專利名稱：微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)中多鏡陣列的監(jiān)測方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)，其中，由射束偏轉(zhuǎn)元
件組成的平面狀布置例如耀:一鏡陣列用于可變地照明光瞳面。
背景技術(shù)：
在用于制造精細(xì)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體元件的微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng) 中，越來越多使用射束偏轉(zhuǎn)元件的平面狀布置，借助它們可以非常靈活地操 縱投射光，以便改善微光刻投射曝光設(shè)備的成像特性。這方面的一個(gè)例子是 所謂Multi-Mirror-Array(多鏡陣列)，其中將多個(gè)微鏡，優(yōu)選地按行和列排列 成陣列。孩i鏡可運(yùn)動(dòng)并尤其可繞兩個(gè)互相垂直的軸線傾斜，從而使它們始于 中性位置的表面法線可沿任意方向傾斜。
在照明系統(tǒng)中這可以利用于可變地改變照明的調(diào)整。對此的例子在 WO2005/026843A2及EP1262836Al中提供。此外，多鏡陣列還用作微光刻 投射曝光設(shè)備的反射性掩模母版(WO2005/096098A2)。
對于此類部件重要的是，得知各鏡元件準(zhǔn)確的傾斜位置，為的是能調(diào)整 決定性地影響相應(yīng)的成像特性的精確的位置。
例如在US6421573B1中公開了一種裝置，其中輔助光源被用于確定各 掃描器鏡的傾斜角，在這里借助掃描器鏡使UV激光器的光線偏轉(zhuǎn)，以便能 刻寫圖案。
由US6965119已知一種調(diào)整多鏡陣列相應(yīng)鏡元件的方法，其中，部分 曝光射束，亦即投射光，從射束路徑提取，以便能通過強(qiáng)度測量實(shí)施鏡元件 的調(diào)整。這種方法顯然是有缺點(diǎn)的，由于有效光的提取造成強(qiáng)度損失，這對 于盡可能短的曝光時(shí)間而言是不希望發(fā)生的。
因此，按現(xiàn)有技術(shù)為避免因強(qiáng)度損失帶來的損害，例如可以在物鏡尚未 利用的時(shí)間內(nèi)，進(jìn)行多鏡陣列鏡元件取向的檢查及調(diào)整。當(dāng)然，在有些情況 下延長了為了檢查鏡元件所需的停止工作時(shí)間，這是不希望的以及影響相應(yīng) 物鏡的有效工作。借助在使鏡元件運(yùn)動(dòng)的致動(dòng)器上的相應(yīng)的傳感器來確定多鏡陣列鏡元 件的旋轉(zhuǎn)角度或傾斜角非常麻煩，這是由于鏡元件數(shù)量巨大，而且由于傳感 器需要安裝空間，導(dǎo)致形式上為多鏡陣列的射束偏轉(zhuǎn)元件的排列所占的容積 很大。
發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的是提供一種裝置及一種方法，借助它能以有效的方式 確定多鏡陣列鏡元件的角向位置。尤其是應(yīng)提供一種方法和設(shè)備，借助它們 能檢測和能測量照射許多平面狀排列的射束偏轉(zhuǎn)元件的投射光的偏轉(zhuǎn)，并由 此能監(jiān)測和調(diào)整這些偏轉(zhuǎn)。然而因?yàn)槔缬捎跓嶝?fù)荷之類引起光學(xué)元件表面 和尤其表面區(qū)形狀或取向的改變，對于監(jiān)測成像特性和修正可能的成像缺陷 而言是人們所關(guān)心的，所以這種方法和設(shè)備可考慮許多其他的應(yīng)用。
此目的通過有權(quán)利要求1所述特征的設(shè)備以及有權(quán)利要求56所述特征 的方法達(dá)到。有利的設(shè)計(jì)是從屬權(quán)利要求的技術(shù)主題。
本發(fā)明的基本構(gòu)思在于，除照明系統(tǒng)投射光束偏轉(zhuǎn)元件平面狀布置的投 射光外，測量照明裝置的至少一個(gè)測量光束被引導(dǎo)到要檢查的射束偏轉(zhuǎn)元件 上，從而可以由檢測裝置記錄測量光束由射束偏轉(zhuǎn)元件引起的偏轉(zhuǎn)。如果假
偏轉(zhuǎn)相互關(guān)聯(lián)，那么最終可以借助此單獨(dú)的測量裝置，確定投射光的偏轉(zhuǎn)或 這種相對于規(guī)定的調(diào)整的改變。通過附加地設(shè)置產(chǎn)生相應(yīng)測量光束的單獨(dú)的 測量裝置，可以取消將有效光從投射光中提取，而且可以實(shí)施在利用微光刻 投射曝光設(shè)備期間連續(xù)進(jìn)行的、對于要檢查的光學(xué)元件偏轉(zhuǎn)改變所進(jìn)行的檢 驗(yàn)和確定。為此，僅需要使一個(gè)或多個(gè)測量射束的入射方向不同于一個(gè)或多 個(gè)投射光束的入射方向，從而不發(fā)生相互影響。
采用這種方法，尤其可以監(jiān)測和檢查光學(xué)元件要檢查的鏡面其表面法線 的角度變化或相應(yīng)的4竟面的取向。
優(yōu)選地，所述方法和設(shè)備可以被用于檢查尤其上面已說明的多鏡陣列 (Multi-Mirror-Array MMA)的4竟元4牛。
測量射束的入射方向，既可以在涉及光學(xué)元件要檢查表面的入射角方面 不同，也可以在入射方位角方面不同。入射方位角，在這里指的是相應(yīng)射束 的入射平面相對于一個(gè)規(guī)定的平面，例如一個(gè)沿北-南取向布置的入射平面的平均旋轉(zhuǎn)角度。
若測量光束和投射光的入射方向在入射方位角方面沒有區(qū)別，則它們必 須至少在入射角方面不同，以避免彼此影響和允許通過檢測系統(tǒng)記錄從鏡面 反射的測量光束。
若測量光束的入射方向與一個(gè)或多個(gè)投射光束的入射方向，在入射方位 角方面不同，則附加地還可以在要檢查的光學(xué)元件的入射角方面存在區(qū)別。 不過這并不必要。
優(yōu)選的是，測量光束的入射方向與一個(gè)或多個(gè)投射光束的入射方向，在 入射方位角方面有差別，此時(shí)繞要檢查的光學(xué)元件表面法線的旋轉(zhuǎn)角度可以
在30°以上的范圍內(nèi)，優(yōu)選地大于60。且尤其彼此的旋轉(zhuǎn)角度為90°。當(dāng)測量 光的入射面和投射光的入射面之間為90。配置時(shí)，提供特別大的安裝空間， 用于設(shè)置測量照明裝置和相應(yīng)配置的檢測裝置。
為了保證要用測量光檢查的光學(xué)元件的規(guī)定照明，以及同樣地為了允許 按規(guī)定記錄測量光由于與光學(xué)元件的交互作用的變化，可以一方面在照明源 與要檢查的光學(xué)元件之間，和/或另一方面在要檢查的光學(xué)元件與相應(yīng)的檢測 裝置之間，分別設(shè)置光學(xué)系統(tǒng)。
測量光可以有任何恰當(dāng)?shù)牟ㄩL，以及既處于可見光區(qū)也處于不可見光 區(qū)。通常，光是指任何電磁射線。
測量照明用的光學(xué)系統(tǒng)可以包括一個(gè)或多個(gè)準(zhǔn)直器，尤其形式上為具有 連接在上游的微透鏡陣列的孔板，從而產(chǎn)生相應(yīng)地準(zhǔn)直的測量光束。
這些準(zhǔn)直的測量光束由要檢查的表面，以及相應(yīng)的設(shè)在檢測裝置的位置 傳感器前的會(huì)聚透鏡反射，尤其是微會(huì)聚透鏡組成的透鏡陣列，它們作為遠(yuǎn) 場衍射圖像或傅里葉變換，在相應(yīng)的會(huì)聚透鏡焦平面內(nèi)成像。在那里的焦平 面內(nèi)可以設(shè)置相應(yīng)的位置傳感器，例如4象限檢測器或位置敏感式二維傳感 器，它們確定抵達(dá)傳感器的光錐與中性位置的偏差，中性位置與要檢查的光 學(xué)元件表面規(guī)定的取向相對應(yīng)。
為獲得更多的安裝空間，可以在要檢查的光學(xué)元件與檢測裝置之間設(shè)置 附加的光學(xué)部件，它允許檢測裝置遠(yuǎn)離要檢查的光學(xué)元件設(shè)置。此外可以采 用一種光學(xué)部件，它可以在要檢查的光學(xué)元件表面區(qū)清晰成像的同時(shí)，實(shí)施 檢測裝置可變地配置。為此，將相應(yīng)地成像的光學(xué)部件設(shè)計(jì)為，使光學(xué)元件 要檢查的表面區(qū)，在滿足交線條件(亦稱"向甫魯條件(Scheimpflug condition)")的情況下，在為位置傳感器配設(shè)的光學(xué)透鏡上成像。
同時(shí)，相應(yīng)的光學(xué)部件必須保證，測量光束在纟企測裝置的;f企測會(huì)聚透鏡 上的入射方向，與光學(xué)元件相關(guān)表面區(qū)的取向，或與多鏡陣列鏡元件的傾斜 角相對應(yīng)。這例如可以通過具有兩個(gè)會(huì)聚透鏡的中繼光學(xué)部件保證。
按本發(fā)明的設(shè)備和方法，確定光學(xué)元件鏡面按角度的取向，可以在光學(xué) 元件或其中設(shè)置光學(xué)元件的照明系統(tǒng)的使用期間連續(xù)進(jìn)行。由此對于主動(dòng)控 制或調(diào)整可操縱的射束偏轉(zhuǎn)元件，例如多鏡陣列的微鏡，可以使用確定的值。
在下面借助附圖對兩種實(shí)施例的詳細(xì)說明中，可以清楚看出本發(fā)明其他 優(yōu)點(diǎn)和特征。在這里附圖以純粹示意的方式表示
圖1非常簡化地表示微光刻投射曝光設(shè)備的透視圖2表示要檢查的形式上為多鏡陣列的光學(xué)元件側(cè)視圖3表示圖1中要檢查的光學(xué)元件俯視圖和測量裝置圖4表示按本發(fā)明的測量裝置透視圖5表示按本發(fā)明的測量裝置第一實(shí)施例側(cè)視圖6表示按本發(fā)明的測量裝置第二實(shí)施例側(cè)^L圖7表示封裝在殼體內(nèi)的多鏡陣列側(cè)視圖8表示一種實(shí)施例透視圖，其中借助照相機(jī)記錄多鏡陣列各個(gè)鏡元件 的傾斜；
圖9表示一種圖案，它適合在圖8所示實(shí)施例中使用； 圖IO表示有多鏡陣列的照明系統(tǒng)側(cè)視圖ll表示校準(zhǔn)裝置概況，其中一方面表示校準(zhǔn)板，另一方面表示在鏡 元件運(yùn)動(dòng)期間的強(qiáng)度分布，以及在鏡元件角與系統(tǒng)角之間由此確定的關(guān)系； 圖12表示控制回路方框圖，它可以被用于監(jiān)測和控制射束偏轉(zhuǎn)元件； 圖13表示圖12所示調(diào)節(jié)算法的詳細(xì)方框圖；以及 圖14表示測量裝置結(jié)構(gòu)簡圖，它使用一種頻率倍增法。
具體實(shí)施例方式
l.投射曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)
圖1非常示意地表示投射曝光設(shè)備10的透視圖，它適用于光刻制造微結(jié)構(gòu)化構(gòu)件。投射曝光設(shè)備IO包含照明系統(tǒng)12,它在設(shè)置在所謂掩模平面 內(nèi)的掩模14上，照明狹窄的在圖示實(shí)施例中矩形的照明區(qū)16。照明系統(tǒng)12 包含光源，借助它可產(chǎn)生投射光。常用的光源例如是采用激光介質(zhì)KrF、 ArF 或F2的準(zhǔn)分子激光器，借助它們可分別產(chǎn)生波長248nm、 193nm或157nm 的投射光。在掩才莫14上處于照明區(qū)16內(nèi)部的結(jié)構(gòu)18，借助投射物鏡20在 感光層22上成像。感光層22,在這里它例如可以涉及光刻膠，施加在晶片 24上或另 一種適用的襯底上，以及處于投射物鏡20的也稱為晶片平面的像 平面內(nèi)。因?yàn)橥渡湮镧R20通常有成像比例|(3|<1，所以處于照明區(qū)16內(nèi)部的 結(jié)構(gòu)18縮小成像為16'。
