專利名稱：多層光學(xué)片組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及多層光學(xué)片組件，更詳細(xì)地說，涉及增加接合面積而提高耐久性的同時還提高灰度的多層光學(xué)片組件。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置作為使用于筆記本電腦、個人計算機(jī)、智能手機(jī)或電視機(jī)等的顯示裝置，隨著液晶顯示裝置的需求逐漸擴(kuò)大，其性能也逐年得到改善。作為非發(fā)光器件的液晶顯示裝置的液晶板，其結(jié)構(gòu)上需要背光單元。背光單元由各種各樣的光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成。另外，為了提高灰度，背光單元使用周期性地排列的光學(xué)片。圖1 (a)和I (b)是簡要表示以往開發(fā)的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。如圖1 (a)和I (b)所不,背光單兀10包括光源1、反射板2、導(dǎo)光板3、擴(kuò)散片4、第一光學(xué)片5和第二光學(xué)片6。上述光源I是產(chǎn)生可視光的元件，這樣的光源I可選擇性地使用發(fā)光二極管(LED)和冷陰極熒光燈(CCFL)等。從上述光源I發(fā)出的光入射到導(dǎo)光板3,在導(dǎo)光板3內(nèi)部一邊發(fā)生全反射一邊行進(jìn)，以小于臨界角的入射角入射到導(dǎo)光板3內(nèi)部表面的光不發(fā)生全反射而透過導(dǎo)光板3，所以在上側(cè)和下側(cè)分別射出光。
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此時，上述反射板2反射向下側(cè)射出的光，使其再次入射到導(dǎo)光板3中，從而提高光傳輸效率。上述擴(kuò)散片4使通過上述導(dǎo)光板3的上表面射出的光發(fā)生擴(kuò)散，從而實現(xiàn)灰度的均勻化、增大視場角，但通過擴(kuò)散片4的光在垂直方向上的灰度降低。上述第一光學(xué)片5包括基底部5a和構(gòu)圖5b，其執(zhí)行一次聚光和放出，使得從擴(kuò)散片4入射的光發(fā)生折射而垂直地入射。此外，上述構(gòu)圖5b在基底部5a的上表面一體地形成，其具有能夠使經(jīng)由基底部5b入射的光發(fā)生朝向垂直方向的折射并射出的形狀。一般情況下，上述構(gòu)圖的截面構(gòu)成三角形形狀，三角形的頂角通常為90度左右。而且,上述第二光學(xué)片6具有與第一光學(xué)片5相同的形狀,為了提高在第一光學(xué)片5中進(jìn)行了一次聚光的光的灰度而執(zhí)行二次聚光并放出，這種情況下，第一光學(xué)片5和第二光學(xué)片6的周期、高度和折射率等可根據(jù)需要而不同。在此，為了進(jìn)一步提高灰度，第一光學(xué)片5和第二光學(xué)片6可以具備以下結(jié)構(gòu)，即上述第一光學(xué)片5的構(gòu)圖的延伸方向和第二光學(xué)片6的構(gòu)圖的延伸方向相垂直地交叉配置，上述第一光學(xué)片5通過將在上述第二光學(xué)片6的基底部下表面涂敷的粘接層6a作為媒介物而粘接成一體。如果以涂敷在上述第二光學(xué)片6的下表面的粘接層6a作為媒介物使得第二光學(xué)片6和第一光學(xué)片5上下層疊地粘接，則上述第一光學(xué)片5的構(gòu)圖5b如圖1 (b)所示，頂點部5c的一部分埋入到上述粘接層6a進(jìn)行接觸，從而接合成一體。
但是，粘接強(qiáng)度由上述頂點部5c埋入到上述粘接層6c而實現(xiàn)接合的面積所確定，埋入上述粘接層6c內(nèi)部的上述頂點部5c的面積有限度，因此存在接合強(qiáng)度由此降低的問題。如果上述第一光學(xué)片5和第二光學(xué)片6之間的接合強(qiáng)度降低，會發(fā)生上述第一光學(xué)片5和上述第二光學(xué)片6相互分離的剝離現(xiàn)象，存在成品率降低的問題

