

剪切速度(1/秒)＝速度(m/秒)/最小間隔(m)(式2)

其中，“最小間隙”是指剪切對象液移動的流路中給予剪切力的最小的間隙。另外，“速度”是指剪切對象液通過上述最小間隙時的剪切對象液的移動速度。此時，以一定的速度使剪切對象液移動的情況下，通過最小間隙時賦予最高的剪切力。

根據(jù)本發(fā)明，對剪切處理并無特別限制，例如可采用分散機(jī)、高速攪拌裝置、排出裝置、或者它們的組合等來進(jìn)行。

將涂布液向上述裝置的導(dǎo)入方法、導(dǎo)入速度(流量)也無特別限制，對于導(dǎo)入，例如能夠使用旋轉(zhuǎn)式泵等的公知的手段進(jìn)行，另外，對于導(dǎo)入速度(流量：l/分鐘)，能夠根據(jù)裝置的規(guī)模適當(dāng)?shù)馗淖儭?/p>

以下,對各個裝置的優(yōu)選的實施方式進(jìn)行說明。

(分散裝置)

作為分散裝置，并無特別限制，例如可使用乳化分散機(jī)、壓力式均化器、高速旋轉(zhuǎn)剪切型均化器等。以下對使用了乳化分散機(jī)和壓力式均化器的情況的剪切處理詳細(xì)地說明。

圖1為作為分散裝置的一形態(tài)的乳化分散機(jī)的示意圖。圖1的乳化分散機(jī)具有作為固定齒的定子齒1和作為旋轉(zhuǎn)齒的轉(zhuǎn)子齒2。在上述定子齒1與上述轉(zhuǎn)子齒2的間隙(剪切間隙)la中移動的剪切對象液4在轉(zhuǎn)子齒2的半徑方向上產(chǎn)生速度梯度(剪切速度)。通過該速度梯度，在上述定子齒1和上述轉(zhuǎn)子齒2間產(chǎn)生內(nèi)部摩擦力(剪切力)。

在圖1中，剪切間隙la相當(dāng)于式2中的“最小間隙”，在作為最小間隙的剪切間隙la中進(jìn)行移動時的剪切對象液4的速度相當(dāng)于式2中的“速度”。予以說明，剪切對象液5向剪切間隙la的導(dǎo)入從轉(zhuǎn)子齒2的狹縫間隙在上述半徑方向進(jìn)行，因此流入剪切間隙la的剪切對象液4與導(dǎo)入的剪切對象液5連續(xù)地反復(fù)碰撞。即，通過圖1的乳化分散機(jī)，對于剪切對象液連續(xù)地進(jìn)行了剪切和混合。

在上述乳化分散機(jī)中，剪切間隙中的定子齒與轉(zhuǎn)子齒的最小間隙優(yōu)選為0.05～0.5mm，更優(yōu)選為0.1～0.4mm。另外，作為轉(zhuǎn)子齒的旋轉(zhuǎn)速度，優(yōu)選為1～500m/s，更優(yōu)選為3～300m/s，進(jìn)一步優(yōu)選為5～50m/s。通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定剪切間隙中的定子齒與轉(zhuǎn)子齒的最小間隙、轉(zhuǎn)子齒的旋轉(zhuǎn)速度等，從而能夠調(diào)節(jié)剪切速度。

作為如上述的乳化分散機(jī)，例如能夠使用エバラマイルダー(株式會社荏原制作所制造)、マイルダー(大平洋機(jī)工株式會社制造)等。

圖2為作為分散裝置的一形態(tài)的壓力式均化器的示意圖。圖2的壓力式均化器具有閥片11和閥12。由加壓機(jī)構(gòu)(未圖示)供給的剪切對象液14在閥片11間高壓且高速地移動。該剪切對象液在通過閥片11和閥12的狹窄的間隙lb時，在碰撞閥12而使流動的方向改變了的剪切對象液與要通過間隙lb的剪切對象液之間發(fā)生液體之間的摩擦，作為其結(jié)果，認(rèn)為在剪切對象液中產(chǎn)生大的剪切力。該剪切力與最小間隙lb成比例。

圖2中，間隙lb為給予剪切力的最小的間隙，相當(dāng)于式2中的“最小間隙”。另外，在作為最小間隙的間隙lb中進(jìn)行移動時的剪切對象液14的速度相當(dāng)于式2中的“速度”。

上述壓力式均化器中，閥片與閥的距離優(yōu)選為0.05～0.5mm，更優(yōu)選為0.1～0.4mm。另外，作為通過閥片和閥間時的速度，優(yōu)選為1～500m/s，更優(yōu)選為3～330m/s，進(jìn)一步優(yōu)選為5～300m/s。通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定閥片與閥的距離、加壓機(jī)構(gòu)中的剪切對象液的供給條件等，從而能夠調(diào)節(jié)剪切速度。

作為如上述的壓力式均化器，例如能夠使用壓力式均化器lab1000(株式會社エスエムテー制造)等。

予以說明，高速旋轉(zhuǎn)剪切型均化器為具有與乳化分散機(jī)類似的構(gòu)成、在高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與經(jīng)由狹窄的間隙而接近的定子之間進(jìn)行剪切處理的處理裝置。

作為高速旋轉(zhuǎn)剪切型均化器，例如能夠使用t.k.ロボミックス(プライミクス株式會社制造)、クレアミックスclm-0.8s(エム·テクニック株式會社制造)、均化器(マイクロテック·ニチオン社制造)等。

予以說明，剪切處理的溫度也因剪切速度的數(shù)值、剪切對象液的種類而不同，但優(yōu)選為20～70℃，從給予裝置的熱負(fù)荷、作業(yè)安全性的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為25～60℃。

作為使用分散裝置來控制損耗彈性模量的時間變化(δg”)的方法，可列舉出適當(dāng)?shù)卦O(shè)定分散裝置的轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)條件、適當(dāng)?shù)卦O(shè)定分散器內(nèi)的液體的停滯時間等。通過提高分散裝置的轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)數(shù)，剪切速度增加，在損耗彈性模量(g”)的值降低的方向上起作用。作為其理由，認(rèn)為是因為對涂布液施加強(qiáng)的剪切應(yīng)力。此時，涂布液的損耗彈性模量(g”)如上述那樣，測定時間越長，則越強(qiáng)地顯現(xiàn)出分散的效果，因此在損耗彈性模量的時間變化(δg”)降低的方向上起作用。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，進(jìn)行剪切處理時的、對剪切對象液的剪切速度優(yōu)選為0.1×10⁴(1/秒)以上。如果為這樣的范圍，則能夠有效地發(fā)揮本發(fā)明的所期望的效果。從同樣的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為0.5×10⁴～1000×10⁴(1/秒)，進(jìn)一步優(yōu)選為1×10⁴～200×10⁴(1/秒)，特別優(yōu)選為1×10⁴～20×10⁴(1/秒)。但是，根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式，即使為不到0.1×10⁴(1/秒)，也能夠得到具有本發(fā)明的效果涉及的性能的光學(xué)膜。