這種投射曝光設(shè)備10的性能，不僅取決于投射物鏡20，而且還取決于 給掩模14照明的照明系統(tǒng)12。除了照射在掩模14上的光束強(qiáng)度外，它的照 明角分布也影響質(zhì)量，以這種質(zhì)量將包含在掩沖莫14內(nèi)的結(jié)構(gòu)18在感光層22 上成像。根據(jù)要成像的結(jié)構(gòu)18的方向和尺寸，采用不同的照明角分布是有 利的。因?yàn)榻柚渡淦毓庠O(shè)備10應(yīng)給不同的掩模14成像，所以理想的照明 系統(tǒng)是，用它可以方便地調(diào)整不同的照明角分布。為此，對于決定性地確定 照明角分布的照明系統(tǒng)12的光瞳面而言，需要能借助可驅(qū)動(dòng)的光學(xué)元件盡 可能可變地照明。
2.按本發(fā)明的測量原理
圖2在示意側(cè)視圖中表示這種光學(xué)元件的一個(gè)例子，光學(xué)元件的監(jiān)測和 控制可以使用按本發(fā)明的設(shè)備或按本發(fā)明的方法。圖l的光學(xué)元件涉及所謂 多鏡陣列(Multi-Mirror-Array) 26，它包括多個(gè)小的鏡元件28,它們設(shè)置為可 以運(yùn)動(dòng)，確切地說尤其可以傾斜，從而使例如幾乎彼此成行和列地并列的鏡 元件28的鏡面30可以有不同的取向。入射的投射光32由此可以通過在鏡 面30上反射，分為許多反射的投射光束34,它們的傳播方向可以通過鏡面 30在規(guī)定的界限之內(nèi)傾斜而自由選擇。在本文中傾斜是指繞軸線的旋轉(zhuǎn)運(yùn) 動(dòng)，該軸線可以基本上通過鏡元件28中心、在其邊緣或甚至在鏡元件28之 外延伸，從而相對于入射的投射光32改變鏡面30的取向。后面提到的兩種 可選才奪的方案還往往稱為旋轉(zhuǎn)。根據(jù)鏡元件28機(jī)械懸掛和致動(dòng)器的實(shí)施形 式，也可以使用平移和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的組合，在下文中為了簡化將這種組合同樣 稱為"傾斜運(yùn)動(dòng)"，目的是達(dá)到改變鏡元件28的取向，并因而也改變反射的 投射光束34的傳播方向。
15此外，在多個(gè)系統(tǒng)中，入射的投射光32在照射到鏡面30前，還通過使 用微透鏡陣列分成一個(gè)個(gè)光束，且聚焦在鏡元件28上。
在微光刻投射曝光設(shè)備10的照明系統(tǒng)12中，這種多鏡陣列26可以被 用于可變地照明光瞳面，也簡稱光瞳照明。為此，入射的投射光32在足夠 數(shù)量的鏡元件28上偏轉(zhuǎn)，使得在光瞳面上產(chǎn)生期望的光分布。在這里，鏡 數(shù)量不僅對光強(qiáng)度的空間波動(dòng)，而且對反射的投射光束34(疊加它們組成光 瞳照明)的最小直徑，均有重要影響。光學(xué)設(shè)計(jì)的計(jì)算表明，為了在光瞳面
少需要4000個(gè)鏡。因?yàn)殓R元件28傾斜角的非常小的改變就已經(jīng)對光瞳照明， 并因而對在掩模14上的照明角分布有巨大作用，所以本發(fā)明提出，借助測 量技術(shù)確定鏡面30準(zhǔn)確的角向位置。
根據(jù)本發(fā)明，如圖3所示，除了入射的投射光32外，亦即除了由照明 系統(tǒng)12照明掩模14的有效光(也稱為物鏡射束)外，還設(shè)置附加的測量照明 裝置，它將測量光36,例如形式上為至少一個(gè)測量光束，被引導(dǎo)到多鏡陣列 26的鏡元件28。按此實(shí)施例，測量照明為此可以產(chǎn)生一個(gè)或多個(gè)測量光束 或測量射束，它們對于一些或所有4竟元件28或掃描亦即^f皮此相繼，或同時(shí) 引導(dǎo)到鏡元件28上。因?yàn)闇y量光束的入射方向是已知的，所以可以通過測 量反射的測量光束的出射方向，得出反射的鏡面30的取向。在這里利用了 測量光36的偏轉(zhuǎn)與投射光32的偏轉(zhuǎn)相關(guān)聯(lián)。因此反射的測量光38包含有 關(guān)傾斜狀態(tài)并因而有關(guān)鏡元件28取向的信息。在圖3所示的測量裝置中， 在一個(gè)平面內(nèi)的測量光36被引導(dǎo)到鏡元件28上，這一平面相對于入射的投 射光32的入射平面繞反射鏡面30的表面法線轉(zhuǎn)90°。
由此也可以在照明系統(tǒng)12工作期間實(shí)現(xiàn)鏡元件28取向的連續(xù)測量。因 此不會(huì)為了確定鏡元件28的取向而造成投射曝光設(shè)備10的停用時(shí)間。因?yàn)?為了確定鏡元件28的取向并不使用任何入射的投射光32部分，所以不會(huì)形 成光損失，否則會(huì)降低投射曝光設(shè)備10的生產(chǎn)量。
圖4用透視圖表示按本發(fā)明的測量原理詳情。由圖4可以看出，入射的 投射光32以規(guī)定的入射角a沿入射方向40照射鏡元件28的鏡面30。在這 里入射的投射光32的入射方向40與鏡面30的表面法線42橫跨入射平面(xz 平面)44,按反射法則，反射的投射光束34的出射方向46也處于此平面內(nèi)。
按圖3所示，在yz平面48內(nèi)，此平面在方位上相對于投射光32的入射平面40繞表面法線42旋轉(zhuǎn)一個(gè)數(shù)量級為90。的旋轉(zhuǎn)角度e,入射的測量 光36沿入射方向50被引導(dǎo)到鏡面28上，它在鏡面28上反射后，作為反射 的測量光38沿出射方向52朝檢測裝置的方向發(fā)射。因此在本方案中，測量 光36的入射方向50與投射光32的入射方向40，至少在方位角的入射方向 方面，亦即在入射平面內(nèi)不同。附加地或^fe另一種選4奪，測量光36也可以 按一個(gè)不同于投射光32的入射角照射鏡面30。
這一點(diǎn)針對測量光36的入射方向50'舉例說明，它處于才殳射光32在其 中照射鏡元件28的同一個(gè)入射平面44內(nèi)，然而相對于表面法線42形成入 射角a'， a'與投射光32入射方向40的入射角a不同。因此，反射的測量光 38也以不同于投射光32的角度，沿出射方向52'從鏡元件28發(fā)射。這種包 括入射的測量線36入射方向50'和反射的測量光38射出方向52'的布局，也 構(gòu)成了 一種按本發(fā)明的方案。
3.測量裝置實(shí)施例
圖5表示測量裝置的一種實(shí)施例，其中，測量照明裝置的光源54將光 引導(dǎo)到孔板56上。通過孔板56產(chǎn)生多個(gè)點(diǎn)光源58。在下游，準(zhǔn)直器會(huì)聚透 鏡60分別構(gòu)成準(zhǔn)直器，并由相關(guān)的點(diǎn)光源58產(chǎn)生的光，產(chǎn)生準(zhǔn)直的測量光 束62，準(zhǔn)直器會(huì)聚透鏡60可以為微透鏡陣列，或者可以微透鏡陣列得方式 組合。由不同準(zhǔn)直器會(huì)聚透鏡60產(chǎn)生測量光束62,優(yōu)選地互相平行傳播。
可替換地，單個(gè)測量光束62也可以用兩個(gè)電流計(jì)掃描器或一種由一個(gè) 多邊形掃描器與一個(gè)電流計(jì)掃描器的組合，在多鏡陣列26上掃描。光源， 例如VCSEL(見下文)還可以是脈沖的，使光源僅在命中鏡元件28時(shí)發(fā)光。 由此在鏡之間的區(qū)域不影響信號，所述信號時(shí)間分辨地由檢測裝置記錄。
準(zhǔn)直的測量光束62照射多鏡陣列26要檢查的鏡面28,以及在那里根 據(jù)鏡面28的取向沿不同的方向偏轉(zhuǎn)。反射的測量光束64照射微透鏡陣列， 它包含多個(gè)檢測器會(huì)聚透鏡66，在它們的后焦平面內(nèi)設(shè)置檢測裝置的位置傳 感器68。通過這種配置，反射的測量光束64照射檢測器會(huì)聚透鏡66的角度， 與位置傳感器68上反射的測量射束64聚焦的焦點(diǎn)位置為傅里葉關(guān)系。
因?yàn)榘凑丈厦嬉颜f明的反射法則，反射的測量光束64的角度取決于多 鏡陣列26各相關(guān)鏡元件28的取向，因此可以通過記錄位置傳感器68上的 焦點(diǎn)位置，確定鏡元件28的取向。可例如使用4象限檢測器或位置敏感性 二維傳感器作為位置傳感器68。以此方式，例如可以確定4竟元件28相對于預(yù)定的表面取向傾斜的從士2至±3。的角度范圍。
若鏡元件28的鏡面30有彎曲度，則測量光束62可被引導(dǎo)到同一個(gè)鏡 元件28的不同點(diǎn)上。這可以同時(shí)或也可以相繼，甚至用同一個(gè)測量光束62 采用一種掃描法實(shí)現(xiàn)。然后，由測量光束62對于鏡面30不同點(diǎn)的不同偏轉(zhuǎn)， 可以確定曲率。另一種確定曲率的可能性在于，從已知入射測量光36的發(fā) 散度出發(fā)，例如通過確定一個(gè)來自彎曲鏡面30的測量光束62在位置傳感器 68上的焦點(diǎn)直徑，確定其發(fā)散度并因而鏡面30的曲率。
通過在位置傳感器68上信號的積分及時(shí)間比較，在假定光源有恒定強(qiáng) 度的情況下，可以進(jìn)一步測量鏡面30反射系數(shù)的可能的改變，以及推斷鏡 層的退化。
為了使包括位置傳感器68的檢測裝置和連接在上游包括檢測器會(huì)聚透 鏡66的微透鏡陣列能離多鏡陣列26—定距離布置，按另一種圖6所示的實(shí) 施例，設(shè)附加的中繼光學(xué)部件70。圖中用兩個(gè)會(huì)聚透鏡72和74純粹示意表 示的中繼光學(xué)部件70,將多鏡陣列26成像在檢測器會(huì)聚透鏡66的布置上。 通過中繼光學(xué)部件70，允許離光學(xué)元件一個(gè)/多個(gè)要檢查的表面，在本例中 為鏡面30,距離較大，而不限制要檢查的角度范圍。因此所述中繼光學(xué)部件 70使傾斜可檢測的角度范圍與位置傳感器68離多鏡陣列26的距離脫耦。以 此方式測量裝置可以設(shè)置在照明系統(tǒng)12的射束路徑之外，在那里可提供足 夠的安裝空間。
在圖6所示的實(shí)施例中，位置傳感器68和包括檢測器會(huì)聚透鏡66的微 透鏡陣列設(shè)置在平面76和78中，它們相對于多鏡陣列26布置在其中的平 面80滿足交線條件。若中繼光學(xué)部件70的主平面，與檢測器會(huì)聚透鏡66 的平面76和多鏡陣列26的鏡元件28在其中延伸的平面80相交在一條軸線 內(nèi)，則滿足交線條件。在遵守此條件的情況下，盡管平面76和80彼此傾斜 地配置，使得對于它們也能清晰地在彼此上成像。因此這種布局使要檢查的 光學(xué)元件表面大的區(qū)域或多個(gè)鏡元件28,同樣清晰地成像在微透鏡陣列的檢 測器會(huì)聚透鏡66上，以及可以實(shí)現(xiàn)檢測裝置相應(yīng)的角向布置。按這種布置， 相對于光學(xué)軸線傾斜設(shè)置的、鏡元件28在其中延伸的平面80,可以在微透 鏡陣列的檢測器會(huì)聚透鏡66上清晰地成像。
與圖5所示實(shí)施例類似，在位置傳感器68上形成的焦點(diǎn)位置隨入射角 改變，相關(guān)的測量光束64以所述入射角照射檢測器會(huì)聚透鏡66。然而由于通過中繼光學(xué)部件70成像，所以此入射角又與相關(guān)的鏡面傾斜角成比例，
意欲測量該鏡面的取向。由此在這里，還可以通過在位置傳感器68中的焦 點(diǎn)與相應(yīng)于鏡面30預(yù)定取向的中性位置的偏離，推出所涉及鏡面30的傾斜 角。
本發(fā)明可以在投射曝光設(shè)備工作期間，確定多鏡陣列26鏡元件28的取 向。當(dāng)測得的取向偏離設(shè)定取向時(shí)，所涉及的鏡元件28可以重調(diào)，直至達(dá) 到期望的設(shè)定取向。這是主動(dòng)控制或調(diào)整鏡元件28的先決條件，后面對此 還要詳細(xì)說明。
4.多鏡陣列的封裝
圖7非常簡化地表示一個(gè)多鏡陣列26，為了防止外部影響，例如壓力 或溫度波動(dòng)，將其封裝在照明系統(tǒng)12內(nèi)部的殼體82內(nèi)。殼體82有透明的 窗口 84,入射的投射光32和測量光36可通過它照射多鏡陣列26的各個(gè)鏡 元件28。在各個(gè)射束根據(jù)鏡元件28的取向偏轉(zhuǎn)后，它們沿反方向穿過殼體 82的透明的窗口 84。