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決以往的多層光學(xué)片組件中存在的問題而做出，其目的在于提供一種多層光學(xué)片組件，在由一對構(gòu)成的光學(xué)片的接合過程中，不僅增大接合面積而提高接合質(zhì)量和耐久性，還能夠利用接合區(qū)域中的光的折射，使得灰度降低實現(xiàn)最小化。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的一種多層光學(xué)片組件，包括:上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖；下部光學(xué)片，在上述上部光學(xué)片的下部以層疊形態(tài)設(shè)置，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及粘接層，設(shè)置在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間；上述第二構(gòu)圖包含:光傳輸部，越向上部其橫截面面積越變?。灰约奥袢氩?，在上述光傳輸部的上部連續(xù)地連結(jié)，且至少一部分埋入到上述粘接層中；上述埋入部同上述粘接層相接的截面的周長，大于上述光傳輸部以連續(xù)的傾斜度向上部延伸而形成的假想截面的軌跡的周長。此外，也可以是，在上述第二構(gòu)圖的最下部與最上部之間，截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)具備至少一個以上的不連續(xù)點。此外，也可以是，上述不連續(xù)點位于上述埋入部和上述光傳輸部的截面軌跡的分界處。此外，也可以是,上述光傳輸部的截面軌跡由直線構(gòu)成。此外，也可以是，上述埋入部同上述粘接層相接的截面的軌跡由直線構(gòu)成。此外，也可以是，上述埋入部包含自上述光傳輸部向上方延伸的一對延伸面和連結(jié)上述一對延伸面之間的連結(jié)面。此外，也可以是，上述埋入部具有與上述粘接層至少具有3個以上接觸面的多角形截面。此外，也可以是，上述連結(jié)面具有與上述下部光學(xué)片的下側(cè)面平行的水平面。此外，也可以是，上述連結(jié)面具備至少一個凹部。此外，也可以是，上述連結(jié)面被實施產(chǎn)生粗糙面的表面處理。此外，也可以是，上述延伸面相對于與上述下部光學(xué)片的下表面平行的下部水平面垂直地延伸，上述下部水平面自上述光傳輸部的端部水平地延伸。此外，也可以是，上述埋入部具備自上述光傳輸部朝上部向上傾斜地延伸的一對延伸面,上述延伸面的上側(cè)末端部相連接。 此外，也可以是，上述埋入部的最上部與上述上部光學(xué)片的下部相接。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖具備相同的截面形狀且沿著橫向延伸而形成。此外，也可以是，上述上部光學(xué)片和上述下部光學(xué)片配置成使上述第一構(gòu)圖的延伸方向和上述第二構(gòu)圖的延伸方向相互交叉。此外，也可以是，還包括反射偏振片，其配置成與上述下部光學(xué)片或上述上部光學(xué)片層疊的形態(tài)，根據(jù)從下部傳輸來的光的波長，選擇性地使光透過。此外，也可以是，上述粘接層是在上述上部光學(xué)片的下表面或者與此相對置的上述下部光學(xué)片的上表面以點狀形成的。此外，也可以是，上述粘接層是在上述下部光學(xué)片的上述第二構(gòu)圖的表面或者與上述第二構(gòu)圖相對置的上述上部光學(xué)片的下表面以線狀形成的。此外，也可以是，上述粘接層是在上述下部光學(xué)片的上述第二構(gòu)圖的表面或者與上述第二構(gòu)圖相對置的上述上部光學(xué)片的下表面，以具有多個開放區(qū)域的網(wǎng)狀形成的。