另外，通過降低旋轉(zhuǎn)式泵等的流量而降低涂布液向分散裝置的導(dǎo)入速度，分散器內(nèi)的涂布液的停滯時間延長，損耗彈性模量(g”)的值降低。作為其理由，認(rèn)為是因為進(jìn)行較長時間剪切處理。此時，就涂布液的損耗彈性模量(g”)而言,如上述那樣，測定時間越長，則越強(qiáng)地顯現(xiàn)出分散的效果，因此在損耗彈性模量的時間變化(δg”)降低的方向上起作用。

另外，就在將涂布液分散的裝置的容器(分散容器)內(nèi)滯留的由下述式3表示的滯留時間而言，從分散性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.5～35秒，更優(yōu)選為0.8～30秒，進(jìn)一步優(yōu)選為1～30秒，特別優(yōu)選為1～15秒。

滯留時間(秒)＝分散容器容量(l)/泵流量(l/分鐘)×60(式3)

(涂布工序)

就本發(fā)明的一方式涉及的光學(xué)膜的制造方法而言，在涂布工序中，在基材上將損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的、至少2個以上的光學(xué)功能層的涂布液進(jìn)行同時多層涂布。

從進(jìn)一步抑制涂布故障的發(fā)生的觀點出發(fā)，損耗彈性模量的時間變化(δg”)優(yōu)選為2.0以下，更優(yōu)選為1.0以下。

其中，如上所述，在涂布液中存在其損耗彈性模量經(jīng)時地變化的涂布液，在這樣的涂布液中，隨著經(jīng)時的損耗彈性模量的增加，涂布故障的發(fā)生頻率增加。由此，就涂布工序而言，從據(jù)認(rèn)為損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的涂布液的狀態(tài)直至將該涂布液從涂布機(jī)排出而與膜相接的時間優(yōu)選為短時間。作為這樣的時間，優(yōu)選不到60分鐘，更優(yōu)選40分鐘以下，進(jìn)一步優(yōu)選30分鐘以下。

予以說明，如上所述，使用反復(fù)進(jìn)行調(diào)整以使得涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下、維持涂布液的狀態(tài)以使得損耗彈性模量的時間變化(δg”)不超過3.0以下的方法的情況下，能夠?qū)⑼坎家旱膿p耗彈性模量的時間變化(δg”)的值保持在一定值以下。由此，從損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的涂布液的狀態(tài)直至將涂布液從涂布機(jī)排出而與膜相接的時間能夠認(rèn)為只是從貯存這樣的涂布液的貯存釜(貯存罐)將涂布液供給至涂布工序的時間。由此，使用該方法的情況下，能夠縮短直至將涂布液從涂布機(jī)排出而與膜相接的時間，使涂布液的損耗彈性模量的變化減小變得更為容易，因此優(yōu)選。

形成光學(xué)功能層的涂布液的涂布方法只要是同時多層涂布方式，則并無特別限制，例如優(yōu)選使用美國專利第2,761,419號說明書、美國專利第2,761,791號說明書等中記載的使用料斗的滑珠涂布方法、擠出涂布法等。

進(jìn)行同時多層涂布時的涂布和干燥方法優(yōu)選為如下的方法：將形成各光學(xué)功能層的涂布液加熱到30～60℃，在基材上進(jìn)行了形成各光學(xué)功能層的涂布液的同時多層涂布后，將形成的涂膜的溫度優(yōu)選地暫且冷卻至1～15℃(固化)，然后在10℃以上進(jìn)行干燥。更優(yōu)選的干燥條件為濕球溫度5～50℃、膜面溫度10～50℃的范圍的條件。例如，噴射60～80℃的溫風(fēng)1～5秒來進(jìn)行干燥。另外，作為涂布后即刻的冷卻方式，從提高形成了的涂膜的均一性的觀點出發(fā)，優(yōu)選以水平固化方式進(jìn)行。

本方式的一實施方式的制造方法中，涂布速度優(yōu)選為10m/分鐘以上，更優(yōu)選為30m/分鐘以上。采用本發(fā)明的制造方法，即使以這樣快的速度，也能夠得到膜厚的均一性提高、干涉斑紋減少的多層層疊膜。

就各光學(xué)功能層而言，可以以成為優(yōu)選的干燥時的厚度的方式進(jìn)行涂布。

作為干燥方法，并無特別限制，例如使用溫風(fēng)干燥、紅外干燥、微波干燥。另外，與采用單一工序的干燥相比，優(yōu)選多段工序的干燥，更優(yōu)選設(shè)為恒率干燥部的溫度＜減率干燥部的溫度。這種情形的恒率干燥部的溫度范圍優(yōu)選設(shè)為30～60℃，減率干燥部的溫度范圍優(yōu)選設(shè)為50～100℃。

其中，上述固化意味如下的工序：采用使冷風(fēng)等接觸涂膜而使溫度降低等手段，提高涂膜組合物的粘度，降低各層間和各層內(nèi)的物質(zhì)的流動性，或者另外使其凝膠化。使冷風(fēng)從表面與涂布膜接觸，將用手指按壓涂布膜的表面時手指上沒有粘附任何物質(zhì)的狀態(tài)定義為固化完成的狀態(tài)。

從涂布了的時刻直至使冷風(fēng)接觸而使固化完成的時間(固化時間)優(yōu)選為5分鐘以內(nèi)，更優(yōu)選為2分鐘以內(nèi)。另外，對下限的時間并無特別限制，但優(yōu)選取10秒以上的時間。如果固化時間過短，則層中的成分的混合變得不充分的可能性提高。另一方面，如果固化時間過長，則層形成成分的層間擴(kuò)散發(fā)展，各光學(xué)功能性層的功能顯現(xiàn)性變得不充分的可能性提高。例如，光學(xué)功能層具有將高折射率層和低折射率層交替地層疊的結(jié)構(gòu)的情況下，其折射率差變得不充分的可能性提高。

(基材)

作為光學(xué)膜中應(yīng)用的基材，只要為透明，則并無特別限制，能夠使用公知的樹脂膜。作為基材的具體例，并無特別限制，例如可列舉出聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚苯乙烯(ps)、聚芳酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚碳酸酯(pc)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(pbt)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚酰亞胺、芳香族聚酰胺、聚醚酰亞胺等。這些中，從成本、得到的容易性的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚碳酸酯(pc)等。

另外，使用了上述樹脂膜的基材可以為未拉伸膜，也可為拉伸膜?；臑閜et、pen這樣的具有結(jié)晶性的樹脂膜的情況下，從強(qiáng)度的提高、熱膨脹抑制的觀點出發(fā)，優(yōu)選為在拉伸后熱固定化了的膜。