為了避免不希望的反射和與之相關(guān)聯(lián)的強(qiáng)度損失，透明窗口 84帶一個(gè) 或多個(gè)抗反射層86，它們通常與透射光的波長和產(chǎn)生的角度相匹配。因此在 本例中抗反射層86設(shè)計(jì)為，使以入射角a入射的投射光32，可以在強(qiáng)度損 失盡可能少的情況下通過透明的窗口 84。
為了使入射的大多有不同波長和如上所述在有些情況下以不同角度卩 照射多鏡陣列26的測量光36，盡可能不引起可以穿過透明的窗口 84的有害 的反射，在入射的測量光36的射束路徑內(nèi)插入偏振器88。在這里將入射的 測量光36的偏振方向選擇為，使測量光36關(guān)于在透明的窗口 84上的測量 光36入射平面而言基本上p偏4展。
此外將測量照明裝置設(shè)置為，使入射的測量光36的入射角卩至少大體 等于布魯斯特角(Brewster angle )。也就是說，若光以布魯斯特角照射兩個(gè) 光學(xué)介質(zhì)的界面，則反射光僅含有入射光的s偏振分量。在這種情況下入射 光的p偏振分量完全折射到另一個(gè)光學(xué)介質(zhì)中。因?yàn)樵诒纠腥肷涞臏y量光 36完全p偏振并因而不含任何可能反射的s偏振分量，所以在以布魯斯特角 入射時(shí)反射光的強(qiáng)度為零，并因而沒有測量光36在透明的窗口 84上反射。 在近似以布魯斯特角入射時(shí)，亦即圍繞布魯斯特角5。范圍內(nèi)，由于p偏振 分量的部分反射，反射的強(qiáng)度大約小于入射的強(qiáng)度的5%。因此盡管抗反射
19層86只對于入射的l殳射光32，而并不對于入射的測量光36被優(yōu)化，入射的 測量光36仍然幾乎可以無損失地穿過透明的窗口 84。然而有利的是，入射 的測量光36的波長大于抗反射層86的厚度，這對于入射的投射光32是優(yōu) 選的，因?yàn)樵谶@種情況下抗反射層86對入射的測量光36不起任何作用。
在多鏡陣列26的鏡元件28上反射后，雖然射束射出的角度不再等于布 魯斯特角，但是由于鏡元件28的小傾斜角士2-3。接近布魯斯特角，從而即使 在這種射出的射束的情況下，也能觀察到減小了不希望的反射。
此外，結(jié)合圖7說明的封裝的多鏡陣列26還可以設(shè)計(jì)有氣密殼體，使 多鏡陣列26的鏡元件28被處于殼體82內(nèi)的惰性氣體圍繞。作為替換，殼 體82也可以設(shè)有氣體連接(圖7未顯示)，以便更換惰性氣體。在這種情況下 可以連續(xù)地，也就是說，即使在多鏡陣列26用測量光36和/或投射光32照 明期間，也可以實(shí)施氣體更換。按另一種可選擇的方案，惰性氣體的氣體更 換也可以在多鏡陣列26沒有用測量光36和/或投射光32照明時(shí)進(jìn)行。
作為惰性氣體適用所有氣體或氣體混合物，只要它們防止在多鏡陣列 26鏡元件28的鏡面30上的反應(yīng)或以下述方式推遲反應(yīng)，即，在鏡元件28 意欲的使用期限內(nèi)，對其反射特性沒有或至少?zèng)]有顯著影響，也就是說，它 們的反射特性(例如它們的反射系數(shù))在所述使用期限內(nèi)的改變不超過約10 %。當(dāng)鏡面30或在那里使用的鍍層可能反應(yīng)的情況下，尤其還應(yīng)考慮多鏡 陣列26工作時(shí)光的波長和光的強(qiáng)度。所使用的惰性氣體還可能與光的波長 和光的強(qiáng)度有關(guān)。
因?yàn)殓R面30通常有增大反射的鍍層，以及取決于該鍍層或該多種鍍層 的材料，在空氣中例如通過與空氣中的氧反應(yīng)可能使這種鍍層惡化，所以通 過多鏡陣列26借助殼體82封裝和包含在殼體內(nèi)的適用的惰性氣體，防止鍍 層惡化。此外，因?yàn)榛诜庋b多鏡陣列26并且使用惰性氣體，抑制了鍍層 材料與空氣可能的反應(yīng)，所以在鏡面30鍍層時(shí)可以采用許多種材料。作為 鍍層材料或作為鏡元件28的材料，例如可以采用鋁、非晶態(tài)或晶態(tài)硅、鉻、 銥、鉬、釔、釕、鉭、鴒、銠、錸、鍺，鍍層同樣也可以由這些材料的混合 物制成。作為惰性氣體可例如使用氦、氬或其他惰性氣體、氮或這些氣體的 混合物。此外，所用的氣體也可以被用于多鏡陣列26的溫度控制，以便例 如在用測量光36和/或投射光32照射時(shí)冷卻多鏡陣列26。圍繞多鏡陣列26 的殼體82上透明的窗口 84，根據(jù)測量光36和/或投射光32所使用的波長和所使用的強(qiáng)度，可以包括非晶態(tài)或晶態(tài)的石英或包括例如氟化釣，或由這些 材料組成。
作為上述在圍繞多鏡陣列26的殼體82內(nèi)使用惰性氣體的替換，殼體也 可以抽成真空，或者氣體或氣體混合物在其壓力或其成分方面可以改變。通 過殼體82抽成真空或通過改變氣體壓力或氣體成分，同樣可以防止在多4竟 陣列26的鏡元件28的鏡面30上有害的反應(yīng)，或可以下述方式推遲，即， 鏡元件28在其按意欲的使用期限內(nèi)，對其反射特性沒有顯著的影響。
5. 通過圖案識別確定:f又向
圖8表示確定多鏡陣列26的鏡元件28取向的另一種可能性。在這里一 個(gè)圖案，例如一個(gè)照明的圖案在多鏡陣列26上反射并在照相機(jī)91中成像。 此照明的圖案可例如通過照明上面帶所述圖案的半反射性屏幕90，或通過通 過透明片(類似于幻燈片)產(chǎn)生。
圖9舉例表示一種為了達(dá)到按本發(fā)明的目的適用的圖案。該圖案在亮和 暗之間交替的棋盤形，其頻率沿兩個(gè)屏幕軸x一屏幕和y一屏幕連續(xù)增大，所 以屏幕90沒有任何兩個(gè)區(qū)有一致的圖案。若觀察相應(yīng)于一鏡元件28的局部 照相機(jī)照片，貝'J根據(jù)于鏡元件28的傾斜，可以在此細(xì)節(jié)中看到圖案的不同 區(qū)。于是借助例如在照相機(jī)圖像的細(xì)節(jié)與屏幕90已知圖案之間實(shí)施自動(dòng)關(guān) 聯(lián)的評估裝置，便可以記錄出鏡元件28準(zhǔn)確的傾斜。因?yàn)檎障鄼C(jī)可以設(shè)置 為，使它記錄多個(gè)鏡元件28并使每個(gè)鏡元件28單獨(dú)顯示屏幕圖案的一個(gè)區(qū) 域，所以采用本裝置可以同時(shí)確定多個(gè)鏡元件28的傾斜。
取代如圖9所示有序的圖案，也可以選擇隨機(jī)圖案，只要它有盡可能窄 的自相關(guān)函數(shù)。
另一種可能性在于，沿兩個(gè)屏幕軸線x一屏幕和y—屏幕采用不同的顏色 分布，并因而可以實(shí)現(xiàn)在屏幕上不同位置的色編碼。因此理論上一個(gè)對顏色 敏感的照相機(jī)91或其他對顏色敏感的傳感器，只有一個(gè)像素就足以通過上 述方法確定鏡元件28的傾斜角。因?yàn)槭袌錾峡少I到的彩色數(shù)字照相機(jī)中已 經(jīng)直接存在顏色矢量或RGB矢量，所以所述的評估非常簡單和計(jì)算工作量很小。
6. 校準(zhǔn)-第一實(shí)施例
圖10簡化表示一種可以按第一實(shí)施例校準(zhǔn)測量裝置的配置。校準(zhǔn)包括 在反射的投射光34實(shí)際的射束偏轉(zhuǎn)與通過測量裝置記錄的信號之間的比較，此投射光34意欲以期望的強(qiáng)度分布給照明系統(tǒng)12的光瞳面照明。但是在這 里闡述的校準(zhǔn)也可以在下列情況下被使用，亦即描述鏡元件28取向的信號 并非由上述測量裝置提供，而是由其他傳感器或測量裝置提供。在本文中可 例如考慮，例如在多鏡陣列26上設(shè)置在一定程度上從"內(nèi)部"記錄傾斜角的 機(jī)電式、壓電式、感應(yīng)式、電容式或光學(xué)傳感器。
在圖10非常簡單地表示的照明系統(tǒng)12的光瞳成形部分92中，由才殳射 光源(例如準(zhǔn)分子激光器)產(chǎn)生的投射光32照射多鏡陣列26,以及在其上 面反射后經(jīng)過光瞳光學(xué)部件94，被引導(dǎo)到照明系統(tǒng)12的光瞳面96上。因?yàn)?適用于達(dá)到這種目的的多鏡陣列26的組裝密度通常不超過90%-95%,并因 而在各鏡元件28之間沒有片段或沒有不期望的反射性片段，所以在本實(shí)施 例中，入射的投射光32借助微透鏡陣列以較小的投射光束聚焦在鏡元件28 上，如現(xiàn)有技術(shù)中例如由WO 2005/026843 A2己知的那樣。
此外，通過單獨(dú)的射束5^徑，準(zhǔn)直的測量光束62以4交大的入射角a'祐: 引導(dǎo)到多鏡陣列26上。在本實(shí)施例中，測量照明裝置包括多個(gè)半導(dǎo)體激光 器的布置，激光器從其平的半導(dǎo)體面發(fā)光。借助這種所謂VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser:垂直腔面發(fā)射激光器)陣列98，可以針對多鏡陣 列26的每一個(gè)鏡元件28,用一個(gè)準(zhǔn)直的測量光束62照明。為了說明單個(gè)可 控性，圖10用虛線表示兩個(gè)暫時(shí)切斷的測量光束62'的射束路徑。在多鏡陣 列26上反射后，測量光束62照射位置傳感器68,作為經(jīng)檢測器會(huì)聚透鏡 66的反射的測量光束64,位置傳感器68設(shè)置在檢測器會(huì)聚透鏡66的焦平 面上。由于檢測器會(huì)聚透鏡66,反射的測量光束64的角度改變促使反射的 測量光束64在位置傳感器68上聚焦的焦點(diǎn)移動(dòng)。
為了^f交準(zhǔn)測量裝置，所述布置還有沖殳射光^r測器100,它設(shè)在光瞳面內(nèi) 一個(gè)精確預(yù)定的位置上，但緊鄰那個(gè)可用的光瞳孔，尤其在小于光瞳孔直徑 的1/5的距離。若現(xiàn)在校準(zhǔn)各鏡元件28傾斜角的測量，則只將相應(yīng)的鏡元件 28傾斜，直至從它反射的投射光束34照射光瞳面內(nèi)的投射光檢測器100。 若同時(shí)將測量光束62被引導(dǎo)到要校準(zhǔn)的鏡元件28上，則此時(shí)在位置傳感器 68上確定的焦點(diǎn)位置，可以作為校準(zhǔn)值儲(chǔ)存在評估裝置內(nèi)。
為了記錄例如可通過光瞳光學(xué)部件94或通過彎曲的4t面30形成的非線 性，有利的是圍繞光瞳孔布置多個(gè)，尤其四個(gè)投射光^r測器100。這些投射 光;f企測器100也可以設(shè)計(jì)為4象PM企測器。若每個(gè)鏡元件28的傾斜角均按上述方式校準(zhǔn)，則測量裝置可用于在照 明系統(tǒng)12工作期間檢測鏡元件28的傾斜并因而檢測光瞳面的照明，為的是 鏡元件28必要時(shí)能再調(diào)整。通常這種再調(diào)整是有利的，因?yàn)槔缬捎跉饬?或聲波引起的鏡元件28振動(dòng)可能導(dǎo)致在100 Hz至1000 Hz范圍內(nèi)的高頻干 擾，可導(dǎo)致光瞳面照明不可允許的誤差。
此外，借助描述的校準(zhǔn)方法還可以記錄不適當(dāng)?shù)恼彰?，這是由于多鏡陣 列26的鏡元件28與微透鏡陣列之間緩慢的漂移造成的，微透鏡陣列將投射 光32聚焦在鏡元件28上。這些最初不被測量裝置記錄，因?yàn)槠浣?jīng)歷了其它 漂移。因?yàn)楦鱾€(gè)鏡元件28也甚至可以在照明系統(tǒng)12工作期間對準(zhǔn)投射光沖企 測器100，而這不會(huì)顯著影響光瞳面的照明，所以校準(zhǔn)可以在工作期間按規(guī) 定的時(shí)間間隙逐漸為每個(gè)鏡元件28重復(fù)進(jìn)行。由此記錄并校正緩慢的漂移。 取決于可能從照明系統(tǒng)12正常的射束路徑提取的投射光的份額有多大，可 以改變時(shí)間間隙，或可以以此方式同時(shí)4交準(zhǔn)個(gè)別、 一些或全部鏡元件28。
7.校準(zhǔn)-第二實(shí)施例
圖11在縱覽圖中示出上面已詳細(xì)描述的測量裝置另一種校準(zhǔn)方法。4會(huì) 本實(shí)施例的校準(zhǔn)方法也可以獨(dú)立于測量裝置使用。因此也可以考慮使用，當(dāng) 含有有關(guān)鏡元件28取向信息的信號，并非由上述測量裝置，而是由其他傳 感器或測量裝置提供時(shí)。