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的另一種多層光學(xué)片組件，其包括:上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖；下部光學(xué)片，設(shè)置在上述上部光學(xué)片的下部，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及粘接層，形成在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間；上述第二構(gòu)圖的橫截面面積越向上部越變小，在其最下部與最上部之間具備傾斜度不連續(xù)地增加的一個以上不連續(xù)點。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖的折射率大于上述粘接層的折射率。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖包含:光傳輸部，在下部不埋入到上述粘接層且具有規(guī)定的傾斜度；以及埋入部，向上述光傳輸部的上部延伸，其至少一部分埋入到上述粘接層中。此外，也可以是，上述埋入部具備向上部延伸的2個以上延伸面。此外，也可以是，上述埋入部具備向上部延伸的一對延伸面，通過上述延伸面，其截面形成三角形。此外，也可以是，上述埋入部的高度小于或等于上述粘接層的厚度。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的又一種多層光學(xué)片組件，其包括:上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖；下部光學(xué)片，設(shè)置在上述上部光學(xué)片的下部，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及粘接層，形成在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間；上述第二構(gòu)圖具有越向上部其橫截面面積越變小的形狀，并且，該第二構(gòu)圖包含:光傳輸部，具有直線形態(tài)的截面；以及埋入部，自上述光傳輸部向上傾斜地連結(jié)并且呈直線形狀。此外，也可以是，上述埋入部具備自上述光傳輸部朝上部向上傾斜地延伸的一對延伸面,上述延伸面的上側(cè)末端部相連接。此外，也可以是，上述埋入部的截面形成為三角形。此外，也可以是，還包括反射偏振片，其配置成與上述下部光學(xué)片或上述上部光學(xué)片層疊的形態(tài)，根據(jù)從下部傳輸來的光的波長，選擇性地使光透過。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的再一種多層光學(xué)片組件，其包括:上部光學(xué)片，具備向上部突出的第一構(gòu)圖；下部光學(xué)片，在上述上部光學(xué)片的下部以層疊形態(tài)設(shè)置，具備由向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的多個圖形構(gòu)成的第二構(gòu)圖；以及粘接層，設(shè)置在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間；上述第二構(gòu)圖的多個圖形中，一部分圖形的形狀是越向上部其橫截面面積越變小，并且在最下部與最上部之間具有傾斜度不連續(xù)地增加的一個以上不連續(xù)點。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖的多個圖形中，一部分圖形的最上部至最下部的距離大于與其鄰接的圖形的最上部至最下部的距離。
此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖是不同形狀的圖形重復(fù)配置而成。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖的一部分圖形包含:光傳輸部，越向上部其橫截面面積越變小；以及埋入部，在上述光傳輸部的上部連續(xù)地連結(jié)，至少一部分埋入到上述粘接層中。此外，也可以是，上述埋入部同上述粘接層相接的截面的周長，大于自上述光傳輸部以連續(xù)的傾斜度向上部延伸而形成的假想截面的軌跡的周長。此外，也可以是，上述第二構(gòu)圖的折射率大于上述粘接層的折射率。