液體沉積光刻的制作方法
【專利摘要】用于液體沉積光刻的系統(tǒng)和方法被描述。特別是，一些實(shí)施例關(guān)于使用光刻以控制材料(例如，光聚合物)的薄層的二維結(jié)構(gòu)，通過使用各種掩膜版、投影光學(xué)和材料。在一些實(shí)施例中，這種薄層可以通過微流體技術(shù)被操作，以使得能夠在液體環(huán)境成形、圖案化和后期處理該層，極大地簡化了多層結(jié)構(gòu)的創(chuàng)建。多個(gè)層被迅速建立以創(chuàng)建可能的多個(gè)材料的厚結(jié)構(gòu)，多個(gè)材料的厚結(jié)構(gòu)通過現(xiàn)有方法來制造目前具有挑戰(zhàn)性。
【專利說明】液體沉積光刻
[0001] 相關(guān)申請交叉引用
[0002] 本申請要求在2012年3月22提交的美國臨時(shí)專利申請61/614,356,在此出于所 有目的通過引入并入。
[0003] 關(guān)于聯(lián)邦資助的聲明
[0004] 本發(fā)明是由政府支持，獲得美國國家科學(xué)基金會(huì)基金號為IIP0822695。政府對本 發(fā)明具有某些的權(quán)利。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0005] 本發(fā)明的各種實(shí)施例總體上涉及用于光刻的系統(tǒng)和方法。特別地，一些實(shí)施例涉 及用于液體沉積光刻的系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0006] 光刻通常是指用于將幾何圖案轉(zhuǎn)移至襯底上的光學(xué)過程。許多傳統(tǒng)的光刻技術(shù)用 光敏聚合物（通常稱為"光刻膠"）來創(chuàng)建幾何圖案。負(fù)性光刻膠經(jīng)曝光后變得聚合，而正 性光刻膠允許通過曝光創(chuàng)建的圖案被去除。因此，二維和三維浮雕圖像可以在襯底上由固 化光曝光光敏聚合物而被創(chuàng)建。固化光通常是紫外光。在很多情況下，光敏聚合物的多種 處理方法可被用于創(chuàng)建復(fù)雜的幾何圖案。
[0007] 光刻的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是創(chuàng)建非常小且復(fù)雜的圖案的能力。然而，傳統(tǒng)的系統(tǒng)通常需要 平坦的襯底且在創(chuàng)建不平坦的形狀上不是非常有效。此外，該過程的傳統(tǒng)版本可能是耗時(shí) 且昂貴的，特別是對于復(fù)雜的圖案。因此，需要改進(jìn)用于光刻的系統(tǒng)和方法。
[0008] 概述
[0009] 本發(fā)明的各種實(shí)施例總體上涉及用于光刻的系統(tǒng)和方法。特別地，一些實(shí)施例涉 及實(shí)施光刻的系統(tǒng)和方法，其中成形、圖案化和后期處理發(fā)生在液體環(huán)境中。一些實(shí)施例提 供了用于創(chuàng)建在電子設(shè)備（例如，電路）、光學(xué)元件（例如，透鏡和全息圖）、機(jī)械（例如，微 機(jī)電系統(tǒng)）和生物學(xué)（例如，組織支架），或者這些的組合中常見的物理結(jié)構(gòu)的液體沉積光 刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)可包括曝光室、光學(xué)圖案生成器、光學(xué)窗口，和/或材料輸送子系統(tǒng)。曝光 室可以容納用于形成定制物理或折光指數(shù)結(jié)構(gòu)的材料。該材料可以包括具有可以在被曝光 于由光學(xué)圖案生成器創(chuàng)建的光強(qiáng)度圖案時(shí)局部地聚合的流動(dòng)單體的感光液體。
[0010] 光學(xué)窗口可以被配置為將曝光室從光學(xué)圖案生成器分離。根據(jù)一些實(shí)施例，光學(xué) 窗口允許強(qiáng)度圖案進(jìn)入曝光室，由此修改在曝光室中的材料的性質(zhì)。光學(xué)窗口可以包括固 體層，例如，提供機(jī)械支撐和形狀保持。材料輸送子系統(tǒng)可以被配置為傳輸材料至曝光室。
[0011] 本發(fā)明的具體實(shí)施例還包括包含有一套指令的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)以使一個(gè)或 多個(gè)處理器執(zhí)行本文所描述的方法、該方法的變體，以及其它操作。
[0012] 在一些實(shí)施例中，液體層可以在預(yù)先制造的結(jié)構(gòu)和光學(xué)窗口之間被插入。光學(xué)圖 案可以通過窗口被投影以修改感光液體的性質(zhì)。一種這樣的修改是光聚合而導(dǎo)致硬化、擴(kuò) 散和耐溶解。感光過程可以通過各種技術(shù)被限制以使其難于緊鄰掩膜版發(fā)生。例如，可在 一些實(shí)施例中使用一種化學(xué)抑制劑，其緩慢地從窗口的底層擴(kuò)散出以創(chuàng)建對光學(xué)圖案不敏 感的一薄層液體材料。因此，窗口的底部提供了模具的功能（平坦的或其它），而抑制劑提 供了脫模的功能。在本實(shí)施方式中，在模具上沒有磨損，因?yàn)楣腆w材料從未有過接觸。
[0013] 基座平臺(tái)可以被移動(dòng)（例如，距離窗口一段精確的距離）以為下一層騰出空間，并 重復(fù)該過程?；囊苿?dòng)可以由現(xiàn)代動(dòng)臺(tái)控制到納米級，從而實(shí)現(xiàn)非常精確的層控制。雖 然這些步驟是代表性的，許多變型是可能的。例如，非感光的液體，如溶劑，也可用于特定的 圖案化步驟。在一些實(shí)施例中，各個(gè)步驟被壓縮到一臺(tái)具有許多優(yōu)點(diǎn)的機(jī)器。
[0014] 盡管多個(gè)實(shí)施例被公開，從以下示出和描述了本發(fā)明的示意性實(shí)施例的詳細(xì)描述 中，本發(fā)明的其它實(shí)施例對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)變得顯而易見。如將要認(rèn)識(shí)到的，本發(fā)明 能夠在各個(gè)方面進(jìn)行修改，所有這些都不脫離本發(fā)明的精神和范圍。因此，附圖和詳細(xì)描述 應(yīng)被視為示例性的而非限制性的。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015] 本發(fā)明的具體實(shí)施例將通過采用附圖被描述和解釋，其中：