尤其是，本實(shí)施例的校準(zhǔn)方法可以被有利地使用，從而直接校準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)鏡 元件28的調(diào)節(jié)參數(shù)，如果選擇多鏡陣列26的一種所謂的前饋(Feed-Forward) 運(yùn)行方式，其中為了反饋不一定要設(shè)置單獨(dú)的傳感器或測量裝置。由后面的 說明中可以清楚看出，這基于以下事實(shí)為了再校準(zhǔn)可能的緩慢作用過程， 如漂移、充電等，尤其可以用低成本快速重復(fù)已介紹的校準(zhǔn)方法，以及甚至 可以在曝光機(jī)10的曝光過程中針對各個(gè)鏡元件28實(shí)施。
按本實(shí)施例，在光瞳面規(guī)定的位置產(chǎn)生一些透射減少50%的區(qū)域102。 為此，可例如在光瞳面內(nèi)或附近設(shè)透明的校準(zhǔn)板104。這些減少透射的區(qū)域 102，分別有由反射的^:射光束34在光瞳面內(nèi)產(chǎn)生的光斑的尺寸。它們在這 里構(gòu)成一種校準(zhǔn)標(biāo)尺，它或相對于照明系統(tǒng)12的光軸固定，或可更換地設(shè) 在一個(gè)準(zhǔn)確規(guī)定的位置上并按角度精確取向。采用恰當(dāng)?shù)姆椒?，透射減少的 區(qū)域104也可以設(shè)在已經(jīng)存在的元件上或內(nèi)，例如光瞳光學(xué)部件94上。
為了校準(zhǔn)鏡元件28，在場平面(field plane)內(nèi)，例如投射物鏡20的物鏡面或像平面內(nèi)，安置強(qiáng)度傳感器。強(qiáng)度傳感器記錄強(qiáng)度分布106，而各個(gè)鏡 元件28通過賦予它的反射的投射光束34,沿預(yù)定路徑，例如沿坐標(biāo)軸，照 射光瞳面的不同位置(見圖11右上方曲線圖)。圖11中針對一個(gè)鏡元件28 的運(yùn)動(dòng)，舉例表示了這種強(qiáng)度分布106，在運(yùn)動(dòng)時(shí)光斑沿X軸線以光瞳平面 為中心移動(dòng)，亦即到光軸之外。若來自鏡元件28的反射的投射光束34照射 透射減少的區(qū)域104，則它作為強(qiáng)度的下降被強(qiáng)度傳感器記錄。
以此方式借助恰當(dāng)?shù)夭贾猛干錅p少的區(qū)域102及相應(yīng)的評估裝置，后者 記錄強(qiáng)度分布106的最小值以及根據(jù)對區(qū)域104的了解配置在光瞳面內(nèi)部的 規(guī)定的位置，可以校準(zhǔn)同時(shí)測量多個(gè)鏡元件取向的測量裝置的測量信號。由 此將測量裝置確定的鏡元件28的傾斜角，與投射光32照明角的絕對角度位 置聯(lián)系起來，如圖IO右下方的曲線圖所示。
按一項(xiàng)有利的進(jìn)一步發(fā)展，取代普通的強(qiáng)度傳感器，在場平面內(nèi)采用角 度解析的強(qiáng)度傳感器。由此，不僅可以確定光是否確實(shí)照射場平面內(nèi)的點(diǎn)， 而且還可以確定是來自哪些方向的光照射了這一點(diǎn)。因?yàn)樵谠搱銎矫鎯?nèi)不同 的方向與光瞳面內(nèi)的位置相關(guān)聯(lián)，所以借助這種角度解析的強(qiáng)度傳感器，甚 至可以同時(shí)校準(zhǔn)多個(gè)鏡元件28。因此各自照射的透射減少的區(qū)域102應(yīng)處于 彼此離得盡可能遠(yuǎn)的位置，使強(qiáng)度傳感器仍能足夠準(zhǔn)確地解析在場平面內(nèi)相 關(guān)聯(lián)的方向。
為了防止投射曝光設(shè)備10在光瞳面上投射操作過程中，透射減少的區(qū) 域102內(nèi)出現(xiàn)局部強(qiáng)度下降，總是將否則將提供的兩倍這么多反射的投射光 束34引導(dǎo)到要照明的區(qū)域102上。因?yàn)檫@些區(qū)域102的透射如上所述是50 %的量，所以兩倍投射光束34可產(chǎn)生期望的強(qiáng)度。以此方式，盡管校準(zhǔn)板 104固定使用，但仍能在光瞳面內(nèi)造成均勻的強(qiáng)度分布。
在上面介紹的實(shí)施例中發(fā)生了透射減少約50%，因此這種透射減少區(qū) 102在投射操作時(shí)用雙倍的鏡數(shù)，或用雙倍反射的投射光束34照明。透射減 少區(qū)102也可以減少為1/n，其中n是大于或等于2的整數(shù)。在這種情況下， 在各自透射減少區(qū)102投射操作時(shí)，用n個(gè)反射的投射光束34照明。
在各反射的投射光束34有大約相同強(qiáng)度時(shí)，這些實(shí)施例是推薦的。然 而若各反射的投射光束34的強(qiáng)度彼此有明顯的差異，則n也可以是一個(gè)不 同于整數(shù)的數(shù)。在這種情況下，當(dāng)投射操作時(shí)，透射減少區(qū)102用多個(gè)反射 的"t殳射光束34照明，使得對于賦予透射減少區(qū)102的角度，在場平面內(nèi)達(dá)到期望的強(qiáng)度。
作為替換，校準(zhǔn)板104在正常的投射操作期間，也可以從射束路徑移開。 8.調(diào)整-第一實(shí)施例
至此所介紹的設(shè)備和方法，適用于確定多鏡陣列26的各個(gè)鏡元件28的 傾斜角。 一旦能夠得到有關(guān)傾斜角的信息，則必須借助調(diào)節(jié)系統(tǒng)保證，盡可 能準(zhǔn)確遵守傾斜角規(guī)定的設(shè)定值。優(yōu)選地，射束偏轉(zhuǎn)元件的全部中性設(shè)置的 平均值可以調(diào)整為有至少1/6000的精度。此外，相對于此中性設(shè)置的相對設(shè) 置可調(diào)整為有至少1/500的精度。
調(diào)整持續(xù)時(shí)間t設(shè)s(鏡元件28必須在此時(shí)間內(nèi)取向)通過這些時(shí)間確定， 亦即為了微光刻投射曝光設(shè)備10的合理工作，應(yīng)當(dāng)在這些時(shí)間之內(nèi)改變光 瞳照明。典型地，所述時(shí)間處于10ms-50ms范圍內(nèi)。這直接影響調(diào)節(jié)系統(tǒng) 的帶寬，亦即旨在測量并調(diào)整鏡元件28的傾斜角的頻率。
對于可以排除個(gè)別鏡元件28被相鄰鏡元件28或外部影響激振的多鏡陣 列26而言，在有些情況下可以取消主動(dòng)阻尼，只要多鏡陣列26的機(jī)械特性
對于所謂的前饋控制足夠穩(wěn)定。
但盡管如此重復(fù)校準(zhǔn)個(gè)別鏡元件28往往是恰當(dāng)?shù)模驗(yàn)樵阽R面30的法 線矢量nv與施加的控制信號sv之間的關(guān)系，可由于不同的影響隨時(shí)間改變。 這種關(guān)系可用公式nv=K(t)*sv表達(dá)。其中量K(t)在一般的情況下是一個(gè)張量， 因?yàn)榭刂菩盘杝v也可能例如通過靜電彼此影響。如果張量K本身的時(shí)間依 賴性取決于外部參數(shù)p,例如溫度，則這些影響可以通過單獨(dú)的測量裝置(例 如溫度傳感器)測量。張量不僅是時(shí)間t的函數(shù)，而且也是參數(shù)p的函數(shù)(亦 即K^K(t, p))。張量K(t， p)可利用來確定控制信號sv，無須實(shí)施重新校準(zhǔn)。
然而因?yàn)橥ǔQ不可能完全抑制一些不確知的影響，所以盡管如此仍然 需要重復(fù)校準(zhǔn)。例如對于合理的前饋控制，在調(diào)整持續(xù)時(shí)間為10ms時(shí)，為 了校準(zhǔn)測量單個(gè)鏡元件28的傾斜角，校準(zhǔn)速率為1 kHz(亦即調(diào)整時(shí)間的十 分之一)可能是必要的。
在不再能排除由于內(nèi)或外干擾引起振動(dòng)的多鏡陣列26中，而提供一種 閉式控制回路。在鏡元件28傾斜振蕩典型的固有頻率為1-2 kHz時(shí)，對于每 個(gè)鏡元件28的各個(gè)相應(yīng)的坐標(biāo)，得到測量和調(diào)整速率為1-2 kHz,優(yōu)選地 10-20 kHz。在具有至少4000個(gè)鏡元件28的多鏡陣列26中，這導(dǎo)致每個(gè)坐 標(biāo)，例如傾斜角或平移，測量速率超過4MHz。為此，可使用控制回路，根據(jù)接受的測量裝置的傳感器信號，該控制回 路直接作用于控制鏡元件28傾斜角的調(diào)節(jié)參數(shù)S,使得盡可能準(zhǔn)確地遵守傾
斜角設(shè)定值。為此目的，通常使用所謂PID(比例積分微分)調(diào)節(jié)器，它接收 調(diào)節(jié)差e，亦即反射角設(shè)定值與實(shí)際值之間的偏差，作為輸入信號。然后， 根據(jù)PID調(diào)節(jié)器比例部件(P)、積分部件(I)和微分部件(D)的調(diào)整，相應(yīng)地確 定調(diào)節(jié)參數(shù)s，它又重新影響反射角的實(shí)際值。這種閉式控制回鴻"接所謂的 調(diào)節(jié)頻率f工作。
然而，這里在多鏡陣列26的鏡元件28的調(diào)整方面存在下列問題。首先 傳感器信號的微分往往難以進(jìn)行，因?yàn)闇y量裝置的傳感器值非常易受不確定 性影響。因此微分在為微分部件(D)核定的調(diào)整環(huán)節(jié)內(nèi)通過不連續(xù)過濾，可 導(dǎo)致強(qiáng)烈的噪聲放大，使得到的調(diào)節(jié)信號無法使用。另一方面，調(diào)節(jié)差e只 能用提供鏡元件28傾斜角測量值的采樣頻率計(jì)算。由于鏡元件28巨大的數(shù) 量，例如幾千或甚至數(shù)萬個(gè)鏡元件28,極大限制了單個(gè)鏡元件28的最大采 樣頻率。由此控制回路也只能以一個(gè)與所迷小的采樣頻率相應(yīng)的調(diào)節(jié)頻率f 工作，從而可導(dǎo)致較大地偏離設(shè)定值。
圖12表示控制回路的調(diào)節(jié)方案，它使用基于模型的狀態(tài)評估器，并因 而沒有上面提及的那些缺點(diǎn)。基于模型的狀態(tài)評估器，以模型為基礎(chǔ)，以及 借助受到可能的不確定性(例如由于測量方法)影響的傳感器信號，估計(jì)鏡元 件28當(dāng)前的傾斜角。為此，基于模型的狀態(tài)評估器借助內(nèi)部模型，根據(jù)(受 不確定性影響的)傳感器信號，計(jì)算出估計(jì)的狀態(tài)矢量，亦即例如估計(jì)的傾 斜角x和估計(jì)的傾斜角x點(diǎn)的時(shí)間導(dǎo)數(shù)。狀態(tài)矢量也可以包括多個(gè)傾斜角和 /或鏡元件28的其他位置參數(shù)以及其動(dòng)態(tài)特征，例如它們的時(shí)間導(dǎo)數(shù)。
然后比較此估算的狀態(tài)矢量與系統(tǒng)的設(shè)定狀態(tài)，亦即傾斜角實(shí)際的設(shè)定 值及其時(shí)間導(dǎo)數(shù)。盡管在這里也由反射角設(shè)定值通過微分確定傾斜角的時(shí)間 導(dǎo)數(shù)，但所述的微分沒有什么困難，因?yàn)閮A斜角的設(shè)定值不受不確定性影響。 除了調(diào)節(jié)差e外，還根據(jù)所述的比較得到調(diào)節(jié)差的時(shí)間導(dǎo)數(shù)de，它們共同構(gòu) 成調(diào)節(jié)差矢量(e， de)。
現(xiàn)在將該調(diào)節(jié)差矢量(e， de)傳輸給一種調(diào)節(jié)算法，它計(jì)算控制參數(shù)s并 傳輸給鏡元件28的控制器。圖13中詳細(xì)表示了此調(diào)節(jié)算法的調(diào)節(jié)方案。由 圖13可以看出，調(diào)節(jié)算法有三個(gè)比例元件，借助它們可以確定不同調(diào)節(jié)部 件的影響。第一個(gè)比例元件KP相應(yīng)于PID調(diào)節(jié)器的比例部件(P)，其中調(diào)節(jié)
26差e僅乘以一個(gè)常數(shù)。第二個(gè)比例元件KI將為調(diào)節(jié)差e積分的積分器的輸 出信號乘以一個(gè)常數(shù)，并因而相應(yīng)于PID調(diào)節(jié)器的積分部件(I)。第三個(gè)比例 元件KD相應(yīng)于PID調(diào)節(jié)器的微分部件(D)，其中，如上面說明的那樣，將 要傳輸給調(diào)節(jié)算法的調(diào)節(jié)差e的時(shí)間導(dǎo)數(shù)de與一個(gè)常數(shù)相乘。全部三個(gè)調(diào) 節(jié)器部件相加后作為調(diào)節(jié)參數(shù)s輸出。