基材的厚度優(yōu)選為5～300μm，更優(yōu)選為15～150μm，進(jìn)一步優(yōu)選為30～100μm。另外，基材可以為將2張以上重疊而成的基材，此時，基材的種類可以相同，也可不同。

上述基材在制膜過程中可在單面或兩面設(shè)置下拉層。該下拉層可在線地或在制膜后形成。作為下拉層的形成方法，例如可列舉出涂布下拉層涂布液、將得到的涂膜干燥的方法等。下拉層能夠使用公知的下拉層，可以為單層結(jié)構(gòu)，也可以為層疊結(jié)構(gòu)。

基材可還具有導(dǎo)電性層、抗靜電層、氣體阻隔層、易粘接層(粘接層)、防污層、除臭層、滴流層、易滑層、硬涂層、耐磨損性層、壓敏粘合層、中間膜層等公知的功能層。另外，這些功能層可在兩面形成。

基材具有上述的下拉層、功能層等中間層的情況下，基材和中間層的總膜厚優(yōu)選為5～500μm，更優(yōu)選為25～250μm，進(jìn)一步優(yōu)選為30～100μm。

[光學(xué)膜制造系統(tǒng)]

接著，對作為本發(fā)明的一實施方式的制造方法中使用的優(yōu)選的制造系統(tǒng)的例子進(jìn)行說明。但是，本發(fā)明的制造方法并不限定于使用了該制造系統(tǒng)的情形。

圖3為表示能夠在作為本發(fā)明的一實施方式的制造方法中使用的光學(xué)膜制造系統(tǒng)的例子的概略構(gòu)成圖。

圖3中所示的光學(xué)膜制造系統(tǒng)117通過將多個裝置連接而構(gòu)成，經(jīng)過由各裝置實現(xiàn)的多個工序來制造光學(xué)膜。圖3中所示的例子中，光學(xué)膜制造系統(tǒng)117大致地劃分，進(jìn)行制備工序、循環(huán)工序和涂布工序。

光學(xué)膜制造系統(tǒng)117在制備工序中制備形成光學(xué)膜的光學(xué)功能層的涂布液。

(制備工序)

制備工序包含涂布液制備釜101、送液裝置102和過濾裝置103。

涂布液制備釜101為用于制備涂布液的容器。對涂布液的制備方法并無特別限制，為將形成光學(xué)功能層的成分，例如水溶性高分子、金屬氧化物粒子、交聯(lián)成分等添加到溶劑中，進(jìn)行攪拌混合的方法。此時，對各成分的添加順序也無特別限制，可邊攪拌邊依次添加各成分并混合，也可邊攪拌邊一次性地添加并混合。就這些涂布液的制備方法而言，對每個涂布液適當(dāng)?shù)卮_定。為了將涂布液供給至循環(huán)工序中所包含的涂布液貯存釜104，將涂布液制備釜101連接至涂布液貯存釜104。

送液裝置102設(shè)置于從涂布液制備釜101使涂布液流出的路徑。送液裝置102例如為泵，可控制制備了的涂布液的流出、流出的停止。送液裝置102在使涂布液流出時，可適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。

過濾裝置103設(shè)置于從涂布液制備釜101使涂布液流出的路徑。過濾裝置103將涂布液中混雜的異物、涂布液中產(chǎn)生的氣泡、凝聚產(chǎn)生的異物除去。將除去了異物的涂布液送至循環(huán)工序。

(循環(huán)工序)

光學(xué)膜制造系統(tǒng)117在循環(huán)工序(涂布液循環(huán)系統(tǒng))中使制備了的涂布液在保持為適當(dāng)?shù)膿p耗彈性模量的時間變化(δg”)的值的同時循環(huán)。循環(huán)工序包含涂布液貯存釜104、送液裝置105、分散裝置106、脫泡裝置107、過濾裝置108和循環(huán)路徑r1。

光學(xué)膜制造系統(tǒng)117中，損耗彈性模量確認(rèn)工序可包含于循環(huán)工序。另外，根據(jù)需要，損耗彈性模量調(diào)整工序也可包含于循環(huán)工序。損耗彈性模量確認(rèn)工序能夠通過從涂布液貯存釜104中對涂布液進(jìn)行取樣、測定損耗彈性模量(g”)而實現(xiàn)。予以說明，取樣位置只要實現(xiàn)本發(fā)明的目的、為涂布工序前，則可以為其他位置。另外，作為損耗彈性模量調(diào)整工序，能夠通過利用分散裝置106對涂布液進(jìn)行分散，確認(rèn)其損耗彈性模量(g”)而實現(xiàn)。

涂布液貯存釜104貯存涂布液以使得能夠連續(xù)地供給涂布液。就涂布液貯存釜104而言，優(yōu)選在涂布液貯存釜104的內(nèi)部中也具有用于使涂布液循環(huán)的攪拌裝置。由此，能夠使涂布液貯存釜104內(nèi)的涂布液的物性變得均一。將用于使涂布液從涂布液貯存釜104流出、將流出了的涂布液再次返回涂布液貯存釜104的循環(huán)路徑r1連接至涂布液貯存釜104。另外，用于將涂布液送至涂布工序的供給路徑l1也連接至涂布液貯存釜104。

送液裝置105設(shè)置在循環(huán)路徑r1上。送液裝置105例如為泵，可控制涂布液貯存釜104中貯存的涂布液的流出、流出的停止。送液裝置105在使涂布液流出時，可適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。

分散裝置106設(shè)置在循環(huán)路徑r1上。分散裝置106根據(jù)需要能夠?qū)ν坎家簩嵤┓稚⑻幚?，?yōu)選地實施利用剪切力的分散處理。通過這樣的分散處理，例如，能夠使損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值超過3.0的涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值減小，調(diào)整為所期望的值。作為分散裝置，能夠使用上述的分散裝置。

脫泡裝置107將涂布液中所含的氣泡、涂布液內(nèi)溶入的溶存空氣除去。就脫泡的原理而言，考慮例如利用離心力將氣泡和液體分離、通過抽真空將氣泡排出；利用超聲波。但是，只要能夠脫泡，脫泡裝置107可以為利用其他的任何原理的裝置。

過濾裝置108將涂布液中混雜的異物、涂布液中產(chǎn)生的氣泡、凝聚產(chǎn)生的異物除去。將除去了異物的涂布液經(jīng)過循環(huán)路徑r1返回至涂布液貯存釜104。

如以上那樣，在循環(huán)工序中，涂布液從涂布液貯存釜104流出至循環(huán)路徑r1，實施了采用分散裝置106、脫泡裝置107和過濾裝置108的處理后，返回至涂布液貯存釜104。返回到涂布液貯存釜104的涂布液在涂布液貯存釜104內(nèi)被攪拌的同時移動后，可再次流出至循環(huán)路徑r1，反復(fù)進(jìn)行上述的處理。