(發(fā)明效果)根據(jù)為解決上述技術(shù)問題的本發(fā)明的上述結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)以下技術(shù)效果。首先，本發(fā)明使埋入到在上部光學(xué)片與下部光學(xué)片之間設(shè)置的粘接層內(nèi)部的構(gòu)圖結(jié)構(gòu)最佳化，從而增加與粘接層的接合面積，實現(xiàn)上述埋入部與上述粘接層的接合面積的最大化，提高接合質(zhì)量，其結(jié)果，能夠提高光學(xué)片組件的耐久性。特別是，本發(fā)明中，構(gòu)成設(shè)置于下部光學(xué)片中的構(gòu)圖的光傳輸部和埋入部相互間以傾斜度不連續(xù)的形態(tài)連接，因此，能夠?qū)⒄辰訉雍穸缺３忠欢ǖ耐瑫r，還能夠?qū)崿F(xiàn)與粘接層相接的接合面積的最大化。其次，上述埋入部按照比上述光傳輸部的傾斜度更大的傾斜度向上傾斜地形成三角形，使得在至少一部分埋入到上述粘接層內(nèi)部的上述埋入部的內(nèi)部也可以將入射的光向上部折射進(jìn)行聚光，可實現(xiàn)提高光學(xué)片的灰度的效果。


圖1(a)和1(b)是簡要表示以往開發(fā)的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2是表示本發(fā)明的實施例涉及的多層光學(xué)片組件的簡要結(jié)構(gòu)的立體圖。圖3是表示圖2所示的光學(xué)片組件中的第二構(gòu)圖的形狀的示意圖。圖4是表示圖2的上部光學(xué)片與下部光學(xué)片的結(jié)合狀態(tài)的剖視圖。圖5是圖2的第二構(gòu)圖的截面軌跡及截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)的示意圖。圖6(a)和6(b)是比較表示在圖2的第二構(gòu)圖中埋入到粘接層內(nèi)部的埋入部的示意圖。圖7是表示在圖6(a)和6 (b)的粘接層內(nèi)部，第二構(gòu)圖根據(jù)與粘接層相接的周邊長度而出現(xiàn)的差異的示意圖。圖8(a)和8(b)是比較表示在圖2的第二構(gòu)圖中未埋入到粘接層內(nèi)部的光傳輸部的示意圖。圖9是表不圖8的光傳輸部的同橫向長度相對應(yīng)的差異的不意圖。圖10是表示在圖2的實施例中通過光學(xué)片的光的折射狀態(tài)的示意圖。圖11是表示在圖2的實施例中以粘接層的厚度大于埋入部高度的狀態(tài)進(jìn)行接合的示意圖。圖12(a)和12(b)是表示根據(jù)圖2的粘接層厚度，在第二構(gòu)圖中截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)不連續(xù)之處的位置的示意圖。圖13(a)和13(b)是表示在圖2的第二構(gòu)圖中光傳輸部的截面軌跡為直線形態(tài)的實施例的示意圖。
圖14(a) 14(c)是表示在圖2的第二構(gòu)圖中光傳輸部的截面軌跡為非直線形態(tài)的實施例的示意圖。圖15是在圖2的第二構(gòu)圖中截面軌跡導(dǎo)函數(shù)未具有不連續(xù)點形態(tài)的實例的示意圖；圖16是在圖2的光學(xué)片組件中第二構(gòu)圖形成不均勻形態(tài)的圖形的示意圖；圖17是表示在圖2的第二構(gòu)圖中埋入部包含延伸面和連結(jié)面而形成的實施例的示意圖。圖18(a) 18(c)是表示圖17的埋入部中的連結(jié)面和延伸面的變形形態(tài)的示意圖。圖19是圖示了與圖17的連結(jié)面的寬度變化相對應(yīng)的、灰度與粘接力之間的相關(guān)關(guān)系的圖。圖20是圖示了與圖17的延伸面的高度變化相對應(yīng)的、灰度與粘接力之間的相關(guān)關(guān)系的圖。圖21是圖不了與圖17的粘結(jié)層的厚度變化相對應(yīng)的、灰度與粘接力之間的相關(guān)關(guān)系的圖。圖22是表示圖2的光學(xué)片組件還包含反射偏振片的狀態(tài)的分解立體圖。圖23是表示通過圖19的反射偏振片使光透過或反射的狀態(tài)的示意圖。
具體實施例方式參照