這種控制回路基于以模型為基礎(chǔ)的狀態(tài)評估器，也可以使用數(shù)字形式的 帶有較強(qiáng)不確定性的測量信號，如采用普通的PID調(diào)節(jié)器的情況。
作為產(chǎn)生以模型為基礎(chǔ)的狀態(tài)評估器的出發(fā)點(diǎn)，推薦使用由文獻(xiàn)已知的 狀態(tài)評估器，它們尤其適用于在估計(jì)時(shí)考慮測量信號的隨機(jī)不確定性，這些 狀態(tài)評估器能相應(yīng)地適應(yīng)具體應(yīng)用情況的要求。這方面的例子是卡爾曼濾波 器(Kalman filter )、擴(kuò)展的卡爾曼濾波器(EKF)、無線索式(unscented)卡爾曼 濾波器(UKF)或微粒過濾器。
因?yàn)檫@些以才莫型為基礎(chǔ)的狀態(tài)評估器，也可以以高于測量信號的采樣頻 率的速率輸出估計(jì)的狀態(tài)矢量(x, x點(diǎn))，所以盡管鏡元件28數(shù)量巨大和與 此相關(guān)聯(lián)地每個(gè)鏡元件28低的采樣頻率，調(diào)節(jié)仍能以高的調(diào)節(jié)頻率f進(jìn)行。 由此鏡元件28傾斜角可以達(dá)到足夠的精度。
在卡爾曼濾波器中，在以當(dāng)前傾斜角的泰勒展開為基礎(chǔ)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型方 案與動(dòng)力學(xué)模型方案之間加以區(qū)分，該動(dòng)力學(xué)模型方案更加精確地模擬特別
在不提供測量值的時(shí)期內(nèi)系統(tǒng)的特性。
此外，所有的調(diào)節(jié)元件可多重或共有地存在，用于調(diào)節(jié)多個(gè)鏡元件28。 因此所有的調(diào)節(jié)參數(shù)，例如調(diào)節(jié)參數(shù)s，可以作為矢量，其分量的數(shù)量與鏡 元件28的數(shù)量相同。
對此的一種恰當(dāng)?shù)膽?yīng)用是，控制回路還借助軟件或FPGA芯片執(zhí)行，因 為尤其以模型為基礎(chǔ)的狀態(tài)評估器可以由此被靈活設(shè)計(jì)。
9.調(diào)整-第二實(shí)施例
具有多鏡陣列26用于照明光瞳面的照明系統(tǒng)12, —個(gè)重要的方面是在 調(diào)整各個(gè)鏡元件28時(shí)可以具有的速度和精度。記錄鏡元件28傾斜的檢測裝 置的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，在這里通過對照明系統(tǒng)12光瞳成形部分92和照明系統(tǒng)12 的設(shè)計(jì)所提出的光學(xué)和機(jī)械方面的總體要求決定。
按一種實(shí)施例，多鏡陣列26總共有64x64=4096個(gè)鏡元件28，它們各 沿兩條軸線單獨(dú)控制以及必須單獨(dú)測量其傾斜角。采用迄今現(xiàn)有技術(shù)中已知的方案，如此大量的鏡元件28不可能以所要求的精度和根據(jù)對當(dāng)代投射曝
光設(shè)備10的要求決定的短的時(shí)間內(nèi)調(diào)整。這是因?yàn)?，每個(gè)鏡元件28應(yīng)能沿 兩條軸線圍繞給定的中性位置釆取至少±2。，如可能士3。的傾斜角，控制系統(tǒng) 必須掌控這一角度范圍，具有約11微弧度的系統(tǒng)性精度以及約140微弧度 的統(tǒng)計(jì)學(xué)不確定性。
因此有必要測量鏡位置，并借助控制回路實(shí)施修正。在這里，為了測量 全套4096個(gè)鏡元件28，可供使用的時(shí)間約1 ms,也就是說，必須能在約250 ns內(nèi)以所要求的精度地確定每個(gè)鏡元件28的傾斜角。此外，鏡元件的傾斜 角還應(yīng)各借助測量光束62測量(見圖IO的實(shí)施例)，其中，反射的測量光束 64在鏡面30上反射后的傳播方向提供了關(guān)于傾斜角的信息。因此，目的在 于足夠迅速地確定所反射的測量光束64的傾斜角。
為此，如上面已說明的那樣，通過使用傅里葉光學(xué)部件，例如檢測器會(huì) 聚透鏡66，將角度轉(zhuǎn)換為位置并在位置傳感器68上記錄此位置。但由于結(jié) 構(gòu)空間受限，很難能使用4096個(gè)平行的如圖5的實(shí)施例中表示的那種檢測 裝置。也就是說，在不投入巨大的費(fèi)用的情況下，就像在圖IO所示實(shí)施例 中那樣，可以分別僅使用一個(gè)位置傳感器68和傅里葉光學(xué)部件。付出高昂 的代價(jià)，大約可以安裝四個(gè)檢測裝置，但目前幾乎不可能安裝4096個(gè)檢測 裝置。因此要達(dá)到的目的是，只用一個(gè)位置傳感器68和一個(gè)傅里葉光學(xué)部 件，便能滿足對測量及控制裝置提出的要求。
為此，圖14顯示一種裝置的示意結(jié)構(gòu)，借助它可以實(shí)施一種倍增法， 這種方法可以僅用 一個(gè)位置傳感器6,8,平行和獨(dú)立地測量多個(gè)鏡元件28。
如在圖10的實(shí)施例中已提及的那樣，作為測量照明的光源可使用激光 器二極管的排列，即所謂VCSEL陣列98。這種具有64x64個(gè)陣點(diǎn)的正方形 或六邊形網(wǎng)格的VCSEL陣列98，已經(jīng)可以在市場上買到。借助矩陣驅(qū)動(dòng)， 其中分別在行或列中的陽極和陰極互相連接，可以同時(shí)獨(dú)立地控制達(dá)64個(gè) 例如在一行內(nèi)的激光器二極管。激光器二極管的光，通過固定安裝在VCSEL 陣列98上的微透鏡陣列的準(zhǔn)直器會(huì)聚透鏡60，聚焦在多鏡陣列26上。
作為位置傳感器68，可考慮已商品化的不同方案。具有約4MHz帶寬 以及其噪聲仍還允許所要求的測量精度的位置傳感器68，在市場上已經(jīng)可以 買到，它也簡稱PSD(例如SiTek的2L4型)。但因?yàn)槊總€(gè)鏡元件28的測量時(shí) 間只允許約250 ns，所以這種位置傳感器68鑒于測量速度已限制了其工作能力。已經(jīng)在尋找位置傳感器68的替代方案，其可實(shí)現(xiàn)要求的空間分辨率 和允許更短的測量時(shí)間。因此本發(fā)明涉及各種類型的檢測器，其中SiTek的 2L4 PSDs的數(shù)據(jù)可^皮作為出發(fā)點(diǎn)。
根據(jù)PSD、放大器電路和模-數(shù)轉(zhuǎn)換器的已發(fā)表的數(shù)據(jù)，可以推斷出理 論上可達(dá)到的統(tǒng)計(jì)學(xué)位置誤差。因?yàn)樗孕∮谝螅虼死碚撋峡梢酝ㄟ^時(shí) 分倍增來分析鏡元件28。VCSEL陣列98的激光器二極管在這里相繼地接通， 所以僅被一個(gè)鏡元件28反射的測量光束64分別照射位置傳感器68。然而， 由于激光器二極管和位置傳感器68有限的帶寬，測量所需的時(shí)間被縮短到 小于100ns。這種方法在下文中稱為"順序"法，因?yàn)楣庠磭?yán)格地相繼接通以 及一次僅一個(gè)被分別照明。
為了對抗限制性因素，例如位置傳感器68的信號上升時(shí)間、DC偏離及 其漂移、以及放大器的l/f噪聲，激光器二極管并不相繼地連接和斷開，而 是例如以四或八個(gè)激光器二極管成組同時(shí)工作。當(dāng)然， 一個(gè)組的各個(gè)激光器 二^l管的強(qiáng)度用不同頻率正弦形地調(diào)制。由于相位每丈感地4企測位置傳感器68 的電極電流，亦即它的輸出信號，在位置傳感器68不同位置反射的不同測 量光束64的部分，按其調(diào)制的頻率分開。簡單地說，按本發(fā)明的方法類似 于用多個(gè)并行工作的鎖定;^文大器的測量方法。
由此減少位置傳感器68的信號上升時(shí)間嚴(yán)格地限制測量裝置工作能力 的作用。因此可以在所述帶寬范圍內(nèi)并除此之外在振幅減小的情況下實(shí)現(xiàn)多 個(gè)鏡元件28傾斜角的測量。此外，消除了所有DC效應(yīng)，亦即偏離、漂移 和l/f噪聲的影響。例如通過放大器的AC耦合，可以取消對于位置傳感器 68的PSD偏壓所需的差動(dòng)放大器，從而消除其噪聲。此外，"死時(shí)間"(此時(shí) 系統(tǒng)穩(wěn)定化和不可能測量)的影響也顯著減小。
作為AC耦合的副效果，還提高了位置傳感器68的數(shù)字化傳感器信號 的質(zhì)量，因?yàn)榕c使用的測量方法無關(guān)的最新 一代的數(shù)-模轉(zhuǎn)換器實(shí)現(xiàn)了僅在 AC耦合時(shí)才達(dá)到最高分辨率。
與已知的鎖定原理不同，系統(tǒng)不是用一種頻率而是用多種頻率同時(shí)調(diào) 制。就此特點(diǎn)而言，本系統(tǒng)有些類似于傅里葉干涉儀。
特別選擇頻率和數(shù)據(jù)記錄時(shí)間，使得可以利用嚴(yán)格的周期性邊界條件。 因此也可以由非常短的數(shù)據(jù)流實(shí)現(xiàn)無誤差的傅里葉分析，以及沒有必要如在 鎖定放大器中那樣使用平化或倍增式"窗口 "。盡管與所說明的方法容易看出的優(yōu)點(diǎn)相比還存在一些缺點(diǎn)，然而這些缺
點(diǎn)可易于克服
位置傳感器68能處理的最大光強(qiáng)度受到限制。因此在多個(gè)光源同時(shí)照 明時(shí)，應(yīng)當(dāng)減小每個(gè)光源的亮度，從而降低信號幅度與噪聲比。然而這種幅 度損失通過更長的可用測量時(shí)間補(bǔ)償，因此限制最大光強(qiáng)度自身不會(huì)帶來附 加的測量誤差。
基于頻率的選擇(見下文)，需要大于4MHz的帶寬。同時(shí)調(diào)制的光源越 多，所需帶寬越大。由于位置傳感器68有限的帶寬，在頻率較高時(shí)信號幅 度較小，并因而統(tǒng)計(jì)學(xué)誤差較大。
為了卓有成效地實(shí)施技術(shù)，關(guān)鍵是正確選擇測量頻率。為了避免在傅里 葉分析中的窗口問題，選擇頻率，從而在測量間隙分別測量每個(gè)頻率的整數(shù) 周期。因此對于所有頻率，測量間隙的邊界是周期性的邊界條件。因此不需 要窗口，以及測量信號準(zhǔn)確地正交，從而防止在傅里葉分析時(shí)的信道串?dāng)_。
VCSELP車列98及其電子設(shè)備表明，在驅(qū)動(dòng)信號與發(fā)光度之間是非線性 關(guān)系。因此除測量頻率外，光場還含有其諧波。如果一個(gè)激光器二極管的這 種諧波與另一個(gè)激光器二極管(亦即另一個(gè)鏡元件28)的測量頻率重合，則賦 予此另一個(gè)激光器二極管的測量結(jié)果被損害。因此應(yīng)當(dāng)沒有一個(gè)測量頻率是 另一個(gè)測量頻率的多倍。為了確保這一點(diǎn)，頻率作為素?cái)?shù)分布在帶寬內(nèi)。
在此具體例子中適用的是，每個(gè)鏡的測量周期達(dá)到250ns。當(dāng)四個(gè)光源 同時(shí)活動(dòng)時(shí)，需要四個(gè)頻率，以便同時(shí)分析四個(gè)鏡元件28。因此這種測量持 續(xù)時(shí)間為1 ps(忽略數(shù)量級為200 ns的過渡時(shí)間)。因此周期性邊界條件適用 于那些是1 MHz多倍的頻率。因此，1 MHz前四個(gè)素?cái)?shù)的多倍是，頻率2 MHz、 3MHz、 5MHz和7MHz。在同時(shí)測量八個(gè)時(shí)，間隙為2ps長以及測 量頻率為1、 1.5、 2.5、 3.5、 5.5、 6.5、 8.5和9.5 MHz。頻率數(shù)量的最佳選 擇，取決于位置傳感器68的帶寬。通過模擬得出，對于Silek2L4和要求的 關(guān)鍵數(shù)據(jù)的最佳值處于四個(gè)與八個(gè)頻率之間，準(zhǔn)確的值也可以通過實(shí)驗(yàn)確 定。因?yàn)樗財(cái)?shù)的密度隨值的增大而減小，所以隨著測量頻率數(shù)增加帶寬也增 大，由此降低位置傳感器68可使用的信號幅度，這再次影響精度。