循環(huán)工序中的分散裝置106、脫泡裝置107和過濾裝置108的處理強(qiáng)度能夠根據(jù)光學(xué)膜的用途、使用的涂布液的性質(zhì)等條件適當(dāng)?shù)卦O(shè)定以使得將涂布液的物性保持在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。

循環(huán)工序中，通過在使制備了的涂布液循環(huán)的同時在適當(dāng)?shù)膹?qiáng)度下連續(xù)地實施分散處理、脫泡處理、過濾處理等，能夠?qū)⑼坎家旱膿p耗彈性模量的時間變化(δg”)的值調(diào)整到適于涂布的范圍內(nèi)。

予以說明，根據(jù)送液裝置105的設(shè)定等，將每一定時間規(guī)定的流量的涂布液從涂布液貯存釜104依次送至循環(huán)路徑r1進(jìn)行循環(huán)。循環(huán)了的涂布液返回至涂布液貯存釜104并被攪拌，因此能夠?qū)⑼坎家嘿A存釜104中所容納的涂布液全體的物性長期地保持在適于涂布的狀態(tài)。此時，從容易將涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值調(diào)整到適于涂布的范圍內(nèi)出發(fā)，優(yōu)選以涂布液通過循環(huán)路徑2次以上的方式設(shè)定。其中，就循環(huán)路徑的通過次數(shù)而言，如果將涂布液貯存釜104的容積設(shè)為a(l)，將循環(huán)路徑的送液速度設(shè)為b(l/分鐘)，則操作了a/b(分鐘)時方便地計算為1次。通過設(shè)為上述通過次數(shù)，涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值穩(wěn)定，容易將涂布時的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值調(diào)節(jié)為3.0以下。

在涂布液貯存釜104中容納的涂布液能夠通過連接至涂布液貯存釜104的供給路徑l1，送至涂布工序。涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下，涂布液不必經(jīng)過這以上的損耗彈性模量調(diào)整工序的情況下，能夠?qū)⑼坎家航?jīng)過供給路徑l1送至涂布工序。這種情況下，有時也可在循環(huán)工序中不通過循環(huán)路徑而使涂布液從涂布液貯存釜104通過供給路徑l1送至涂布工序。

予以說明，圖3中，在循環(huán)路徑r1上按分散裝置106、脫泡裝置107和過濾裝置108的順序排列了裝置。但是，這些裝置的順序可適當(dāng)?shù)馗淖?。另外，也可將多個上述裝置的功能綜合的1個裝置提供到循環(huán)工序中。例如，可將分散裝置106和脫泡裝置107的功能綜合的分散脫泡裝置提供到循環(huán)工序中。另外，在循環(huán)工序中可設(shè)置上述以外的裝置，另外也可不設(shè)置上述裝置的任一個。

作為光學(xué)膜制造系統(tǒng)中的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的管理方法，可列舉出如下的方法等：對涂布工序前的涂布液進(jìn)行取樣，測定涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)，涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的情況下，進(jìn)行到下一工序的涂布工序，涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)超過3.0的情況下，再次進(jìn)行調(diào)整涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的處理。涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的管理可以通過人的操作進(jìn)行，也可采用使用了控制裝置的管理系統(tǒng)。作為使用了控制裝置的管理系統(tǒng)，例如可列舉出光學(xué)膜制造系統(tǒng)117的循環(huán)工序還包含測定裝置和控制裝置的構(gòu)成。本構(gòu)成例如可列舉出：將測定裝置設(shè)置在循環(huán)路徑r1上，測定通過循環(huán)路徑r1的涂布液的物性，將表示其結(jié)果的信息通知控制裝置，控制裝置可基于由測定裝置通知的表示測定結(jié)果的信息控制送液裝置105和分散裝置106。

適當(dāng)?shù)卦O(shè)定循環(huán)工序的反復(fù)，以使得涂布工序中的涂布液的損耗彈性模量的時間變化(δg”)成為3.0以下，優(yōu)選為2次以上。越進(jìn)行反復(fù)操作，越在損耗彈性模量的時間變化(δg”)降低的方向上前進(jìn)，因此對反復(fù)數(shù)的上限并無特別限定，但如果考慮效果的飽和和生產(chǎn)率，優(yōu)選為4次以下。循環(huán)工序中的涂布液的流速從液體貯存量的觀點出發(fā)，優(yōu)選為5l/分鐘以上。

(涂布工序)

接著，利用送液裝置109將制備和循環(huán)了的涂布液經(jīng)過供給路徑l1供給至涂布裝置。

送液裝置109將從循環(huán)工序的涂布液貯存釜104流出的涂布液送至設(shè)置于供給路徑l1的各裝置。送液裝置109例如為泵，可控制制備了的涂布液的流出、流出的停止。送液裝置109在使涂布液流出時，可適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布液的流量、速度。

光學(xué)膜制造系統(tǒng)117在涂布工序中，將涂布液涂布于基材，生成高分子膜。涂布工序包含涂布裝置114、固化裝置115和干燥裝置116。

涂布裝置114將涂布液涂布于基材。將涂布液重疊多層而涂布于基材(所謂多層涂布)的情況下，至少相鄰地重疊的涂布液由不同的分配、材料制備。因此，圖3中，例示了光學(xué)膜制造系統(tǒng)117具有1個涂布液制備釜101的形態(tài)，但優(yōu)選為如下的形態(tài)：光學(xué)膜制造系統(tǒng)具有至少2個以上的涂布液制備釜，在該制造系統(tǒng)中，多種涂布液經(jīng)過各自的制備工序和供給工序，被供給至涂布裝置114。

涂布工序中，優(yōu)選在連續(xù)地搬運的基材上涂布涂布液。

如以上那樣，采用光學(xué)膜制造系統(tǒng)117，能夠使涂布液循環(huán)而不間斷地施以分散處理。因此，能夠?qū)㈦S著時間的經(jīng)過等損耗彈性模量的時間變化(δg”)的值變化的涂布液在適于均勻的涂布的狀態(tài)下連續(xù)穩(wěn)定地供給。

另外，在本發(fā)明的一實施方式中，作為在光學(xué)膜制造系統(tǒng)117中設(shè)置一個循環(huán)工序的實施方式進(jìn)行了說明，但并不限定于此?？稍诠鈱W(xué)膜制造系統(tǒng)117中設(shè)置多個循環(huán)工序。