[0016] 圖1所示是根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的用于實(shí)施液體沉積光刻的系統(tǒng)的高級別 框圖；
[0017] 圖2所示是根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的液體沉積光刻過程的環(huán)境的簡化物理布 局；
[0018] 圖3A和3B所示是液體層厚度對在液體沉積光刻系統(tǒng)中的模具的有效分辨率的影 響；
[0019] 圖4所示是用于實(shí)施液體沉積光刻的一組操作的流程圖；
[0020] 圖5所示是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的用于多層折光指數(shù)三維結(jié)構(gòu)的制 造過程；
[0021] 圖6所示是根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的可能被生產(chǎn)的多層部分、全息圖、波導(dǎo)陣 列和光子晶體的波導(dǎo)的樣品；
[0022] 圖7所示在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中可能被使用的示例性計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。
[0023] 附圖未必一直按比例繪制。例如，圖中的一些元件的尺寸可以被擴(kuò)大或者縮小以 提高對本發(fā)明的實(shí)施例的理解。類似地，出于本發(fā)明的某些實(shí)施例的討論的目的一些部件 和/或操作可以被分成不同的塊或者組合成單塊。而且，雖然本發(fā)明服從各種修改和替代 形式，但是已經(jīng)在附圖中通過示例的方式示出并且在下面詳細(xì)的描述了特定實(shí)施例。然而， 不將本發(fā)明限于所描述的特定實(shí)施方式。相反，本發(fā)明旨在覆蓋落入由所附權(quán)利要求所限 定的本發(fā)明的范圍內(nèi)的所有修改、等同物以及替代方案。 具體實(shí)施例
[0024] 本發(fā)明的各種實(shí)施例總體上涉及用于光刻系統(tǒng)和方法。特別地，一些實(shí)施例涉及 實(shí)施光刻的系統(tǒng)和方法，其中成形、圖案化和后期處理發(fā)生在液體環(huán)境中。一些實(shí)施例提供 了用于在電子設(shè)備（例如，電路）、光學(xué)元件（例如，透鏡和全息圖）、機(jī)械（例如，微機(jī)電系 統(tǒng)）和生物學(xué)（例如，組織支架），或者這些的組合中常見的物理結(jié)構(gòu)的制造的液體沉積光 刻系統(tǒng)。通過使用掩膜版、投影光學(xué)元件和材料，該液體沉積系統(tǒng)可使用光刻以控制材料 (例如，光聚合物）的薄層的二維結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施例中，液體沉積系統(tǒng)可以創(chuàng)建由微流體 技術(shù)控制的薄層，以使得能夠在液體環(huán)境中成形、圖案化和后期處理該層，從熱極大簡化多 層結(jié)構(gòu)的創(chuàng)建。該結(jié)構(gòu)的多個(gè)層被迅速建立以創(chuàng)建通過現(xiàn)有方法來制造目前具有挑戰(zhàn)性的 可能的多個(gè)材料的厚結(jié)構(gòu)。。
[0025] 在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，固體窗口可以被用于能夠進(jìn)行液體前體的液壓輸送， 使得許多層可以高速度迅速地制造，并且該層的厚度可任意地薄。這個(gè)窗口的內(nèi)部可被布 置成抵抗固態(tài)化的液體的附著，使得高流通量單光子吸收可以被用于光刻。掃描或投影光 學(xué)光刻能選擇性地圖案化材料性能，包括液/固相、密度、指數(shù)或化學(xué)成分。窗口的內(nèi)部可 以大尺度（例如，透鏡）或小尺度地對部分的表面塑形，類似于光納米壓印光刻。
[0026] 通過本發(fā)明的不同的實(shí)施例提供的系統(tǒng)和方法使得復(fù)雜的結(jié)構(gòu)能夠被創(chuàng)建，通過 使材料遠(yuǎn)離光學(xué)窗口流動(dòng)以建立多層結(jié)構(gòu)。與此相反，一些傳統(tǒng)的系統(tǒng)允許液體跨窗口流 動(dòng)（例如，與窗口平行或大致平行地），從而僅允許向材料的全部厚度的單一的曝光。此 夕卜，在傳統(tǒng)的商業(yè)立體光刻中，窗口的第一和第二功能通過葉片提供，該葉片在一三維部分 的頂部涂上未覆蓋液體材料的平坦而均勻的層，該三維部分可在臺(tái)上被移動(dòng)（例如，向下、 旋轉(zhuǎn)等）。在這些傳統(tǒng)系統(tǒng)中的通過葉片涂新材料是耗時(shí)的且隨著層厚度減少耗時(shí)變的更 多。該層的最小高度是約5微米，厚度控制是大約+/-1微米。這些系統(tǒng)采用的技術(shù)將過程 限制于平坦的層。另外，具有多種材料的部分的制造將需要移除部分完成的零件，通過溶劑 清洗，然后再將零件在第二液體材料中重新放置并重新對準(zhǔn)。
[0027] 一些實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是使用封閉的系統(tǒng)，允許讓新液體的非常平坦的層快速插 入。每個(gè)液體層可以是與前一層不同的材料，這對于使用開放式液體的"桶"的立體光刻是 不可能實(shí)現(xiàn)的。雙光子"微立體光刻"有時(shí)也使用類似曝光幾何，其中激光掃描是通過一個(gè) 窗口聚焦到一個(gè)平臺(tái)。如同傳統(tǒng)的立體光刻，焦點(diǎn)使圖案聚合，然后平臺(tái)遠(yuǎn)離焦點(diǎn)移動(dòng)并重 復(fù)該過程，以在微米尺度建立復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。在窗口上的聚合被聚合物的雙光子反應(yīng)抑 制。所公開的系統(tǒng)的一些優(yōu)點(diǎn)是：1)利用一個(gè)高效的、單光子過程和高度平行的掩膜版光 刻以及2)多種材料很容易被操作。此外，一些傳統(tǒng)的系統(tǒng)在相鄰的層只用不混溶的材料， 這會(huì)使許多有趣的結(jié)構(gòu)消失。