由于可以在位置傳感器68上檢測到最大值的有限的總強(qiáng)度，也必須選 擇光源的發(fā)光度，使得不超過位置傳感器68的飽和極限。為此，合理的是 應(yīng)將光源控制為使最大總強(qiáng)度盡可能小，由此可將每個(gè)光源的平均功率調(diào)整
30得盡可能高。因?yàn)轭l率通過素?cái)?shù)分布確定，以及每個(gè)光源有相同的幅度，所 以最大總發(fā)光度可通過調(diào)整相對相位最小化。非線性數(shù)值最小化的結(jié)果是， 僅通過恰當(dāng)選擇相位，便能達(dá)到顯著減小最大強(qiáng)度。最大值用單個(gè)最大強(qiáng)度
的多倍表達(dá)，例如在4個(gè)光源時(shí)為2.93，在6個(gè)光源時(shí)為4.33，在8個(gè)光源 時(shí)為5.57。
與前述順序采樣鏡元件(不調(diào)制)相比，所介紹的方法突出的優(yōu)點(diǎn)是，位 置傳感器68的速度并不意味著對于測量精度根本性的限制。原則上可以任 意迅速地測量，盡管由于降低了信號幅度使測量精度受損。不過由此可以設(shè) 想(以及在計(jì)算裝置中通過相應(yīng)地設(shè)計(jì)評估軟件易于實(shí)現(xiàn))，依據(jù)指令在不同 速度與精度之間轉(zhuǎn)換。因此例如當(dāng)測量誤差較大時(shí)，對于鏡的主動(dòng)阻尼可以 將所有鏡調(diào)整為0.2 ms的釆樣時(shí)間，以及在全精度時(shí)對于實(shí)際的調(diào)整過程重 新返回為1 ms。當(dāng)純粹順序測量時(shí)，用SiTek2L4不再能達(dá)到測量頻率0.2 ms。 因此本方法在給定的條件下(亦即當(dāng)用SiTek的2L4應(yīng)達(dá)到采樣時(shí)間為0.2 ms，以便主動(dòng)阻尼)不僅是一種有利的方案，而甚至有可能是唯一可行的方 案。
為了執(zhí)行所述的測量方法需要下列部件
包括多個(gè)光源的測量照明裝置，它設(shè)有恰當(dāng)數(shù)量的主控放大器，從而 使4、 6、 8等成一組的光源可以同時(shí)工作。
信號發(fā)生器，它可以產(chǎn)生頻率^相位相關(guān)的正弦信號，其中信號的數(shù) 量與同時(shí)控制的光源數(shù)量相同。為此，按DDS原理(Direct Digital Synthesis: 直接數(shù)字式合成器)的發(fā)生器是非常適用的。
四個(gè)模-數(shù)轉(zhuǎn)換器，它們將位置傳感器68預(yù)放大的信號數(shù)字化。因?yàn)?這種技術(shù)以同步檢測為基礎(chǔ)，所以轉(zhuǎn)換器的時(shí)鐘源可以由與信號發(fā)生器的時(shí) 鐘相同的基準(zhǔn)導(dǎo)出。
計(jì)算裝置，它可以評估模-數(shù)轉(zhuǎn)換器的傳感器信號。對于此類任務(wù)合 理的是，在這里使用可編程的邏輯單元，例如FPGA(Field-Programmable Gate Array:現(xiàn)場可編程門陣列)。因此計(jì)算裝置(FPGA)有下列主任務(wù)
o收集四個(gè)ND轉(zhuǎn)換器的測量數(shù)據(jù)。
o數(shù)字地產(chǎn)生頻率與光源頻率相同的正弦和余弦信號。
o用A/D轉(zhuǎn)換器數(shù)據(jù)倍增正弦和余弦信號。這使得每個(gè)使用的頻率得 到8個(gè)乘積。O經(jīng)過在測量間隙累加這些乘積。這些和凄t給出未標(biāo)準(zhǔn)化的0。和90° 分量，由它們通過二次加法可以確定各自輸入信號的幅度。
由這些幅度，通過簡單的加法、減法和除法，確定各自鏡的2D角度位 置。這些運(yùn)算可有比較多的時(shí)間，因?yàn)檫@種運(yùn)算每個(gè)鏡只須實(shí)施兩次。
通過利用在現(xiàn)代化的FPGAs中可提供的計(jì)算裝置，可以在單個(gè)的FPGA 中用適度的費(fèi)用完成此項(xiàng)任務(wù)。
由圖14可見FPGA包括主功能在內(nèi)的電子裝置方塊圖。
在計(jì)算單元108中只畫有計(jì)算量大的運(yùn)算。"MAC單元"是乘法-力。法單 元，它以8*11倍的形式提供，其中n是光源的數(shù)量，它們同時(shí)用不同的頻率 調(diào)制。除計(jì)算單元108(它作為FPGA的"Firmware，，執(zhí)行以及不直接在硬件內(nèi) 表現(xiàn)出來)外，本系統(tǒng)與慣用的"順序，，測量方法非常類似，由此可以低成本制 成。在此簡圖中，已經(jīng)主要在FPGA(D/A轉(zhuǎn)換器在右下方)中集成了 DDS裝 置的功能，盡管這也可以用市場上的DDS構(gòu)件執(zhí)行。
10.結(jié)束語
上面結(jié)合光瞳面的照明提及的測量和設(shè)備，毫無疑問也可以有利地被用 于主動(dòng)式掩模，其中同樣設(shè)微鏡排列作為可控元件。
同樣，多鏡陣列可以用其他反射或透射元件替代，只要它們能使入射光 在元件的不同分區(qū)內(nèi)通過施加控制信號沿不同方向偏轉(zhuǎn)。這些不同的可供選 擇的結(jié)構(gòu)，可例如包括光電或聲光元件，在它們中通過使得適用的材料受到 電場或超聲波的影響，可以改變折射率。折射率的這種改變可被用于達(dá)到期 望的光偏轉(zhuǎn)。
盡管借助所附實(shí)施例詳細(xì)說明了;本發(fā)明，但對于本領(lǐng)域技術(shù)人員明顯的 是，可以就省略一些已說明的特征和/或?qū)⒔榻B的特征組合而言，替代或改進(jìn) 是可能的，且并不脫離所附權(quán)利要求書請求保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)，包括光瞳面和用于光瞳面可變地照明的、由優(yōu)選地可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的基本上平面狀的布置，其中，根據(jù)施加到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許入射到所述射束偏轉(zhuǎn)元件上的投射光束(32)偏轉(zhuǎn)，其特征在于，至少一個(gè)測量照明裝置(54、56、58、60；88；90；98)，用它可以將與投射光束(32)無關(guān)的測量光束(36)被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上，檢測裝置，通過它可以記錄在由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)偏轉(zhuǎn)后的測量光束(38)，以及評估單元，用于根據(jù)檢測裝置提供的測量信號確定投射光束(32)的偏轉(zhuǎn)。
2. 按照權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述測量光束(36)可以入射方向(50、 50')被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上，該入射方向(50、 50')不同于賦予射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的投射光束(32)照射所述射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的入射方向(40)。
3. 按照權(quán)利要求2所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的測量光束(36)的入射方向(50、 50')，與所述賦予射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的才殳射光束(32)的入射方向(40),在入射角和/或方位角方面不同。
4. 按照權(quán)利要求3所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的測量光束(36)的入射方向(50)的方位角，與所述賦予射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的投射光束(32)的入射方向(40)的方位角，彼此相差超過30°，優(yōu)選地超過60。，尤其相差約90。。
5. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述測量光束(36)可以入射方向(50、 50')被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上，確立該入射方向(50、 50'),使得所述測量光束(36)可以不照射光瞳面，而與通過射束偏轉(zhuǎn)元件(28)造成的射束偏轉(zhuǎn)無關(guān)。
6. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述射束偏轉(zhuǎn)元件(28)是有反射鏡面(30)的可傾斜的鏡。
7. 按照權(quán)利要求6所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述鏡可繞兩條優(yōu)選地互相正交布置的傾凍+軸線傾名牛。
8. 按照權(quán)利要求6或7所述的照明系統(tǒng)，其特征為，通過評估裝置還可以確定反射鏡面(30)的曲率。
9. 按照權(quán)利要求8所述的照明系統(tǒng)，其特征為，多條測量光束(36)可被引導(dǎo)到單個(gè)鏡面(30)上；以及，基于測量光束(36)在彎曲的鏡面(30)上經(jīng)歷的不同偏轉(zhuǎn)，通過評估裝置可確定曲率。
10. 按照權(quán)利要求8所述的照明系統(tǒng)，其特征為，通過檢測裝置可記錄測量光束(36)的橫截面；以及，基于所確定的橫截面，通過評估裝置可確定曲率。
11. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征在于殼體(82)，其中安裝射束偏轉(zhuǎn)元件(28),以及，殼體(82)有對測量光束(36)和投射光束(32)透明的窗口(84)。
12. 按照權(quán)利要求11所述的照明系統(tǒng)，其特征為，通過測量照明裝置(88)可以將p-偏振的測量光束(36)以布魯斯特角被引導(dǎo)到窗口 (84)上。
13. 按照權(quán)利要求12所述的照明系統(tǒng)，其特征為，通過測量照明裝置(88)可以產(chǎn)生p-偏振的測量光束(36)，或可以將不同偏振的測量光束(36)轉(zhuǎn)換為p-偏振的測量光束(36)。
14. 按照權(quán)利要求12所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述測量照明裝置(88)包含光源(54; 98)和偏振器(88)，該偏振器(88)僅透射p-偏振的測量光束(36)。
15. 按照權(quán)利要求11至14之一所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述透明的窗口 (84)帶有抗反射層(86)，該抗反射層(86)對于入射的投射光(32)優(yōu)化；以及，所述測量光束(36)的波長大于所述抗反射層(86)的厚度。
16. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征為，在測量照明裝置(54、 56、 58、 60; 88; 98)與射束偏轉(zhuǎn)元件(28)之間，設(shè)置入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(56、 58、 60)。