如上所述構(gòu)成的本發(fā)明涉及的多層光學(xué)片組件的優(yōu)選實施例。然而，這并不是將本發(fā)明限定于具體的實施方式，通過本實施例有助于更明確理解本發(fā)明。而且，說明本發(fā)明的實施例時，對于相同結(jié)構(gòu)賦予了相同符號，并省略對其詳細(xì)說明。首先，參照圖2和圖3，說明本發(fā)明的實施例涉及的多層光學(xué)片組件的概略結(jié)構(gòu)如下。圖2是表示本發(fā)明的實施例涉及的多層光學(xué)片組件的簡要結(jié)構(gòu)的立體圖，圖3是表示圖2所示的光學(xué)片組件中的第二構(gòu)圖的形狀的示意圖。本發(fā)明涉及的多層光學(xué)片組件能夠使用在用于改變光路經(jīng)的各種領(lǐng)域，在本實施例中將使用在液晶顯示裝置上的情況為例進(jìn)行說明。如圖所示，在構(gòu)成液晶顯示裝置時，必須具備用于向液晶面板提供光的背光單元(BLU、Back Light Unit)。這種背光單元大致由光源100、導(dǎo)光板200、擴(kuò)散片300和多層光學(xué)片組件400構(gòu)成。所述光源100—般由發(fā)出光的發(fā)光體構(gòu)成,在所述導(dǎo)光板200的側(cè)部發(fā)出光,并向所述導(dǎo)光板200方向傳輸光。而且，所述導(dǎo)光板200反射及散射從所述光源100發(fā)出的光，并向所述擴(kuò)散片300方向傳輸。所述擴(kuò)散片300配置在所述導(dǎo)光板200的上部，用于擴(kuò)散來自所述導(dǎo)光板200的光，使之均勻擴(kuò)散之后向上部傳輸。而且，所述多層光學(xué)片組件400配置在所述擴(kuò)散片300的上部，將傳輸?shù)降墓膺M(jìn)行聚光之后使之向上部移動。所述多層光學(xué)片組件400 —般由上部光學(xué)片410和下部光學(xué)片420這樣一對光學(xué)片構(gòu)成。通過在如此構(gòu)成的所述上部光學(xué)片410和下部光學(xué)片420上形成的構(gòu)圖，光朝著與所述多層光學(xué)片組件400的表面正交的方向聚光并折射。進(jìn)一步仔細(xì)觀察所述多層光學(xué)片組件400，則所述多層光學(xué)片組件400由所述上部光學(xué)片410、所述下部光學(xué)片420和粘接層430構(gòu)成。在所述上部光學(xué)片410的上表面形成有第一構(gòu)圖412，該第一構(gòu)圖412向上部方向突出，并且越向上部其橫截面面積越變小。所述上部光學(xué)片410通過所述第一構(gòu)圖412，將從下部傳輸來的光進(jìn)行折射和聚光之后向上部射出。一般地，所述第一構(gòu)圖412可以由三角形棱鏡沿一方向延伸而形成,且排列有多個。所述粘接層430位于所述上部光學(xué)片410的下部，用于使所述下部光學(xué)片420和所述上部光學(xué)片410能夠接合。此時，優(yōu)選所述粘接層430由光透射率高的材料形成，以便能夠透射從所述擴(kuò)散片300傳輸來的光。在此，所述粘接層430的厚度可以約為0.Ιμπι 50μπι左右，可以由含有一種以上丙烯酸酯類、聚酯類、聚碳酸酯類聚合物樹脂等的聚合物樹脂形成。所述下部光學(xué)片420配置在所述上部光學(xué)片410的下部，在其上表面形成有第二構(gòu)圖422。所述第二構(gòu)圖422包括:光傳輸部422a，越向上部其橫截面面積越變??；埋入部422b，與所述光傳輸部422a連續(xù)地連接，且至少一部分埋入到所述粘接層430中。所述光傳輸部422a未埋入到所述粘接層430而暴露于空氣中，使得從所述擴(kuò)散片300傳輸來的光進(jìn)行折射之后向上部方向傳輸。所述埋入部422b連接于所述光傳輸部422a的上部，其與所述粘接層430相接的截面軌跡的周長，大于所述光傳輸部422a以連續(xù)的傾斜度延伸而形成的假想截面軌跡T的周長。所述埋入部422b可以形成為不同形狀，在本實施例中，所述埋入部422b具有從所述光傳輸部422a朝著上部向上傾斜地延伸的一對延伸面S I，且所述延伸面SI的上側(cè)末端部彼此相連接。如圖3所示，由所述埋入部422b和所述光傳輸部422a構(gòu)成的所述第二構(gòu)圖422向上部方向突出形成，且越向上部其橫截面面積越變小，上部傾斜與下部傾斜相比更向上傾斜。