[0028] 在下面的描述中，許多具體細(xì)節(jié)被闡述以便提供徹底理解本發(fā)明的實(shí)施例。這將 是顯而易見的，然而，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，在本發(fā)明的實(shí)施例可以在沒有這些具體細(xì) 節(jié)的情況下實(shí)施。在其它實(shí)例中，公知的結(jié)構(gòu)和設(shè)備以框圖的形式顯示。
[0029] 本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】包括各種步驟，這些步驟將在下面被描述。該步驟可以通 過硬件來執(zhí)行，或者可以具體表現(xiàn)為機(jī)器可執(zhí)行指令，其可以被用于引起由指令編程的通 用或?qū)Ｓ锰幚砥鱽韴?zhí)行步驟?？商鎿Q地，這些步驟可以由硬件、軟件和/或固件的組合來執(zhí) 行。
[0030] 例如，一些實(shí)施例提供了一圖形用戶界面模塊以生成被配置為獲得指令、接收設(shè) 計(jì)目標(biāo)和傳達(dá)效果的一個(gè)或多個(gè)圖形用戶界面屏幕，通用或?qū)Ｓ?通信模塊"用于與一個(gè)或 多個(gè)其它模塊和設(shè)備（例如，制造設(shè)備或制造控制模塊）交互，"設(shè)計(jì)模塊"用于接收和處理 在數(shù)學(xué)上地表達(dá)設(shè)計(jì)目標(biāo)、計(jì)算和制造限制的一組約束，"制造模塊"用于控制制造設(shè)備以 通過使用液體沉積光刻制造設(shè)備，以及其它通過本發(fā)明的實(shí)施例用于提供各種功能上需要 的模塊。還有，一些實(shí)施例可以將兩個(gè)或多個(gè)這些模塊合并為單一模塊和/或與不同的模 塊相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或多個(gè)這些模塊的功能性的一部分。
[0031] 在下面的描述中，出于解釋的目的，對許多特定細(xì)節(jié)進(jìn)行了闡述，以便徹底理解本 發(fā)明的實(shí)施例。然而，，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，本發(fā)明的實(shí)施例可以在沒有這 些具體細(xì)節(jié)的情況下被實(shí)施。本發(fā)明的實(shí)施例可以作為計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品被提供，其可以包 括在其上存儲(chǔ)指令的機(jī)器可讀介質(zhì)（或其它設(shè)備或機(jī)器）以執(zhí)行過程或引起過程被執(zhí)行。 機(jī)器可讀介質(zhì)可以包括，但不限于，軟盤、光盤、只讀光盤存儲(chǔ)器（⑶-ROM)、隨機(jī)存取存儲(chǔ) 器（RAM)、可擦可編程只讀存儲(chǔ)器（EPROM)、電可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器（EEPROM)、專用集 成電路（ASIC)、磁卡或光卡、閃存，或其他類型的媒體/機(jī)器可讀介質(zhì)的適合于存儲(chǔ)電子指 令。此外，本發(fā)明的實(shí)施例也可以被下載為計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其中該程序可以經(jīng)由通信鏈 路從一臺(tái)遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)傳送至請求計(jì)算機(jī)，通過以載波或其他傳播介質(zhì)體現(xiàn)的數(shù)據(jù)信號的方 式。
[0032] 術(shù)語
[0033] 以下給出了貫穿本申請所用的術(shù)語、縮寫詞以及短語的簡要定義。
[0034] 術(shù)語"連接"或"耦合"和相關(guān)術(shù)語在操作意義上被使用，并且未必限于直接的物 理連接或耦合。因此，例如，兩個(gè)設(shè)備可以直接地或者經(jīng)由一個(gè)或多個(gè)中間媒體或設(shè)備來耦 合。作為另一示例，可以以能夠在其間傳遞信息同時(shí)不與彼此共享任何物理連接的這樣一 種方式來耦合設(shè)備?；诒疚乃峁┑墓_內(nèi)容，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)前述定義將了解存 在的連接或耦合的各種方式。
[0035] 短語"在某些實(shí)施例中"、"根據(jù)各種實(shí)施例"、"在所示出的實(shí)施例中"、"在其它實(shí) 施例中"等類似的短語一般意味著跟隨該短語之后的特定特征、結(jié)構(gòu)或特性被包括在本發(fā) 明的至少一個(gè)實(shí)施例中，且可能被包括在多于一個(gè)實(shí)施例中。此外，這樣的短語未必指的是 相同的實(shí)施例或者指的是不同的實(shí)施例。
[0036] 如果本說明陳述部件或特征"可以"、"能夠"、"可能"或"也許"被包括或者具有特 性，則不要求該特定部件或特征被包括或者具有該特性。
[0037]