予以說明，光學(xué)膜制造系統(tǒng)117中，將循環(huán)路徑r1和供給路徑l1作為各自分開的路徑連接至循環(huán)工序的涂布液貯存釜104，在各自的路徑中設(shè)置了送液裝置、分散裝置等。但是，循環(huán)路徑r1與供給路徑l1也可將路徑、裝置的一部分共用，將一者的路徑中的設(shè)備省略。即，可將供給路徑l1連接至循環(huán)路徑r1的中途，將供給路徑l1上的路徑、裝置的一部分省略。

[光學(xué)膜]

就通過本發(fā)明的制造方法所制造的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)而言，只要是在基材上形成了至少2層以上的光學(xué)功能層的結(jié)構(gòu)，則并無特別限定。

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為光學(xué)膜的制造方法，其中，光學(xué)膜的各光學(xué)功能層含有高折射率層及低折射率層、具有使高折射率層和低折射率層交替地層疊而成的結(jié)構(gòu)。應(yīng)予說明，在本說明書中，將相對于另一方、折射率高的折射率層稱為高折射率層，將相對于另一方、折射率低的折射率層稱為低折射率層。

作為具有這樣的構(gòu)成的光學(xué)膜，例如可列舉出光學(xué)反射膜。

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為制造方法，其中，光學(xué)膜為光學(xué)反射膜。

另外，本發(fā)明的更優(yōu)選的一方式為制造方法，其中，光學(xué)反射膜為紅外屏蔽膜。

就光學(xué)反射膜而言，通過具有這樣的構(gòu)成、適當(dāng)?shù)乜刂聘哒凵渎蕦蛹暗驼凵渎蕦拥墓鈱W(xué)膜厚(膜厚×折射率)，能夠?qū)⑻囟úㄩL的光線反射。由此，光學(xué)反射膜例如在將波長200～400nm的光線(紫外線)反射的情況下可成為紫外屏蔽膜，在將波長400～700nm的光線(可見光)反射的情況下可成為可見光著色膜，在將波長700～1200nm的光線(紅外線)反射的情況下可成為紅外屏蔽膜。此外，通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)計層疊體的光學(xué)膜厚等，也能夠控制反射的光線的波長和反射率，制成金屬光澤調(diào)膜。這些中，光學(xué)反射膜可屏蔽的光線優(yōu)選為波長200nm～1000μm的紫外線～紅外線區(qū)域的光線，更優(yōu)選為具有250～2500nm的波長的光線，進(jìn)一步優(yōu)選為波長700～1200nm的近紅外線區(qū)域的光線。

一般地，在光學(xué)反射膜中，從用少的層數(shù)就能夠提高所期望的波長區(qū)域的反射率這樣的觀點出發(fā)，優(yōu)選將低折射率層與高折射率層的折射率之差設(shè)計得大。在本發(fā)明涉及的光學(xué)反射膜中，在由低折射率層及高折射率層構(gòu)成的單元的至少1個中，進(jìn)行鄰接的低折射率層和高折射率層的折射率差優(yōu)選為0.1以上，更優(yōu)選為0.3以上，進(jìn)一步優(yōu)選為0.35以上，特別優(yōu)選為0.4以上。在光學(xué)反射膜具有多個高折射率層及低折射率層的單元的情況下，優(yōu)選全部的單元中的高折射率層和低折射率層的折射率差在上述優(yōu)選的范圍內(nèi)。但是，光學(xué)反射膜的結(jié)構(gòu)并不限定于此，例如，也可以是最表層、最下層成為上述優(yōu)選的范圍外的值的構(gòu)成。

如上述那樣，是高折射率層還是低折射率層是由與鄰接的折射率層的關(guān)系確定的相對的關(guān)系，但高折射率層的折射率(nh)優(yōu)選為1.60～2.50，更優(yōu)選為1.70～2.50，進(jìn)一步優(yōu)選為1.80～2.20，特別優(yōu)選為1.90～2.20。另一方面，低折射率層的折射率(nl)優(yōu)選為1.10～1.60，更優(yōu)選為1.30～1.55，進(jìn)一步優(yōu)選為1.30～1.50。

本發(fā)明中，高折射率層和低折射率層的折射率例如能夠按照下述的方法求出。

制作在基材上以單層涂設(shè)待測定折射率的各折射率層的樣品，將該樣品裁切為10cm×10cm后，按照下述的方法求出折射率。作為分光光度計，使用u-4000型(株式會社日立制作所制造)，將各樣品的測定側(cè)的背面粗面化處理后，用黑色的噴霧劑進(jìn)行光吸收處理，防止光在背面的反射，在5度正反射的條件下測定25點的可見光區(qū)域(400nm～700nm)的反射率，求出平均值，由其測定結(jié)果求出平均折射率。

特定波長區(qū)域的反射率由鄰接的2層的折射率差和層疊數(shù)決定，折射率之差越大，則用越少的層數(shù)就得到相同的反射率。對于該折射率差和必要的層數(shù)，能夠使用市售的光學(xué)設(shè)計軟件計算。例如，光學(xué)反射膜為紅外屏蔽膜的情況下，為了得到紅外反射率90％以上，如果折射率差比0.1小，則超過100層的層疊變得必要，不僅生產(chǎn)率降低，而且層疊界面處的散射變大，透明性降低，另外沒有故障地制造也變得非常困難。從提高反射率和減少層數(shù)的觀點出發(fā)，對折射率差沒有上限，但實質(zhì)上1.4左右為極限。

作為本發(fā)明涉及的光學(xué)反射膜的優(yōu)選的高折射率層和低折射率層的層數(shù)，從上述的觀點出發(fā)，作為總層數(shù)的范圍，為100層以下、即50單元以下，更優(yōu)選為40層(20單元)以下，進(jìn)一步優(yōu)選為30層(15單元)以下，特別優(yōu)選為10層(5單元)以下。另外，本發(fā)明的光學(xué)反射膜可以為將至少1個上述單元層疊的構(gòu)成，例如可以為層疊膜的最表層、最下層兩者都成為高折射率層或低折射率層的層疊膜。作為本發(fā)明涉及的光學(xué)反射膜，優(yōu)選與基材鄰接的最下層為低折射率層、最表層也為低折射率層的層構(gòu)成。

本發(fā)明涉及的光學(xué)反射膜的全體的厚度優(yōu)選為12μm～315μm，更優(yōu)選為15μm～200μm，進(jìn)一步優(yōu)選為20μm～100μm。另外，低折射率層的每1層的厚度優(yōu)選為20～800nm，更優(yōu)選為50～350nm，進(jìn)一步優(yōu)選為100～200nm。另一方面，高折射率層的每1層的厚度優(yōu)選為20～800nm，更優(yōu)選為50～350nm，進(jìn)一步優(yōu)選為100～200nm。

進(jìn)而，作為本發(fā)明涉及的光反射膜的光學(xué)特性，jisr3106：1998中所示的可見光區(qū)域的透射率優(yōu)選為50％以上，更優(yōu)選為75％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為85％以上，另外，優(yōu)選在波長900nm～1400nm的區(qū)域中具有反射率超過50％的區(qū)域。