17. 按照權(quán)利要求16所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(56、 58、 60)包括至少一個(gè)用于產(chǎn)生平行光束(62)的準(zhǔn)直器(56、 58、 60)。
18. 按照權(quán)利要求17所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(56、 58、 60)包括會(huì)聚透鏡(60)的布置，其中的每一個(gè)會(huì)聚透鏡(60)精確地配屬于 一個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)。
19. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征為，在射束偏轉(zhuǎn)元件(28)與檢測裝置之間，設(shè)置出射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(66; 70、 72、 74)。
20. 按照權(quán)利要求19所述的照明系統(tǒng)，其特征為，檢測裝置有多個(gè)具有空間解析的圖像記錄器(68);以及，所述出射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(66; 70、 72、 74)包括至少一個(gè)會(huì)聚透鏡(66),在其焦平面內(nèi)設(shè)置圖像記錄器(68)中的至少一個(gè)。
21. 按照權(quán)利要求20所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述出射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(66; 70、 72、 74)包括會(huì)聚透鏡(66)的布置，其中的每一個(gè)會(huì)聚透鏡(66)精確地配屬于一個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)。
22. 按照權(quán)利要求20或21所述的照明系統(tǒng)，其特征為，為每一個(gè)會(huì)聚透鏡(66)精確地配設(shè)一個(gè)有空間解析的圖像記錄器(68)。
23. 按照權(quán)利要求21或22所述的照明系統(tǒng)，其特征在于一物鏡(70、72、74)，它使射束偏轉(zhuǎn)元件(28)布置投射在會(huì)聚透鏡(66)布置上。
24. 按照權(quán)利要求23所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述物鏡(70、 72、74)、所述射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的布置以及所述會(huì)聚透鏡(66)布置滿足交線條件。
25. 按照上述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述檢測裝置包括至少一個(gè)設(shè)計(jì)為4象限檢測器的圖像記錄器(68)。
26. 按照權(quán)利要求1至15之一所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述至少一個(gè)測量照明裝置(90)產(chǎn)生一照明圖案，測量光束從該照明圖案出射；以及，所述檢測裝置是照相機(jī)，借助它可以記錄由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)偏轉(zhuǎn)后的圖案的細(xì)節(jié)。
27. 按照權(quán)利要求26所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述圖案沒有兩個(gè)相同一致的部分。
28. :接照;K利要求26或27所述的照明系統(tǒng)，其特4i為，所述圖案通過照明的屏幕來產(chǎn)生。
29. 按照權(quán)利要求26或27所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述圖案通過透射照明的屏幕來產(chǎn)生。
30. 按照權(quán)利要求26至29之一所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述照相機(jī)記錄多個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)。
31. 按照權(quán)利要求26至30之一所述的照明系統(tǒng)，其特征為，它包括評估單元，該評估單元可以在圖案內(nèi)找到被照相機(jī)記錄的圖案的細(xì)節(jié)。
32. 按照權(quán)利要求26至31之一所述的照明系統(tǒng)，其特征為，所述評估裝置可以實(shí)施圖案的細(xì)節(jié)與圖案之間的自相關(guān)。
33. —種用于校準(zhǔn)測量或控制參數(shù)的設(shè)備，所述測量或控制參數(shù)在分析或控制由優(yōu)選可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的平面狀布置時(shí)出現(xiàn)，借助此布置可以為微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)的光瞳面可變地照明，其中，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許根據(jù)施加到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號，偏轉(zhuǎn)入射到射束偏轉(zhuǎn)元件上的4更射光束(32)，其特征為可以在照明系統(tǒng)(12)的光瞳面內(nèi)或附近，設(shè)置具有一些校準(zhǔn)標(biāo)記(102)的校準(zhǔn)板(104),這些校準(zhǔn)標(biāo)記(102)的透射能力與它們周圍區(qū)域的透射能力不同。
34. 按照權(quán)利要求33所述的設(shè)備，其特征為，所述校準(zhǔn)板(104)在投射工作期間可以從光路中取走。
35. 按照權(quán)利要求33所述的設(shè)備，其特征為，所述校準(zhǔn)標(biāo)記(102)有與照明光斑的尺寸及形狀相應(yīng)的尺寸和形狀，照明光斑由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)在校準(zhǔn)板(104)的位置上產(chǎn)生，其中，校準(zhǔn)標(biāo)記(102)有一種與校準(zhǔn)標(biāo)記(102)周圍區(qū)域的透射能力相比低1/N倍的透射能力，其中N是一個(gè)整數(shù)。
36. 按照權(quán)利要求35所述的設(shè)備，其特征為，所述校準(zhǔn)板(104)在投射工作期間留在光路內(nèi)。
37. 按照權(quán)利要求33至36之一所述的設(shè)備,其特征為，所述校準(zhǔn)板(104)可通過替換設(shè)備更換。
38. —種用于校準(zhǔn)測量或控制參數(shù)的設(shè)備，所述測量或控制參數(shù)在分析或控制由優(yōu)選可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的平面狀布置時(shí)出現(xiàn)，借助此布置可以為微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)的光瞳面可變地照明，其中，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許根據(jù)施加到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號，偏轉(zhuǎn)入射到射束偏轉(zhuǎn)元件上的投射光束(32),其特征在于，投射光檢測器(IOO)，它在可利用的光瞳孔外部設(shè)置，在光瞳面內(nèi)或附近，控制單元，通過它可控制射束偏轉(zhuǎn)元件(28)，使得各個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)相繼或多個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)同時(shí)將照射它們的投射光束(32)被引導(dǎo)到所述投射光檢測器(100)上，以及評估單元，通過它可以將由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)造成的偏轉(zhuǎn)與由投射光檢測器(l OO)確定的位置互相關(guān)聯(lián)。
39. 按照權(quán)利要求38所述的設(shè)備，其特征為，所述投射光檢測器(IOO)設(shè)置為與可利用的光瞳孔有一個(gè)距離，該距離小于可利用的光瞳孔的直徑的1/5。
40. 按照權(quán)利要求38或39所述的設(shè)備，其特征為，所述投射光;f企測器 (100)有具有空間解析的傳感器。
41. 按照權(quán)利要求38至40之一所述的設(shè)備，其特征在于多個(gè)投射光檢 測器(IOO),它們沿光瞳孔的圓周排列。
42. 按照權(quán)利要求38至41之一所述的設(shè)備，其特征為，通過控制裝置 可控制各個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)相繼或多個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)同時(shí)，在投射曝 光設(shè)備(10)內(nèi)實(shí)施曝光期間，使得入射到它們上的投射光束(32)可被引導(dǎo)到 投射光檢測器(100)上。
43. 按照權(quán)利要求38至41之一所述的設(shè)備，其特征為，通過控制裝置 可控制各個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)相繼或多個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)同時(shí)，在由投射 曝光設(shè)備(10)規(guī)定的曝光間歇期間，使得入射到它們上的投射光束(32)可被 引導(dǎo)到投射光檢測器(100)上。
44. 一種用于調(diào)整由優(yōu)選可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的平面狀 布置的調(diào)整設(shè)備，借助此平面狀布置可以為微光刻投射曝光設(shè)備(l0)的照明 系統(tǒng)(12)的光瞳面可變地照明，其中，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許根據(jù)施加 到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號，偏轉(zhuǎn)入射到射束偏轉(zhuǎn)元件上的投射光束 (32),其特征在于a) 可產(chǎn)生測量信號的測量裝置，b) 基于模型的狀態(tài)估算器，借助該狀態(tài)估算器利用測量信號可以確定 估計(jì)的狀態(tài)矢量，該狀態(tài)矢量體現(xiàn)由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)引起的偏轉(zhuǎn)及其時(shí)間 導(dǎo)數(shù)，c) 調(diào)節(jié)器，對其可輸入估算的狀態(tài)矢量和由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)引起的偏 轉(zhuǎn)及其時(shí)間導(dǎo)數(shù)的設(shè)定值，以及，借助該調(diào)節(jié)器通過控制參數(shù)可以控制施加 在射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號。