[0038] 圖1示出了一個(gè)處理環(huán)境100的高級別框圖，其中在電子設(shè)備（例如，電路）、光學(xué) 元件（例如，透鏡和全息圖）、機(jī)械（例如MEMS)，生物（例如，組織支架）中常用的物理結(jié) 構(gòu)，和/或它們的組合可以根據(jù)本發(fā)明的各種實(shí)施例被制造。如圖1所示，處理環(huán)境100提 供可用于在單一的機(jī)器中使用的執(zhí)行多個(gè)步驟的各種部件。該機(jī)器可以包括光學(xué)窗口 110、 曝光室120、材料輸送系統(tǒng)130、光學(xué)圖案生成器140、光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)150和基座平臺(tái)160。相 對于傳統(tǒng)的光刻系統(tǒng)，本發(fā)明的各種實(shí)施例用微流體注射代替旋轉(zhuǎn)涂布以及通過在非接觸 窗口上成形以平面化。在一些實(shí)施例中，模具可被用于緩慢釋放自由基抑制劑（02)，以保持 材料前體的厚層（例如，大約1微米），材料前體是非感光的，因此即使當(dāng)通過光掩模被照射 仍維持在液體狀態(tài)。
[0039] 在單個(gè)工具上的重復(fù)曝光極大地簡化了對這個(gè)可向多層納米圖案化提供顯著障 礙的光掩模的對準(zhǔn)。該布局也允許材料被限制于在模具（參見，例如，圖3A-3B，310)和預(yù) 先制造層之間的薄液體層中，從而免除了對傳統(tǒng)的對粘合劑和溶劑的需要，加快了反應(yīng)速 度并減少了材料的浪費(fèi)。因此，該系統(tǒng)結(jié)合了掩膜版投影和軟光刻表面控制的高通量和非 接觸的優(yōu)點(diǎn)。通過壓縮傳統(tǒng)光刻的多個(gè)過程至一臺(tái)機(jī)器，成千上萬個(gè)單獨(dú)的層可以被迅速 建立成復(fù)雜的、三維的材料。
[0040] 根據(jù)本發(fā)明各種實(shí)施例，光學(xué)窗口 110提供了一個(gè)入口點(diǎn)進(jìn)入曝光室120,對于來 自于光學(xué)圖案生成器140和光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)150的光具有低光學(xué)像差。光學(xué)窗口 110的外表 面可以被設(shè)計(jì)為與規(guī)定的形狀（例如，平坦的或球面的）一致，以在光波長的一小部分內(nèi)并 且允許在曝光期間內(nèi)保持該形狀。其結(jié)果是，光學(xué)窗口 110可以具有規(guī)定水平的硬度。
[0041] 為了確定所形成的部件的上部的、工作表面的形狀，光學(xué)窗口 110的內(nèi)表面可以 是一個(gè)與固化的液體前體相對的模具，使得固化材料的各層具有與模具近似的形狀。該模 具可以是一個(gè)簡單的形狀（例如，平坦的或球面的）和/或具有復(fù)雜的微米至納米尺度輪 廓（例如，衍射光柵）。在至少一個(gè)實(shí)施例中，在內(nèi)表面下方的液體層的厚度可以被調(diào)節(jié)，以 控制模制過程的有效分辨率（參見，例如，圖3)。
[0042] 在各種實(shí)施例中，光學(xué)窗口 110可以提供一封閉的腔室，使得液壓（又叫做微流 體）可以被用來控制一個(gè)或多個(gè)液體材料流入和流出曝光室120。在某些情況下，施加到液 體的外部源的壓力和/或平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)可以傳輸新的液體進(jìn)入曝光室120。根據(jù)雷諾數(shù)，此傳 輸可以是層狀的。
[0043] 光學(xué)窗口 110的內(nèi)部可以被布置成抵抗固化液體的附著，使得高流通量單光子吸 收可以被用于光刻。所述內(nèi)表面可以是與固化液體前體抗粘結(jié)的。在一些實(shí)施例中，這種 "不粘"的行為可以包括窗口的化學(xué)處理。光納米壓印光刻可用于在紫外線固化前涂布具有 化學(xué)脫模劑的軟（例如，聚二甲基硅氧烷（PDMS))模。在這里，多層可以針對該處理按順序 被制造。掃描或投影光學(xué)光刻能選擇性地圖案化材料的性質(zhì)，包括液/固相、密度、指數(shù)或 化學(xué)成分。光學(xué)窗口 110的內(nèi)部可以大尺度（例如，透鏡）或小尺度地對部分的表面塑形， 類似于光納米壓印光刻。
[0044] 光學(xué)窗口 110的外部可以是具有足夠的表面光學(xué)質(zhì)量，具有低散射且與所需的形 狀近似以在光波長的一小部分內(nèi)。光學(xué)窗口 110可以是平坦的、球面的或非球面的，以滿足 光學(xué)圖案生成器的需要（例如，掩膜投影光學(xué)元件）或符合內(nèi)表面的形狀。光學(xué)窗口 110 的主體可以包括多個(gè)層和/或內(nèi)部的流體通道，其可以具有足夠的堅(jiān)硬性以保持在材料輸 送系統(tǒng)130壓力下的內(nèi)部和外部形狀。在一些實(shí)施例中，光學(xué)窗口 110可以是低量光學(xué)散 射和體積相位一致的，使得有足夠的對比度和分辨率用于來自光學(xué)圖案生成器140和光學(xué) 監(jiān)控系統(tǒng)150的光。
[0045] 光學(xué)窗口 110的內(nèi)部典型的可具有較大表面粗糙度和/或表面高度的變化，因?yàn)?光學(xué)窗口 110和液體材料的該指數(shù)差異比窗口和空氣的該指數(shù)差異低得多。即，光學(xué)窗口 Iio的光學(xué)質(zhì)量取決于外表面，由于它具有相對于空氣的較大該指數(shù)，而不是具有相對于液 體材料前體的低該指數(shù)的內(nèi)表面。在一些實(shí)施例中，光學(xué)窗口 110的內(nèi)部可以是平坦的表 面或具有非平坦的、大尺度的形狀（如球形），其將會(huì)模制所得到的固體部分的形狀。在一 實(shí)施例中，光學(xué)窗口 110的內(nèi)部可以具有精細(xì)尺度細(xì)節(jié)，如在光納米壓印光刻的領(lǐng)域中已 知的。如果液體前體填充內(nèi)表面模具的精細(xì)細(xì)節(jié)，則層可以僅具有大尺度結(jié)構(gòu)。然而，最后 的曝光可消耗抑制劑，將最后一層固化到模具的精細(xì)尺度結(jié)構(gòu)中，如在光納米壓印光刻中 一樣。
[0046] 曝光室120可以包括熱控制來調(diào)節(jié)化學(xué)反應(yīng)或擴(kuò)散的速率。曝光室120可以被密 封（外部注射器的方式），或者不密封，這取決于其它系統(tǒng)部件的需求，主要是材料輸送系 統(tǒng)130。腔室的各側(cè)面可以與基座平臺(tái)加材料一起移動(dòng)或者各側(cè)面可被固定在適當(dāng)位置。 在后一種情況下，當(dāng)基座平臺(tái)被移動(dòng)時(shí)所制造的部分必須不附著在腔室側(cè)面，否則該部分 將被損壞。上述光學(xué)窗口 110的任何方法是適當(dāng)?shù)囊员３衷谇皇覀?cè)面的不粘特性。一些實(shí) 施例中限制了液體前體的光曝光，使得與腔室側(cè)面鄰近的材料維持在液體狀態(tài)。