本發(fā)明涉及的光學(xué)膜在基材下或者基材的相反側(cè)的最表面層上，以進(jìn)一步的功能的附加為目的，可具有導(dǎo)電性層、抗靜電層、氣體阻隔層、易粘接層(粘接層)、防污層、除臭層、滴流層、易滑層、硬涂層、耐磨損性層、防反射層、電磁波屏蔽層、紫外線吸收層、紅外吸收層、印刷層、熒光發(fā)光層、全息圖層、剝離層、壓敏粘合層、粘接層、本發(fā)明的高折射率層及低折射率層以外的紅外線屏蔽層(金屬層、液晶層)、著色層(可見光線吸收層)、夾層玻璃中所利用的中間膜層等的功能層的1者以上。

本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為通過光學(xué)膜的制造方法所制造的光學(xué)膜。

[用途]

另外，本發(fā)明的優(yōu)選的一方式為在基體的至少一面設(shè)置了光學(xué)膜的光學(xué)層疊體。特別地，優(yōu)選光學(xué)膜是光學(xué)反射膜的光學(xué)反射體，特別優(yōu)選為光學(xué)膜是紅外屏蔽膜的紅外屏蔽體。

作為基體的具體的例子，并無特別限制，例如可列舉出玻璃、聚碳酸酯樹脂、聚砜樹脂、丙烯酸系樹脂、聚烯烴樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚硫醚樹脂、不飽和聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、蜜胺樹脂、酚醛樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚氨酯樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、苯乙烯樹脂、氯乙烯樹脂、金屬板、陶瓷等。對樹脂的種類并無特別限制，可以是熱塑性樹脂、熱固化性樹脂、電離放射線固化性樹脂的任一種，也可將它們的2種以上組合使用。本發(fā)明的一方式中可使用的基體能夠使用用擠出成型、壓延成型、注射成型、中空成型、壓縮成型等的公知的方法所制造的基體。對基體的厚度并無特別限制，但優(yōu)選為0.1mm～5cm。

在光學(xué)膜為光學(xué)反射膜的情況下，就用于將光學(xué)反射膜與基體貼合的粘接層或壓敏粘合層而言，優(yōu)選將光學(xué)反射膜設(shè)置于光線(例如日光、熱線等)入射面?zhèn)取Ａ硗?，就將作為光學(xué)反射膜的1種的紅外屏蔽膜夾持在窗玻璃與基體之間而言，由于能夠密封而免受水分等的周圍的氣體的影響、耐久性優(yōu)異，因此優(yōu)選。從環(huán)境耐久性的觀點出發(fā)，優(yōu)選將作為光學(xué)反射膜的1種的紅外屏蔽膜設(shè)置在室外、車的外側(cè)(外貼用)。

作為本發(fā)明的一實施方式中可應(yīng)用的粘接劑或壓敏粘合劑，例如能夠使用以光固化性或熱固化性的樹脂作為主成分的粘接劑或壓敏粘合劑。

對粘接劑或壓敏粘合劑并無特別限制，但優(yōu)選對于紫外線具有耐久性的粘接劑或壓敏粘合劑，更優(yōu)選丙烯酸系粘接劑或壓敏粘合劑、或者有機(jī)硅系粘接劑或壓敏粘合劑，從壓敏粘合特性、成本的觀點出發(fā)，進(jìn)一步優(yōu)選丙烯酸系粘接劑或壓敏粘合劑。另外，從剝離強(qiáng)度的控制容易出發(fā)，在丙烯酸系粘接劑或壓敏粘合劑中，特別優(yōu)選溶劑系。使用溶液聚合聚合物作為丙烯酸類溶劑系的粘接劑或壓敏粘合劑的情況下，作為其單體，能夠使用公知的單體。

另外，作為粘接劑或壓敏粘合劑，也可使用作為夾層玻璃的中間層而使用的聚乙烯醇縮丁醛系樹脂或乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系樹脂。作為聚乙烯醇縮丁醛系樹脂或乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系樹脂的具體例，并無特別限制，例如可列舉出可塑性聚乙烯醇縮丁醛(積水化學(xué)工業(yè)株式會社制造、三菱モンサント化成株式會社制造等)、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(デュポン株式會社制造、武田藥品工業(yè)株式會社制造(デュラミン))、改性乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(東ソー株式會社制造(メルセン(注冊商標(biāo))g))等。

予以說明，就粘接層或壓敏粘合劑而言，可適當(dāng)添加配合紫外線吸收劑、抗氧化劑、抗靜電劑、熱穩(wěn)定劑、潤滑劑、填充劑、著色劑、粘接調(diào)整劑等。

作為光學(xué)膜的1種的紅外屏蔽膜或作為光學(xué)層疊體的1種的光學(xué)反射體(紅外屏蔽體)的絕熱性能、日照熱屏蔽性能，一般地能夠通過按照jisr3209(復(fù)層玻璃)、jisr3106(板玻璃類的透射率·反射率·放射率·日照熱取得率的試驗方法)、jisr3107(板玻璃類的熱阻和建筑中的熱貫流率的計算方法)的方法來求出。就日照透射率、日照反射率、放射率、可見光透射率的測定而言，(1)使用波長(300～2500nm)的分光測光器測定各種單板玻璃的分光透射率、分光反射率。另外，使用波長5.5～50μm的分光測定器測定放射率。應(yīng)予說明，浮法板玻璃、磨板玻璃、型板玻璃、熱線吸收板玻璃的放射率使用既定值。(2)日照透射率、日照反射率、日照吸收率、修正放射率的算出按照jisr3106，算出日照透射率、日照反射率、日照吸收率、垂直放射率。關(guān)于修正放射率，通過用jisr3107中所示的系數(shù)乘以垂直放射率而求出。就絕熱性、日照熱屏蔽性的算出而言，(1)使用厚度的測定值、修正放射率，按照jisr3209算出復(fù)層玻璃的熱阻。但是，在中空層超過2mm的情況下，按照jisr3107求出中空層的氣體熱導(dǎo)率。(2)在絕熱性、復(fù)層玻璃的熱阻中加上熱傳導(dǎo)阻抗而用熱貫流阻抗求出。(3)就日照熱屏蔽性而言，根據(jù)jisr3106求出日照熱取得率，從1中減去而算出。

另外，在光學(xué)膜為薄型的情況下，能夠優(yōu)選地應(yīng)用于顯示器面板的表面。作為該用途的一例，例如可列舉出在等離子體顯示器面板中將紅外屏蔽膜貼合于高透明pet膜、導(dǎo)入了顯示器畫面中的實例。通過該用途中的紅外屏蔽膜的使用，能夠屏蔽由等離子體顯示器面板放射的紅外線，能夠有助于人體的保護(hù)、電子設(shè)備相互的失誤動作的防止和遙控器的失誤動作的防止等。