在此，所述光傳輸部422a的截面的軌跡可以形成為直線，所述埋入部422b同所述粘接層430相的截面的軌跡可以由直線構(gòu)成。而且，所述埋入部422b可以形成為具有一對所述延伸面SI的三角形形狀。然而，圖示的所述埋入部422b的形狀并不限定，為了便于理解本發(fā)明的實施例選擇了三角形。如此構(gòu)成的所述上部光學(xué)片410和下部光學(xué)片420，各自的所述第一構(gòu)圖412和所述第二構(gòu)圖422以相同的橫截面面積沿橫向延伸而形成,而所述第一構(gòu)圖412的延伸方向和所述第二構(gòu)圖422的延伸方向彼此相交叉地接合。此時，所述第一構(gòu)圖412的延伸方向和所述第二構(gòu)圖422的延伸方向可具有各種交叉角度，在本實施例中以90度角接合。
其次，參照圖4觀察所述上部光學(xué)片410和所述下部光學(xué)片420通過所述粘接層430接合的狀態(tài)如下。圖4是表示圖2的上部光學(xué)片410與下部光學(xué)片420的結(jié)合狀態(tài)的剖視圖。如圖所示，所述下部光學(xué)片420通過所述粘接層430接合在所述上部光學(xué)片410的下部，所述埋入部422b埋入到所述粘接層430內(nèi)部。而且，所述埋入部422b的最上部部分可以與所述上部光學(xué)片410的下表面接觸。若所述埋入部422b的上部部分與所述上部光學(xué)片410的下表面相接時，從所述埋入部422b射出的光經(jīng)過所述粘接層430的距離縮短，因此，能夠使由所述粘接層430導(dǎo)致灰度降低的現(xiàn)象最小化。關(guān)于在所述埋入部422b光發(fā)生折射的情況，在下面參照圖10后述。另一方面，如圖所示，所述埋入部422b埋入到所述粘接層430內(nèi)部而與所述粘接層430相接的截面的周長，大于所述光傳輸部422a以連續(xù)的傾斜度延伸而形成的假想截面軌跡T的周長。因此，所述埋入部422b的周長大于所述光傳輸部422a的假想截面軌跡T的周長，所以，與所述粘接層430相接的面積變得更大，從而能夠提高所述上部光學(xué)片410和所述下部光學(xué)片420的接合質(zhì)量。另一方面，所述粘接層430以一定厚度形成在與所述第二構(gòu)圖422相對應(yīng)的上部光學(xué)片410的整個下表面上，但并不限定于此，可以部分形成。S卩，所述粘接層430可以以點狀分布在與所述第二構(gòu)圖422相對置的所述上部光學(xué)片410的下表面或者與此相對置的所述下部光學(xué)片420的上表面，因此利用點狀的所述粘接層430作為媒介物，所述下部光學(xué)片420和所述上部光學(xué)片410彼此部分接合。此外，所述粘接層430可以以線型形成在與所述第二構(gòu)圖422相對置的所述上部光學(xué)片410的下表面或者與其相對置的所述下部光學(xué)片420的上表面，因此利用線型粘接層430作為媒介物，所述下部光學(xué)片420和所述上部光學(xué)片410彼此部分接合。而且，所述粘接層430可以以具有多個開放區(qū)域的網(wǎng)格狀，形成在與所述第二構(gòu)圖422相對置的所述上部光學(xué)片410的下表面或者與其相對置的所述下部光學(xué)片420的上表面，因此利用網(wǎng)格狀粘接層430作為媒介物，所述下部光學(xué)片420和所述上部光學(xué)片410彼此部分接合。S卩，如此地，所述粘接層430可以以不同形態(tài)形成，而并不限定于具體形態(tài)。其次，參照圖5觀察第二構(gòu)圖422的截面軌跡如下。圖5是表示圖2的第二構(gòu)圖422的截面軌跡和截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)的示意圖。所述第二構(gòu)圖422可以形成為不同形態(tài)，形成為在最下部與最上部之間，截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)至少具有一個以上的不連續(xù)點P1、P2。如圖所示，第二構(gòu)圖422向上部方向突出地形成，并且越向上部其橫截面面積越變小。在此，所述第二構(gòu)圖422向上部方向突出地形成，且具有傾斜規(guī)定角度的傾斜度，越向上部其其橫截面面積越變小，而上部的傾斜與下部的傾斜相比更向上傾斜。此時，所述第二構(gòu)圖422的上部和下部的傾斜度，在不連續(xù)點P1、P2處改變。所述不連續(xù)點P1、P2是沿所述第二構(gòu)圖422的截面的軌跡的導(dǎo)函數(shù)不連續(xù)的位置。