[0047] 如果在已建立一些厚度且基座平臺(tái)160被停止后，光敏液體層仍保持在該部分的 邊緣（例如，透鏡），則可將全部部分區(qū)域暴露于光。這將會(huì)導(dǎo)致在該部分的邊緣的液體層 固化至腔室的側(cè)面。該腔室中的固體部分現(xiàn)在可以被除去且：保留在一起，向所述制造的部 分提供了一個(gè)外部的"包"或該腔室可被除去，形成該部分的"模具"，以向該部分的邊緣提 供特定的形狀和/或表面拋光。
[0048] 材料以液體形式被引入到處理系統(tǒng)100,而出去的方式則是通過并為成品的一部 分或作為從曝光室120中排出的"廢"液體。有用的材料通常是那些與光有相互作用（例 如，光聚合性樹脂等）或預(yù)先制造的結(jié)構(gòu)（例如，溶劑）。感光材料可包括那些在本領(lǐng)域中 已知的，如光聚合、光不穩(wěn)定（即隨光學(xué)曝光斷裂的鍵），或者其它光引發(fā)的化學(xué)變化。非感 光材料可包括擴(kuò)散的材料，具有特意指定的光吸收的材料（例如，以阻止光滲透到預(yù)先制 造的層），包含納米顆粒的懸浮體、細(xì)胞或其它小固體的材料，或與預(yù)先沉積的材料在化學(xué) 上或物理上相互作用的材料（例如，溶劑或顯影劑）。
[0049] 在處理系統(tǒng)100中可能的一種不尋常的材料的相互作用是利用光學(xué)鉗法或捕獲 力來操控懸浮在液體中固體的位置和方向。即，光學(xué)圖案的某部分，如果足夠集中，可以吸 引或排斥細(xì)胞、納米顆粒、碳納米管等等，并且安排這些進(jìn)入液體層內(nèi)指定的圖案。如果該 層接下來是通過熱或光固化被固化的，則這樣的安排就是永久性的。單個(gè)的材料可以包括 一個(gè)以上的這些性質(zhì)，例如，具有擴(kuò)散的單體或懸浮的納米顆粒的光聚合性液體。
[0050] 材料輸送系統(tǒng)130輸送可以通過微流體技術(shù)操作的液體材料，包括但不限于以下 內(nèi)容：1)基座平臺(tái)160的動(dòng)作，包括簡單的遠(yuǎn)離平臺(tái)的移動(dòng)，但也包括更為復(fù)雜的進(jìn)/出軌 跡；2)更復(fù)雜的基座平臺(tái)160的動(dòng)作包括轉(zhuǎn)動(dòng)；3)泵送材料進(jìn)或出曝光室120 ;4) -種或 多種材料的層流以在單次曝光中創(chuàng)建多材料粒子；以及5)非層流通過顯式混合器或通過 通道尺寸的選擇。該平臺(tái)的高度可以被改變以控制雷諾數(shù)，從而控制整個(gè)零件的流動(dòng)特性。
[0051] 光學(xué)圖案生成器140可使用多種技術(shù)生成光學(xué)圖案。在一些實(shí)施例中，掩膜投影 包括固定的和可重構(gòu)的（例如，液晶）掩膜可以被使用。此外，計(jì)算機(jī)生成全息圖可以在多 種實(shí)施例中被使用。計(jì)算機(jī)生成全息圖可以包括固定的和可重構(gòu)（例如，液晶）的全息圖。 另外，掩膜接近技術(shù)可在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中被使用。光學(xué)圖案生成器140可以產(chǎn)生掃描 焦點(diǎn)，通過透鏡移動(dòng)、檢流計(jì)掃描器、聲光掃描器，或其它技術(shù)/部件。光學(xué)圖案生成器140 可以包括多個(gè)這樣的方法，可以在不同的波長操作。例如，一些實(shí)施例通過使用液晶空間光 調(diào)制器提供一種在紅外線中的活細(xì)胞的捕獲以使用固定的掩膜投影在近紫外線生成全息 圖和單體的光聚合。
[0052] 光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)150可以被使用，以測量所制造的零件的性質(zhì)（例如，層厚度或光學(xué) 指數(shù)）以對這些性質(zhì)提供精確控制。傳統(tǒng)的測量和層厚度的控制也可以被使用。在一些實(shí) 施例中，光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)150可以測量基座平臺(tái)160或局部制造的零件的對準(zhǔn)，以使光學(xué)圖案 對這些已存在的特征的配準(zhǔn)。各種傳統(tǒng)的和新穎的對準(zhǔn)技術(shù)可被用于將掩膜與現(xiàn)有的圖案 對準(zhǔn)。
[0053] 基座平臺(tái)160通過遠(yuǎn)離窗口移動(dòng)便于在預(yù)先曝光和固化的材料和窗口之間引入 新液體材料。在一些實(shí)施例中，基座平臺(tái)160可連續(xù)地移動(dòng)，或在光學(xué)曝光過程中（被稱為 "停流光刻"）可能會(huì)停止。更復(fù)雜的移動(dòng)輪廓可以被用來實(shí)現(xiàn)特定的過程。例如，在曝光 步驟之間，平臺(tái)可以遠(yuǎn)離光學(xué)窗口 110移動(dòng)，以允許液體的更大厚度，然后在下一次曝光之 前被返回以創(chuàng)建薄層。這可以是在溶劑洗滌步驟中有用或提供更大體積的擴(kuò)散材料。
[0054] 基座平臺(tái)160可以是透明的或反射性的，以使得能夠?qū)υ撨^程進(jìn)行光學(xué)監(jiān)控?；?座平臺(tái)160,如同光學(xué)窗口 110的內(nèi)部，可以提供一模具的功能，成品零件將會(huì)從該模具上 被除去?？商娲兀脚_(tái)160可作為成品設(shè)備的一個(gè)集成部件以與該零件一起保留以。 在某些情況下，基座平臺(tái)160可包括一個(gè)或多個(gè)以下內(nèi)容：1) 一個(gè)簡單的襯底，例如光學(xué)平 面或半導(dǎo)體晶片；2)光學(xué)部件如透鏡、薄膜濾光器、晶體或偏振片；3)電、光或機(jī)械元件或 它們的任意組合（例如，CMOS電路、電光調(diào)制器，或微機(jī)電系統(tǒng)）；4)活組織；和/或5)光 吸收器以抑制光學(xué)反射進(jìn)入曝光區(qū)域。