實施例

以下，列舉實施例對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)地說明，但本發(fā)明并不受這些實施例任何限定。應(yīng)予說明，實施例中使用“份”或“％”的表示的情況下，只要無特別說明，則表示“質(zhì)量份”或“質(zhì)量％”。

[低折射率層用涂布液的制備]

將膠體二氧化硅(スノーテックス(注冊商標(biāo))oxs、日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造、固體成分10質(zhì)量％)38質(zhì)量份加熱到45℃，加入3質(zhì)量％硼酸水溶液3質(zhì)量份，攪拌。進(jìn)而在45℃的狀態(tài)下依次添加·攪拌作為水溶性高分子的聚乙烯醇(jp-45、聚合度4500、皂化度87摩爾％、日本酢ビ·ポバール株式會社制造)的6質(zhì)量％水溶液39質(zhì)量份和表面活性劑的5質(zhì)量％水溶液(ソフタゾリンlsb-r、川研ファインケミカル制造)1質(zhì)量份，制備了低折射率層用涂布液1。

[損耗彈性模量確認(rèn)工序]

使用流變儀(rheostress6000(thermoscientific公司制造))在下述條件下測定了在上述制備的低折射率層用涂布液1的損耗彈性模量(g”)。

裝置：rheostress6000(thermoscientific公司制造)

傳感器系統(tǒng)：錐板(圓錐半徑60mm、圓錐角度＝1°)

剪切應(yīng)力：0.5pa

測定頻率：1hz

測定時間：60分鐘

測定溫度：35℃

樣品量：1ml

首先，確認(rèn)了測定開始時即測定時間0分鐘時的損耗彈性模量的值g”(0)。然后，繼續(xù)進(jìn)行測定，確認(rèn)了測定時間60分鐘時的損耗彈性模量的值即g”(60)。由得到的g”(0)及g”(60)的值、通過下述式1算出了損耗彈性模量的時間變化(δg”)，結(jié)果低折射率層用涂布液1的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.8。

δg”＝g”(60)-g”(0)(式1)

[損耗彈性模量調(diào)整工序]

使用旋轉(zhuǎn)式泵、以1.0(l/分鐘)的流量將上述的低折射率層用涂布液1送液到作為分散裝置的マイルダーmdn303v(太平洋機(jī)工株式會社制造)，通過在溫度45℃、剪切速度8.38×10⁴(1/秒)下進(jìn)行剪切處理而使其分散，制備了低折射率層用涂布液2。與低折射率層用涂布液1同樣地算出了損耗彈性模量的時間變化(δg”)，結(jié)果低折射率層用涂布液1的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為0.5。

進(jìn)而，在低折射率層用涂布液2的損耗彈性模量調(diào)整工序中，將分散裝置的剪切應(yīng)力及旋轉(zhuǎn)式泵的流量變?yōu)橄率霰?中記載的值，除此之外同樣地制備了低折射率層用涂布液3～9。另外，在上述低折射率層用涂布液4的制備中，將聚乙烯醇從jp-45(聚合度4500、皂化度87摩爾％、日本酢ビ·ポバール株式會社制造)變?yōu)閜va-224(聚合度2400、皂化度87摩爾％、株式會社クラレ)，除此之外同樣地制備了低折射率層用涂布液10。

進(jìn)而，在上述低折射率層用涂布液4的制備中，將3質(zhì)量％硼酸水溶液從3質(zhì)量份變?yōu)?質(zhì)量份，除此之外同樣地制備了低折射率層用涂布液11。

予以說明，將它們的損耗彈性模量的時間變化(δg”)記載于下述表1中。

[高折射率層用涂布液的制備]

(二氧化硅附著二氧化鈦溶膠的制備)

在15.0質(zhì)量％氧化鈦溶膠(srd-w、平均粒徑5nm、金紅石型二氧化鈦粒子、堺化學(xué)工業(yè)株式會社制造)0.5質(zhì)量份中加入了純水2質(zhì)量份后，加熱到90℃。接著，緩慢地添加硅酸水溶液(用純水稀釋硅酸鈉4號(日本化學(xué)工業(yè)株式會社制造)以使得sio2濃度成為0.5質(zhì)量％的產(chǎn)物)0.5質(zhì)量份。接著，在高壓釜中、175℃下進(jìn)行18小時加熱處理，冷卻后，通過用超濾膜進(jìn)行濃縮，得到了固體成分濃度為6質(zhì)量％的使sio2附著于表面的二氧化鈦溶膠(以下也簡稱為“二氧化硅附著二氧化鈦溶膠”)。

(高折射率層用涂布液的制備)

相對于上述得到的二氧化硅附著二氧化鈦溶膠(固體成分20.0質(zhì)量％)140質(zhì)量份，加入1.92質(zhì)量％檸檬酸水溶液48質(zhì)量份，進(jìn)而加入8質(zhì)量％的聚乙烯醇水溶液(pva-135、聚合度3500、皂化度98摩爾％、株式會社クラレ制造)113質(zhì)量份，攪拌。然后，加入表面活性劑的5質(zhì)量％水溶液(ソフタゾリンlsb-r、k川研ファインケミカル制造)0.4質(zhì)量份，攪拌，制備了高折射率層用涂布液1。

[損耗彈性模量確認(rèn)工序]

用與在上述的低折射率層用涂布液1的制備中的損耗彈性模量確認(rèn)工序同樣的方法測定了上述制備的高折射率層用涂布液1的損耗彈性模量(g”)，結(jié)果高折射率層用涂布液1的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.2。

[損耗彈性模量調(diào)整工序]

用與上述的低折射率層用涂布液2的制備中的損耗彈性模量調(diào)整工序同樣的方法及條件使上述的高折射率層用涂布液1分散、制備了高折射率層用涂布液2。然后，再次通過損耗彈性模量確認(rèn)工序求出了損耗彈性模量的時間變化(δg”)，結(jié)果高折射率層用涂布液2的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為0.4。

進(jìn)而，在高折射率層用涂布液2的損耗彈性模量調(diào)整工序中，將分散裝置的剪切應(yīng)力及旋轉(zhuǎn)式泵的流量變?yōu)橄率霰?中記載的值，除此之外同樣地制備了高折射率層用涂布液3～7。另外，在上述高折射率層用涂布液5的制備中，將聚乙烯醇從pva-135(聚合度3500、皂化度98摩爾％、株式會社クラレ)變?yōu)閜va-124(聚合度2400、皂化度98摩爾％、株式會社クラレ)，除此之外同樣地制備了高折射率層用涂布液8。