觀察圖5所示的所述第二構(gòu)圖422的截面軌跡導(dǎo)函數(shù)，可知曲線并不沿x軸均勻地連續(xù)形成，而在Pl點和P2點處出現(xiàn)不連續(xù)。如此，所述第二構(gòu)圖422的截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)不連續(xù)地形成，因此，上部和下部的傾斜度及形狀可以不同，埋入到所述粘接層430內(nèi)部的所述埋入部422b和所述光傳輸部422a的形狀也可以不同。其次，參照圖6(a)、6(b)和圖7觀察與埋入到所述粘接層430內(nèi)部的所述埋入部422b的形狀相對應(yīng)的接合部分的周長之差。圖6 (a)和6 (b)是將在圖2的第二構(gòu)圖422中埋入到所述粘接層430內(nèi)部的埋入部422b進(jìn)行比較表示的示意圖，圖7是表示在圖6 (a)和6 (b)的粘接層430內(nèi)部第二構(gòu)圖422與粘接層430相接的周長之差的示意圖。圖6 (a)是表示本發(fā)明的一實施例涉及的第二構(gòu)圖422通過所述粘接層430接合的狀態(tài)的示意圖，所述第二構(gòu)圖422由與所述光傳輸部422a的截面軌跡的傾斜相比截面軌跡的傾斜更向上傾斜的所述埋入部422b構(gòu)成，而所述埋入部422b埋入到所述粘接層430內(nèi)部。而且，圖6· (b)是表示所述埋入部422b具有所述光傳輸部422a以連續(xù)傾斜度延伸而形成的假想截面軌跡T，所述埋入部422b和所述光傳輸部422a的截面軌跡具有統(tǒng)一傾斜度，而所述埋入部422b被埋入到所述粘接層430內(nèi)部。比較圖6 (a)和圖6 (b)可知，雖然所述埋入部422b被埋入到具有相同厚度d的粘接層430內(nèi)部，但是，圖6 Ca)所示的所述埋入部422b與所述粘接層430相接的截面的周長更大。與所述粘接層430相接的截面的周長更大，則表示與其相應(yīng)的接觸面積增加，從而會提聞接合質(zhì)量。更詳細(xì)地，參照圖7，通過數(shù)學(xué)式具體觀察圖6 (a)和圖6 (b)的各自的所述埋入部422b與具有相同厚度d的所述粘接層430相接的截面的周長。首先，在圖6 Ca)的情況下，所述埋入部422b與所述粘接層430相接部分的截面軌跡長度以2x表示，所述光傳輸部422a的傾斜角為Θ，而所述埋入部422b以比所述光傳輸部422a更大α角的傾斜角向上傾斜，所以所述埋入部422b的傾斜角為θ+α。因此，所述埋入部422b與所述粘接層430相接部分的長度，可以通過如下數(shù)學(xué)式求得。數(shù)學(xué)式1:
權(quán)利要求
1.一種多層光學(xué)片組件，其特征在于，包括: 上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖； 下部光學(xué)片，在上述上部光學(xué)片的下部以層疊形態(tài)設(shè)置，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及 粘接層，設(shè)置在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間； 上述第二構(gòu)圖包含:光傳輸部，越向上部其橫截面面積越變??；以及埋入部，在上述光傳輸部的上部連續(xù)地連結(jié)，且至少一部分埋入到上述粘接層中； 上述埋入部同上述粘接層相接的截面的周長，大于上述光傳輸部以連續(xù)的傾斜度向上部延伸而形成的假想截面的軌跡的周長。
2.如權(quán)利要求1所述的多層光學(xué)片組件，其特征在于，在上述第二構(gòu)圖的最下部與最上部之間，截面軌跡的導(dǎo)函數(shù)具備至少一個以上的不連續(xù)點。