[0055] 圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的處理環(huán)境的簡化物理布局的框圖200。根 據(jù)一些實(shí)施例，光學(xué)窗口 110形成模具的上表面。由光學(xué)圖案生成器140生成的光圖案可 以通過光學(xué)窗口 110到達(dá)結(jié)構(gòu)上。在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)窗口 110允許光學(xué)圖案進(jìn) 入曝光室120而不擾動(dòng)，并且可以保持結(jié)構(gòu)和/或?yàn)榻Y(jié)構(gòu)定形。
[0056] 光學(xué)窗口 110可以由玻璃或其它材料組成，并且可以與"不粘"表面層一起使用， 其中該表面層通常由PDMS或氟化基團(tuán)組成。窗口 /模具材料的其它實(shí)例是可以由固體灌 輸液體組成。在這樣的安排中，固體提供機(jī)械支撐和形狀保持性，而液體提供了可補(bǔ)充的脫 模層。
[0057] 光學(xué)窗口的內(nèi)表面可以是抵抗與固化液體前體粘結(jié)。這種"不粘"的表現(xiàn)可以包 括對窗口的化學(xué)處理。例如，在一實(shí)施例中，光納米壓印光刻可被用于在紫外線固化前涂布 具有化學(xué)脫模劑的軟（例如，聚二甲基硅氧烷（PDMS))模。在這里，多層可以針對該處理按 順序被制造，因此要求在這種情況下更嚴(yán)格。在其它實(shí)施例中，在非感光狀態(tài)直接與固態(tài)光 學(xué)窗口相鄰的一層液體材料前體可以被使用。液體材料前體的該層可以是每個(gè)層均勻的或 各層之間可以變化。
[0058] -非感光層可以被應(yīng)用而與被輸送到曝光室的固態(tài)光學(xué)窗口直接相鄰。這可以包 括一液體層通過層流或氣體（空氣）層被輸送，通過在內(nèi)窗口面的超疏水性表面被保持。在 一些情況下，材料前體的液體層通過化學(xué)抑制劑的存在呈現(xiàn)非感光性。這可以包括感光物 質(zhì)的抑制和消耗，通過從光學(xué)窗口的內(nèi)表面擴(kuò)散進(jìn)入材料前體的緊鄰層的具有抑制作用的 化學(xué)物質(zhì)。此擴(kuò)散抑制劑可以首先被吸收到窗口的內(nèi)表面上的可滲透的固體層內(nèi)（例如， PDMS)。抑制劑從滲透層擴(kuò)散到緊鄰的材料前體，提供一直接與窗口相鄰的薄且非感光層。 通常，抑制劑的量是有限的。此外，雖然新抑制劑從外部源擴(kuò)散是可能的，擴(kuò)散時(shí)間與距離 的平方成比例，并且因此沿可滲透固體層的長度輸送的時(shí)間比抑制劑通過薄層厚度的擴(kuò)散 時(shí)間大得多。因此，在新抑制劑從邊緣擴(kuò)散進(jìn)來以代替它之前，該層變成為抑制劑耗盡，證 明該方法作為抑制物質(zhì)的有限容量源的概念。
[0059] 當(dāng)抑制劑的濃度下降時(shí)，與窗口直接相鄰的非感光層的厚度一般會(huì)下降，直到抑 制劑被消耗完它達(dá)到零，而此時(shí)固化前體具有與窗口內(nèi)表面粘結(jié)的潛在可能性。因此在制 造消耗顯著的抑制劑的厚部分的過程中維持恒定的和/或非零的液體層厚度，促進(jìn)了輸送 或新的抑制劑的生成，且并非通過經(jīng)由固體滲透層的擴(kuò)散的方法。這些可以包括溶解在插 入的液體中的替換抑制劑的輸送。當(dāng)采用O2作為抑制劑時(shí)，這種效果的某種程度由于大氣 中的氧的存在幾乎是無法避免的。此外，可滲透的固體層的轉(zhuǎn)換，其中可能包括外部光學(xué)窗 口，可被用于將具有更高的抑制劑濃度的新區(qū)域代替耗盡的可滲透的固體。耗盡區(qū)可以被 丟棄或再加入抑制劑以備后用。這可以被認(rèn)為是"打印機(jī)色帶"的方法。該抑制劑可以經(jīng) 由固體滲透層、通過微流體通道在一循環(huán)系統(tǒng)中被實(shí)施。光學(xué)窗口對于抑制劑而言可以是 可滲透的，使得其能夠通過固體窗口的厚度被有效地被輸送。微多孔玻璃例如維克玻璃可 以填補(bǔ)這個(gè)角色。
[0060] 抑制劑可通過化學(xué)過程在固體滲透層內(nèi)生成。此化學(xué)過程可以通過一個(gè)或多個(gè)以 下內(nèi)容被啟動(dòng)：1)用于光圖案化的光，使得抑制劑在靠近其被消耗的區(qū)域產(chǎn)生；2)與用于 圖案化的光波長不同的光，其可提供在生成的抑制劑的位置和濃度上的獨(dú)立控制；3)熱； 和/或4)與一些存在于液體前體的物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)。優(yōu)選地，存在于該窗口中的物質(zhì)作為 催化劑用于該液體所攜帶的物質(zhì)，使得抑制劑僅產(chǎn)生于鄰近窗口 /液體的界面（由于催化 劑的定位）且抑制劑的供給是無限的（由于輸送具有液體前體的進(jìn)入）。
[0061] 在一些實(shí)施例中，光學(xué)捕獲和光聚合可以被組合以使復(fù)雜的雜化材料成為可能。 例如，硅珠可在液體中被通過液晶相位調(diào)制器圖案化的具有514nm的光捕獲。液體可以主 要是水，具有一小部分（-10% )的可聚合材料（乙二醇）。當(dāng)用紫外（UV)光照射時(shí)，液體 變成了固體水凝膠，在此結(jié)構(gòu)中永久鎖定捕獲的材料。隨后的層可以添加新的結(jié)構(gòu)來建立 復(fù)雜的三維組織支架或其他雜化材料。
[0062] 圖3A-3B示出了液體層厚度對在液體沉積光刻系統(tǒng)中的模具的有效分辨率的影 響。如圖3A所示，一液體層的厚度大于模具的表面特征有效地屏蔽來自固化層的這些特 征。如圖3B所示，一液體層的厚度小于表面的高度（包括沒有液體層）會(huì)導(dǎo)致固化的材料 表面近似于模具310的精細(xì)尺度輪廓。