45. 按照權(quán)利要求44所述的調(diào)整設(shè)備，其特征為，所述基于模型的狀 態(tài)估算器可以按一定的時(shí)鐘頻率輸出估算的狀態(tài)矢量，該時(shí)鐘頻率高于產(chǎn)生 測量信號的時(shí)鐘頻率。
46. 按照權(quán)利要求44或45所述的調(diào)整設(shè)備，其特征為，所述基于模型 的狀態(tài)估算器是卡爾曼濾波器。
47. —種用于同時(shí)記錄一些測量信號的測量設(shè)備，這些測量信號在分析 或控制由優(yōu)選可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的平面狀布置時(shí)出現(xiàn)，借 助此布置可以為微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)的光瞳面可變地照 明，其中，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許根據(jù)施加到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控 制信號，偏轉(zhuǎn)入射到射束偏轉(zhuǎn)元件上的才殳射光束(32),其特征在于a) 測量照明裝置，通過它可同時(shí)將多個(gè)測量光束^C引導(dǎo)到所述布置上， 該多個(gè)測量光束的強(qiáng)度用不同頻率調(diào)制；b) 傳感器，可在該傳感器上取得測量信號，以及通過該傳感器可以同 時(shí)記錄多個(gè)從所述布置反射的測量光束，c) 評估單元，它分開所述測量信號的對應(yīng)于各不同頻率的成分并賦予各個(gè)測量光束。
48. 按照權(quán)利要求47所述的設(shè)備，其特征為，所述評估單元按鎖定原 理工作。
49. 按照權(quán)利要求47或48所述的設(shè)備，其特征為，所述不同頻率中沒 有一個(gè)頻率是另 一個(gè)頻率的整數(shù)倍。
50. 按照權(quán)利要求47至49之一所述的設(shè)備，其特征為，通過所述測量 照明裝置可同時(shí)將四個(gè)測量光束被引導(dǎo)到所述布置上，所述四條測量光束的 強(qiáng)度分別用頻率2MHz、 3MHz、 5MHz或7MHz調(diào)制。
51. 按照權(quán)利要求47至49之一所述的設(shè)備，其特征為，通過測量照明 裝置可同時(shí)將八個(gè)測量光束被引導(dǎo)到布置上，這八條測量光束的強(qiáng)度分別用 頻率1 MHz、 1.5畫z、 2.5 MHz、 3.5 MHz、 5.5 MHz、 6.5 MHz、 8.5顧z 和9.5MHz調(diào)制。
52. 按照權(quán)利要求47至51之一所述的設(shè)備，其特征為，所述評估單元 具有測量間隙，在測量間隙期間可以評估測量信號，以及該測量間隙選擇為， 對于所有不同的頻率可分別測量整數(shù)的周期。
53. 按照權(quán)利要求47至52之一所述的設(shè)備，其特征為，通過恰當(dāng)確定 在各測量光束用不同頻率調(diào)制的強(qiáng)度之間的相對相位，使得等于各個(gè)測量光 束強(qiáng)度之和的總強(qiáng)度最小化。
54. —種用于在微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)內(nèi)控制至少1000個(gè)反 射或透射性射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的設(shè)備，其特征為所述射束偏轉(zhuǎn)元件(28)全 部中性位置的平均值可以1/6000的精度來調(diào)節(jié)；以及，偏離中性位置的位置可以1/500的精度來調(diào)節(jié)。
55. 按照權(quán)利要求54所述的設(shè)備，其特征為，所述全體射束偏轉(zhuǎn)元件 (28),可以在短于50 ms的時(shí)間內(nèi)，尤其短于10 ms的時(shí)間內(nèi)調(diào)整。
56. —種用于確定在微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)內(nèi)投射光 束偏轉(zhuǎn)的方法，其中，該照明系統(tǒng)(12)包括光瞳面和用于該光瞳面可變地照 明的、由優(yōu)選地可單獨(dú)控制的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的基本上平面狀的布置， 其中，每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)允許施加到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號的 函數(shù)，偏轉(zhuǎn)入射到射束偏轉(zhuǎn)元件上的投射光束(32),其特征為與投射光束(32)無關(guān)的測量光束(36)被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上； 測量光束(38)在由射束偏轉(zhuǎn)元件(28)偏轉(zhuǎn)后受到記錄；以及， 由此確定賦予射束偏轉(zhuǎn)元件(28)的4殳射光束(32)的偏轉(zhuǎn)。
57. —種用于確定物鏡內(nèi)光學(xué)元件、尤其是微光刻技術(shù)物鏡內(nèi)光學(xué)元件 表面變化的設(shè)備，其特征為設(shè)有至少一個(gè)測量照明裝置(54、 56、 58、 90)， 借助它用至少一個(gè)測量射束(36、 62)給要檢查的光學(xué)元件(26)照明，該測量 射束(36、 62)的入射方向與一個(gè)或多個(gè)物鏡射束(32)的入射方向不同，以及， 設(shè)有至少一個(gè)檢測裝置(68)，它記錄測量射束在與要檢查的光學(xué)元件表面相 互作用后的改變。
58. 按照權(quán)利要求57所述的設(shè)備，其特征為，將該設(shè)備布置，使得要 確定的表面改變是至少一個(gè)表面區(qū)的表面法線的角度變化。
59. 按照權(quán)利要求57或58所述的設(shè)備，其特征為，將該設(shè)備布置為， 使要檢查的光學(xué)元件(26)是一個(gè)鏡元件或多個(gè)鏡元件，尤其是多鏡陣歹'J(Multi Mirror Array MMA)。
60. 按照權(quán)利要求57至59之一所述的設(shè)備，其特征為，所述測量射束 (36、 62)的入射方向與一個(gè)或多個(gè)物鏡射束(32)的入射方向，在它們的入射 角和/或入射方位角方面不同。
61. 按照權(quán)利要求60所述的設(shè)備，其特征為，所述入射方位角相對于 要檢查的光學(xué)元件的表面法線相差大于30。，優(yōu)選地大于60。，尤其約90。的 旋轉(zhuǎn)角度。
62. 按照權(quán)利要求57至61之一所述的設(shè)備，其特征為，在所述測量照 明光源(54)與要檢查的光學(xué)元件(26)之間和/或在要檢查的光學(xué)元件(26)與所 述檢測裝置(68)之間，分別設(shè)置光學(xué)系統(tǒng)。
63. 按照權(quán)利要求62所述的設(shè)備，其特征為，所述測量照明光源(54) 的光學(xué)系統(tǒng)(56、 60)有至少一個(gè)準(zhǔn)直器，尤其是具有微透鏡陣列(60)的孔板 (56),其中，孔板設(shè)在微透鏡的焦平面內(nèi)，用于產(chǎn)生平行射束。
64. 按照權(quán)利要求62或63所述的設(shè)備，其特征為，所述檢測裝置的光 學(xué)系統(tǒng)有至少一個(gè)會(huì)聚透鏡，優(yōu)選地微透鏡陣列(66),從而尤其在會(huì)聚透鏡 的焦平面內(nèi)，造成要檢查的表面的至少一個(gè)區(qū)域的傅里葉變換，其中，在透 鏡焦平面內(nèi)設(shè)置至少一個(gè)，優(yōu)選地多個(gè)，尤其與微透鏡的數(shù)量相應(yīng)的位置傳 感器(68)。
65. 按照權(quán)利要求62至64之一所述的設(shè)備，其特征為，所述檢測裝置 的光學(xué)系統(tǒng)有一光學(xué)部件(70)，它在遵守交線條件的情況下，將要檢查的表 面的至少一個(gè)區(qū)域，投射到至少一個(gè)會(huì)聚透鏡(66)上，尤其透鏡陣列上，特 別是微透鏡陣列上，其中，在光學(xué)透鏡的焦平面內(nèi)為透鏡陣列中每個(gè)光學(xué)透 鏡，設(shè)置至少一個(gè)，優(yōu)選地一個(gè)位置傳感器(68)。
66. 按照權(quán)利要求64或65所述的設(shè)備，其特征為，所述檢測裝置的光 學(xué)系統(tǒng)有一光學(xué)部件(70),它根據(jù)要檢查表面的表面法線的取向，使得在相 關(guān)的表面區(qū)內(nèi)反射的射束以規(guī)定的入射角射到為該檢測裝置的位置傳感器 (68)配設(shè)的光學(xué)透鏡(66)上，尤其是一透鏡陣列的透鏡上。
67. 按照權(quán)利要求65或66所述的設(shè)備，其特征為，所述光學(xué)部件是中 繼光學(xué)部件(70),包括兩個(gè)會(huì)聚透鏡(72、 74)。
68. 按照權(quán)利要求57至67之一所述的設(shè)備，其特征為，所述檢測裝置 包括至少一個(gè)，優(yōu)選地多個(gè)形式上為4象限檢測器和/或位置敏感式二維檢測 器的位置傳感器(68)。
69. —種用于確定物鏡內(nèi)光學(xué)元件、尤其是微光刻技術(shù)物鏡內(nèi)光學(xué)元件 表面變化的方法，其特征為設(shè)有至少一個(gè)測量照明裝置，借助它用至少一 個(gè)測量射束給要^r查的光學(xué)元件照明，所述至少一個(gè)測量射束的入射方向與 一個(gè)或多個(gè)物鏡射束的入射方向不同，以及，設(shè)有至少一個(gè)^r測裝置，它記 錄測量射束在與要檢查的光學(xué)元件表面相互作用后的改變。
70. 按照權(quán)利要求69所述的方法，其特征為，使用按照權(quán)利要求1至 12之一所述的設(shè)備。
71. 按照權(quán)利要求69或70所述的方法，其特征為，確定物鏡內(nèi)光學(xué)元 件表面的變化與物鏡的使用同時(shí)進(jìn)行。
72.按照權(quán)利要求69至71之一所述的方法，其特征為，確定物鏡內(nèi)光學(xué)元件表面的變化連續(xù)不斷地進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)，包括光瞳面和由優(yōu)選地可單獨(dú)控制、用于光瞳面可變地照明的射束偏轉(zhuǎn)元件(28)組成的基本上平面狀的布置。可以根據(jù)施加在射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上的控制信號，通過每個(gè)射束偏轉(zhuǎn)元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)。測量照明裝置(54、56、58、60；88；90；98)將與投射光束(32)無關(guān)的測量光束(36)被引導(dǎo)到射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上。檢測裝置檢測在射束偏轉(zhuǎn)元件(28)上偏轉(zhuǎn)后的測量光束(38)。評估單元根據(jù)檢測裝置提供的測試信號確定投射光束(32)的偏轉(zhuǎn)。
文檔編號G03F7/20GK101636696SQ200880004238
公開日2010年1月27日 申請日期2008年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月6日
發(fā)明者關(guān)彥彬, 安德拉斯·G·梅杰, 弗洛里安·巴赫, 斯蒂芬·澤爾特, 曼弗雷德·莫爾, 簡·霍恩, 約翰尼斯·萬格勒, 約翰尼斯·艾森門格, 達(dá)米安·菲奧爾卡, 邁克爾·帕特拉, 邁克爾·萊, 馬庫斯·德岡瑟 申請人:卡爾蔡司Smt股份公司