3.如權(quán)利要求2所述的多層光學(xué)片組件，其特征在于，上述不連續(xù)點位于上述埋入部和上述光傳輸部的截面軌跡的分界處。
4.如權(quán)利要求1所述的多層光學(xué)片組件，其特征在于，上述光傳輸部的截面軌跡由直線構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所述的多層光學(xué)片組件，其特征在于，上述埋入部同上述粘接層相接的截面的軌跡由直線構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求5所述的多層光學(xué)片組件,其特征在于，上述埋入部包含自上述光傳輸部向上方延伸的一對 延伸面和連結(jié)上述一對延伸面之間的連結(jié)面。
7.一種多層光學(xué)片組件，其特征在于，包括: 上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖； 下部光學(xué)片，設(shè)置在上述上部光學(xué)片的下部，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及 粘接層，形成在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間； 上述第二構(gòu)圖的橫截面面積越向上部越變小，在其最下部與最上部之間具備傾斜度不連續(xù)地增加的一個以上不連續(xù)點。
8.如權(quán)利要求7所述的多層光學(xué)片組件，其特征在于，上述第二構(gòu)圖的折射率大于上述粘接層的折射率。
9.一種多層光學(xué)片組件,其特征在于,包括: 上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖； 下部光學(xué)片，設(shè)置在上述上部光學(xué)片的下部，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及 粘接層，形成在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間； 上述第二構(gòu)圖具有越向上部其橫截面面積越變小的形狀，并且，該第二構(gòu)圖包含:光傳輸部，具有直線形態(tài)的截面；以及埋入部，自上述光傳輸部向上傾斜地連結(jié)并且呈直線形狀。
10.一種多層光學(xué)片組件，其特征在于，包括: 上部光學(xué)片，具備向上部突出的第一構(gòu)圖； 下部光學(xué)片，在上述上部光學(xué)片的下部以層疊形態(tài)設(shè)置，具備由向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的多個圖形構(gòu)成的第二構(gòu)圖；以及 粘接層，設(shè)置在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間； 上述第二構(gòu)圖的多個圖形中，一部分圖形的形狀是越向上部其橫截面面積越變小，并且在最下部與最上部之 間具有傾斜度不連續(xù)地增加的一個以上不連續(xù)點。
全文摘要
提供一種多層光學(xué)片組件，包括上部光學(xué)片，具有向上部突出的第一構(gòu)圖；下部光學(xué)片，在上述上部光學(xué)片的下部以層疊形態(tài)設(shè)置，具有向上述上部光學(xué)片側(cè)突出的第二構(gòu)圖；以及粘接層，設(shè)置在上述上部光學(xué)片與上述下部光學(xué)片之間；上述第二構(gòu)圖包含光傳輸部，越向上部其橫截面面積越變小；以及埋入部，在上述光傳輸部的上部連續(xù)地連結(jié)，且至少一部分埋入到上述粘接層中；上述埋入部同上述粘接層相接的截面的周長，大于上述光傳輸部以連續(xù)的傾斜度向上部延伸而形成的假想截面的軌跡的周長。
文檔編號G02B5/04GK103163578SQ20121053059
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月8日
發(fā)明者閔池泓, 金榮一, 趙誠植, 李宇鐘, 李泰濬, 金熹貞, 黃俊皖, 趙成民, 權(quán)五玄, 鄭鎮(zhèn)吉 申請人:株式會社Lms