[0063] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的用于實(shí)現(xiàn)液體沉積光刻的一組操作400 的流程圖。如圖4所示，插入操作410在預(yù)先制造的結(jié)構(gòu)和光學(xué)窗口之間插入液體層。投 影操作420投影光學(xué)圖案，通過該窗口來修改感光液體的性質(zhì)。這樣修改的一個(gè)例子是光 聚合可導(dǎo)致硬化、擴(kuò)散、或耐溶劑性。在一些實(shí)施例中，光感的過程可以被限制緊鄰掩膜發(fā) 生，例如，通過使用化學(xué)抑制劑，其緩慢地從該窗口的底層擴(kuò)散出以創(chuàng)建具有非感光性的液 體材料的一薄層。因此，在窗口的底部提供了模具的功能一平坦或其它一而由光抑制劑的 功能創(chuàng)建的液體層是用作脫模。在本實(shí)施例中，在模具上沒有磨損，因?yàn)楣腆w材料是永不接 觸的。調(diào)節(jié)操作430相對于光學(xué)窗口沿軌跡輪廓（例如，距離光學(xué)窗口一段精確的距離） 移動(dòng)基座平臺(tái)，以騰出空間給下一層。重復(fù)該過程。
[0064] 圖5和圖6示出多層是如何按順序地被制造以構(gòu)建復(fù)雜的光學(xué)設(shè)備。在這種情況 下，光聚合物允許在曝光完成后進(jìn)行單體的擴(kuò)散，引起曝光的區(qū)域發(fā)展增加的折光指數(shù)，如 在全息光聚合物的領(lǐng)域已知的那樣。該實(shí)施使得幾乎是任意的指數(shù)三維分布成為可能?？?速連續(xù)沉積和亞微米的薄層曝光使得用于高流通量光學(xué)元件制造的高分辨率三維指數(shù)結(jié) 構(gòu)成為可能。高分辨率指數(shù)結(jié)構(gòu)和高流通量的結(jié)合對于其它制造技術(shù)而言是不可能的。更 具體地，圖5示出的用于多層折光指數(shù)3D結(jié)構(gòu)的制造過程，而圖6示出可能被生產(chǎn)的多層 部分、全息圖、波導(dǎo)陣列和光子晶體的波導(dǎo)的樣品。
[0065] 示例件計(jì)筧機(jī)系統(tǒng)概沐
[0066] 本發(fā)明的具體實(shí)施例包括各種步驟和操作，這在上面已經(jīng)描述。各種這些步驟和 操作可以由硬件部件來執(zhí)行，或者可以具體表現(xiàn)為機(jī)器可執(zhí)行指令，其可以被用于引起由 指令編程的通用或?qū)Ｓ锰幚砥鱽韴?zhí)行步驟或引起一個(gè)或多個(gè)硬件部件來執(zhí)行這些步驟。可 替換地，這些步驟可以由硬件、軟件和/或固件的組合來執(zhí)行。像這樣，圖7是本發(fā)明的實(shí) 施例可以利用的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)700的示例。根據(jù)本示例，該計(jì)算機(jī)系統(tǒng)包括：總線710、至少 一個(gè)處理器720、至少一個(gè)通信端口 730、一個(gè)主存儲(chǔ)器740、可移動(dòng)存儲(chǔ)介質(zhì)750、只讀存儲(chǔ) 器760和大容量存儲(chǔ)器770。
[0067] 處理器720可以是任何已知的處理器，比如，但不限于，Intel?Itanium?或 Itanium 2.?處理器，或AMD? Opteron?或Athlon MP?:處理器，或Motorola?:處理器 的線路。通信端口（S)730可以是任何一個(gè)用于與調(diào)制解調(diào)器的撥號連接的RS-232端口、 10/100以太網(wǎng)端口，或使用銅纜或光纖千兆位端口。通信端口 730可以根據(jù)網(wǎng)絡(luò)例如局域 網(wǎng)（LAN)、廣域網(wǎng)（WAN)或者任何與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)700連接的網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行選擇。
[0068] 主存儲(chǔ)器740可以是隨機(jī)訪問存儲(chǔ)器（RAM)，或任何其它在本領(lǐng)域中公知的動(dòng)態(tài) 存儲(chǔ)設(shè)備。只讀存儲(chǔ)器760可以是任何靜態(tài)存儲(chǔ)設(shè)備，例如可編程只讀存儲(chǔ)器（PROM)芯片， 用于存儲(chǔ)靜態(tài)信息諸如用于處理器720的指令。
[0069] 大容量存儲(chǔ)器770可以被用于存儲(chǔ)信息和指令。例如，也可以使用硬盤等 Adaptec*家族的SCSI驅(qū)動(dòng)器、光盤、磁盤陣列如RAID，如Adaptec家族的RAID驅(qū)動(dòng)器，或 者任何其它的大容量存儲(chǔ)設(shè)備。
[0070] 總線710將處理器720與其他存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)器和通信模塊通信耦合。總線710可 以是基于PCI/PCI-X或基于SCSI系統(tǒng)總線，取決于所使用的存儲(chǔ)設(shè)備。
[0071] 可移動(dòng)存儲(chǔ)介質(zhì)750可以是任何類型的外部硬盤驅(qū)動(dòng)器、軟盤驅(qū)動(dòng)器、IOMEGA? Zip驅(qū)動(dòng)器，只讀光盤驅(qū)動(dòng)器（⑶-ROM)、可復(fù)寫式光盤機(jī)（⑶-RW)，或數(shù)字只讀光盤存儲(chǔ)器 (DVD-ROM)〇
[0072] 以上描述的部件意在舉例說明某些類型的可能性。上述實(shí)施例決不應(yīng)當(dāng)限制本發(fā) 明的范圍，因?yàn)樗鼈儍H是示例性實(shí)施例。