進(jìn)而，在上述低折射率層用涂布液5的制備中，將1.92質(zhì)量％檸檬酸水溶液從48質(zhì)量份變?yōu)?0質(zhì)量份，除此之外同樣地制備了高折射率層用涂布液9。

予以說明，它們的損耗彈性模量的時間變化(δg”)記載于表2。

[表1]

[表2]

[涂布工序]

與上述的彈性彈性模量確認(rèn)工序并行地，使用高折射率用涂布液1及低折射率用涂布液1進(jìn)行了涂布。即，使用與上述的損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時相同的狀態(tài)的涂布液進(jìn)行了涂布。更具體地，與損耗彈性模量確認(rèn)工序中使用的涂布液自身獨立地準(zhǔn)備配方與進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液相同并且經(jīng)過了與涂布液制備后直至損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的時間相同的時間的、與損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時(測定時間0分鐘)相同的狀態(tài)的新的涂布液，使用其進(jìn)行了涂布。

作為涂布裝置，使用了可以進(jìn)行9層多層涂布的滑動料斗涂布裝置。邊將高折射率層用涂布液1和低折射率層用涂布液1保溫于40℃，邊在加熱至40℃的、300mm寬的厚50μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜(東洋紡株式會社制造、コスモシャイン(注冊商標(biāo))a4300、兩面易粘接層)上進(jìn)行了合計9層的同時多層涂布，以使最下層和最上層為低折射率層，其以外使低折射率層和高折射率層彼此交替地配置，并且使干燥時的平均膜厚成為低折射率層各層150nm、高折射率層各層130nm。剛涂布后，噴射10℃的冷風(fēng)，進(jìn)行固化。此時，直至即使用手指觸摸表面也沒有任何物質(zhì)附著于手指的時間(固化時間)為10秒。固化完成后，噴射60℃的溫風(fēng)來使其干燥，由此制造了由合計9層構(gòu)成的比較例1的紅外屏蔽膜。

進(jìn)而，在比較例1的紅外屏蔽膜的涂布工序中，將上述的高折射率層用涂布液及、低折射率層用涂布液變?yōu)橄率霰?中記載的組合以外，同樣地制造了實施例1～16和比較例2～4的紅外屏蔽膜。

[光學(xué)膜(紅外屏蔽膜)的評價]

(通過目視對涂布故障的確認(rèn))

對于在上述制造的各紅外屏蔽膜，以目視確認(rèn)長10m×寬0.25m的范圍，以目視確認(rèn)拖尾、條紋的個數(shù)，將其值除以2.5，由此算出了每1m×1m的平均的涂布故障數(shù)。其中，評價為△以上(平均故障數(shù)為1.0個/m²以下)時表示是實用的特性。

◎：0個/m²

○：超過0～0.1個/m²

△：超過0.1～1.0個/m²

×：超過1.0～10個/m²

××：超過10個/m²

[表3]

如由上述表3的結(jié)果看到那樣，就通過對于低折射率層用涂布液及高折射率層用涂布液、具有損耗彈性模量確認(rèn)工序、將損耗彈性模量的時間變化(δg”)為3.0以下的涂布液進(jìn)行同時多層涂布的制造方法所制造的實施例1～16的紅外屏蔽膜而言，確認(rèn)了涂布故障即拖尾、條紋少，膜質(zhì)良好。

另外，在實施例1～16中，低折射率層用涂布液含有作為交聯(lián)成分的硼酸。其中，含有交聯(lián)成分的涂布液經(jīng)時地在涂布液中進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，因此一般地與不含交聯(lián)成分的體系相比，凝聚體更容易發(fā)生，其尺寸也變得更大。但是，盡管涂布液含有交聯(lián)成分，但實施例1～16的紅外屏蔽膜的膜質(zhì)良好，由此確認(rèn)了本發(fā)明在含有交聯(lián)成分的涂布液中是特別有用的。

其中，由實施例3和實施例14的比較確認(rèn)了：通過降低涂布液中的硼酸的量，即使在同一分散條件下δg”的值也變得更小，使涂布故障減少。

另外，由實施例9和實施例16的比較確認(rèn)了：通過增加涂布液中的檸檬酸的量，即使在同一分散條件下δg”的值也變得更小，使涂布故障減少。

進(jìn)而，由實施例3和實施例13、實施例9和實施例15的比較確認(rèn)了：涂布液中的聚乙烯醇的聚合度小時，即使在同一分散條件下δg”的值也變得更小，使涂布故障減少。

就比較例1～4而言，低折射率層用涂布液及高折射率層用涂布液的至少一者的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為本發(fā)明的范圍外，該情況下，涂布故障的發(fā)生頻率高。由此認(rèn)為：就作為涂布故障的拖尾、條紋而言，在用同時多層涂布所形成的各層形成時發(fā)生，為了其改善，需要抑制各層中發(fā)生的凝聚，因此結(jié)果使通過同時多層涂布而形成的全部層的損耗彈性模量的時間變化(δg”)為本發(fā)明的范圍內(nèi)，由此得到了顯著的效果。

另外，在實施例1中，使用使涂布工序中的涂布開始時刻從損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時(測定時間0分鐘)延遲了30分鐘的狀態(tài)的涂布液進(jìn)行了涂布。更具體地，與損耗彈性模量確認(rèn)工序中使用的涂布液自身獨立地準(zhǔn)備配方與進(jìn)行了損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定的涂布液相同并且經(jīng)過了與涂布液制備后直至損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時的時間相同的時間的、與損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時(測定時間0分鐘)相同的狀態(tài)的新的涂布液，將其進(jìn)一步放置了30分鐘后進(jìn)行了涂布。此時，從準(zhǔn)備了與損耗彈性模量的時間變化(δg”)的測定開始時(測定時間0分鐘)相同的狀態(tài)的涂布液的時刻直至將放置30分鐘后的涂布液從涂布機(jī)排出而與膜相接的時間為不到60分鐘。其結(jié)果，確認(rèn)了得到與實施例1同樣良好的結(jié)果。

[光學(xué)層疊體的制作]

使用上述制作的實施例1～16的各個紅外屏蔽膜，制作了作為光學(xué)層疊體的紅外屏蔽體。具體地，在厚5mm、20cm×20cm的尺寸的透明丙烯酸類樹脂盤上用丙烯酸類粘接劑將實施例1～16的各個紅外屏蔽膜粘接，制作了對應(yīng)的光學(xué)層疊體(紅外屏蔽體)1～16。

[光學(xué)層疊體的評價]

就上述制作的光學(xué)層疊體(紅外屏蔽體)1～16而言，通過利用本發(fā)明的實施例1～16的紅外屏蔽膜，能夠確認(rèn)優(yōu)異的紅外屏蔽性。

本申請基于2014年11月26日申請的日本專利申請no.2014-239324號，通過參照將其公開內(nèi)容延遲地并入。