[0073] 綜上所述，本發(fā)明提供了新穎的系統(tǒng)、方法和安排用于液體沉積光刻。雖然本發(fā)明 的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的詳細(xì)描述已經(jīng)在上面給出，各種替換、修改和等同物對于本領(lǐng)域技 術(shù)人員而言將是顯而易見的，改變不脫離本發(fā)明的精神。例如，盡管上面描述的實(shí)施例涉及 特定的特征，本發(fā)明的范圍還包括具有特征和表現(xiàn)形式的不同組合的實(shí)施例，而沒有包括 所有已描述的特征。因此，本發(fā)明的范圍旨在涵蓋所有這樣的替換、修改和落在權(quán)利要求范 圍之內(nèi)的變化，以及所有的等同物。因此，上面的描述不應(yīng)被視為限制本發(fā)明，它是由所附 的權(quán)利要求所限定的范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種液體沉積光刻的方法，包括： 在結(jié)構(gòu)和光學(xué)窗口之間插入感光液體層； 通過光學(xué)窗口投影光學(xué)圖案W修改所述層的性質(zhì)； 相對于所述光學(xué)窗口將基座平臺(tái)移動(dòng)一精確的距離，從而騰出空間用于隨后的下一 層；化及 多次重復(fù)W上步驟W逐層建立結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，其中被修改的所述層的所述性質(zhì)包括 液/固相、密度、指數(shù)或化學(xué)成分。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括調(diào)節(jié)每一層的所述光學(xué)圖 案。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括釋放化學(xué)抑制劑W在所述 光學(xué)窗口和所述感光液體之間創(chuàng)建非感光的材料前體層。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括用于在插入下一感光液體 層之前調(diào)節(jié)所述材料前體層。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括通過層流輸送直接與所述 光學(xué)窗口相鄰的非感光層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，其中所述光學(xué)圖案是通過空間光調(diào)制 器生成的。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體沉積光刻的方法，其中所述結(jié)構(gòu)包括定制的折光指數(shù)。
9. 一種用于液體沉積光刻的系統(tǒng)，包括： 曝光室； 進(jìn)入到所述曝光室的光學(xué)窗口； 基座平臺(tái)，被配置為相對于所述光學(xué)窗口表示零件； 圖案生成器，被配置為通過所述光學(xué)窗口投影光學(xué)圖案到所述零件，從而修改在所述 和所述光學(xué)窗口之間的感光液體層的性質(zhì)；W及 材料輸送系統(tǒng)用于輸送材料進(jìn)入所述曝光室，所述材料包括所述感光液體和將與所述 光學(xué)窗口相鄰的所述感光液體保持為液體形式的抑制劑。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述曝光室是封閉的且所述材料輸送系統(tǒng)使用 微流體注射W控制所述材料流入和流出曝光室。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述光學(xué)窗口為所述零件提供模具。
12. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述抑制劑通過所述光學(xué)窗口被釋放W將與所 述光學(xué)窗口相鄰的所述感光液體保持為液體形式。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中與所述光學(xué)窗口相鄰的為液體形式的所述感光 液體通過調(diào)節(jié)所述抑制劑的釋放被保持在大約設(shè)定的厚度。
14. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述曝光室包括熱控制W調(diào)節(jié)化學(xué)反應(yīng)或擴(kuò)散 的速率。
15. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)W測量所述零件的性質(zhì)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述基座平臺(tái)可W根據(jù)通過所述圖案生成器的 光學(xué)曝光之間的計(jì)劃的軌跡進(jìn)行旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)。
17. -種液體沉積光刻的方法，包括： 選擇感光液體W建立結(jié)構(gòu)層； 在曝光室內(nèi)在光學(xué)窗口和用于創(chuàng)建所述結(jié)構(gòu)的模具之間插入感光液體層。 釋放自由基抑制劑W保持與所述光學(xué)窗口相鄰的材料前體層，其中所述材料前體層是 非感光的。 修改所述感光液體層的性質(zhì)，其中修改所述性質(zhì)包括通過所述光學(xué)窗口投影光學(xué)圖 案；化及 在多次重復(fù)W上步驟之前，根據(jù)軌跡輪廓調(diào)節(jié)基座平臺(tái)的位置或方向，W逐層建立所 述結(jié)構(gòu)。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括通過使用光納米壓印光 刻涂布具有化學(xué)脫模劑的所述模具。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液體沉積光刻的方法，進(jìn)一步包括保持材料前體層的恒定 厚度。
20. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液體沉積光刻的方法，其中所述光學(xué)窗口的內(nèi)側(cè)被用于定 形所述結(jié)構(gòu)。
【文檔編號】G03F7/20GK104471483SQ201380027151
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年3月22日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月22日
【發(fā)明者】羅伯特·R·麥克利奧德, 亞當(dāng)·厄尼斯, 邁克爾·科爾, 埃里克·摩爾 申請人:科羅拉多大學(xué)董事會(huì)