濕刻設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的實(shí)施例涉及濕刻設(shè)備。該濕刻設(shè)備包括刻蝕室以及位于所述刻蝕室的頂部上的干燥腔。通過在刻蝕室的頂部上增加干燥腔，當(dāng)刻蝕液中的水分的水蒸汽進(jìn)入干燥腔后被干燥，這樣可以有效阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中，從而提高刻蝕均勻性，并因此提高最終產(chǎn)品的良品率。
【專利說明】
濕刻設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明的實(shí)施例一般地涉及微機(jī)械加工領(lǐng)域，特別涉及濕刻設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在作為微機(jī)械加工工藝中的一種的濕刻工藝中，為了提高刻蝕速率，有時(shí)需要將刻蝕液進(jìn)行加熱，例如加熱到36?45°C。在這種情況下，如圖1所示，在刻蝕室I中，從噴嘴2向被刻蝕物3噴灑的刻蝕液中的水分會(huì)蒸發(fā)成水蒸汽，然后在刻蝕室I的頂部遇冷凝結(jié)，以水滴4的形式再滴落回噴灑到被刻蝕物3上的刻蝕液中。這樣就會(huì)使得刻蝕液在水滴滴注處被稀釋，導(dǎo)致刻蝕不均勻，產(chǎn)生白點(diǎn)。例如，如果被刻蝕目標(biāo)是金屬，水滴4的滴落會(huì)導(dǎo)致金屬殘留等不良。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種濕刻設(shè)備，可以有效阻止刻蝕液中的水分的水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落到被刻蝕物上的刻蝕液中，由此，可以提高被刻蝕物的刻蝕均勻性，并提尚最終廣品的良品率。
[0004]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，提供一種濕刻設(shè)備，其包括:
[0005]刻蝕室；以及
[0006]位于所述刻蝕室的頂部上的干燥腔。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例通過在刻蝕室的頂部上增加干燥腔，當(dāng)刻蝕液中的水分的水蒸汽進(jìn)入干燥腔后被干燥，這樣可以有效阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中，從而提尚被刻蝕物的刻蝕均勾性，并因此提尚最終廣品的良品率。
[0008]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，在所述干燥腔的鄰近所述刻蝕室的壁上設(shè)置有吸水層。通過在干燥腔的鄰近所述刻蝕室的壁上設(shè)置吸水層，刻蝕液中的水分蒸發(fā)的水蒸汽通過該吸水層被吸附到干燥腔內(nèi)部，從而阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中。
[0009]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，在所述干燥腔的遠(yuǎn)離所述刻蝕室的壁中設(shè)置有多個(gè)通氣孔，所述通氣孔用于向所述干燥腔中通入干燥氣體。通過在干燥腔的遠(yuǎn)離刻蝕室的壁中設(shè)置用于向干燥腔中通入干燥氣體的通氣孔，進(jìn)入干燥腔中的水蒸汽被通入的干燥氣體所干燥或帶走，從而可以阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中。
[0010]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述吸水層為多孔材料。刻蝕室中的水蒸汽進(jìn)入到多孔材料的細(xì)孔中，從而被吸入干燥腔內(nèi)，阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中。
[0011]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述吸水層的材料包括脫脂棉、硅膠、海綿中的至少一種。這些材料具有較強(qiáng)的吸水性，能夠有效地吸附刻蝕室中的水蒸汽而將水蒸汽吸入干燥腔內(nèi)。
[0012]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述吸水層的厚度范圍為5mm?15mm。具有這樣厚度范圍的吸水層既可以保持干燥腔密閉度，又可以使吸附的水蒸汽被及時(shí)干燥。
[0013]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述吸水層的厚度范圍為10±1mm。這樣的厚度范圍可以更好地保持干燥腔密閉度和水蒸汽干燥的及時(shí)性。
[0014]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述吸水層被設(shè)置在所述干燥腔的底壁上。由于干燥腔的底壁是干燥腔的與刻蝕室直接接觸的壁，刻蝕室中的水蒸汽能夠被該底壁上的吸水層高效地吸入干燥腔。
[0015]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述多個(gè)通氣孔為圓形、多邊形、橢圓形、不規(guī)則形狀中的至少一種的孔的陣列。通氣孔采用孔陣列的形式，可以使干燥氣體的流通更均勻、順暢、及時(shí)地對(duì)被吸入干燥腔的水蒸汽進(jìn)行干燥。
[0016]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述干燥氣體為氮?dú)?。氮?dú)獾幕瘜W(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定，能夠在不影響濕刻的情況下及時(shí)有效地干燥進(jìn)入干燥腔的水蒸汽。
[0017]由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明實(shí)施例通過在刻蝕腔頂部設(shè)置干燥腔，當(dāng)刻蝕液中的水分的水蒸汽進(jìn)入干燥腔后被干燥，這樣可以有效阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中，從而提高被刻蝕物的刻蝕均勻性，并因此提高最終產(chǎn)品的良品率。
【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹。顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的濕刻設(shè)備的示意圖；
[0020]圖2是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的濕刻設(shè)備的示意圖；以及
[0021]圖3是示出圖2中橢圓形虛線所圈出的干燥腔頂壁的局部的示意性仰視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0023]此外，在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，提供了一種濕刻設(shè)備，其包括:
[0025]刻蝕室；以及
[0026]位于所述刻蝕室的頂部上的干燥腔。
[0027]圖2是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的濕刻設(shè)備的示意圖。如圖2所示，濕刻設(shè)備包括刻蝕室I以及位于刻蝕室I的頂部上的干燥腔5。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，在刻蝕室I的頂部上增加干燥腔5ο這樣，當(dāng)從噴嘴2向被刻蝕物3噴灑的刻蝕液經(jīng)歷了加熱時(shí)，刻蝕液中的水分會(huì)蒸發(fā)成水蒸汽而沿圖2中所示的箭頭的方向向上移動(dòng)并進(jìn)入干燥腔5 ο在干燥腔5中，水蒸汽被干燥而不會(huì)凝結(jié)成水滴。這樣，可以有效阻止水蒸汽在刻蝕室I頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中，從而提高刻蝕均勻性，并因此提高最終產(chǎn)品的良品率。
[0029]在圖2中，由點(diǎn)線繪制的小橢圓形代表未凝結(jié)成水滴的水蒸汽，其沿箭頭方向從刻蝕室I進(jìn)入干燥腔5。
[0030]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，在干燥腔5的鄰近刻蝕室I的壁上設(shè)置有吸水層6。
[0031]通過在干燥腔5的鄰近刻蝕室I的壁上設(shè)置吸水層6，刻蝕液中的水分蒸發(fā)的水蒸汽通過該吸水層6而被吸附到干燥腔5內(nèi)部，從而阻止水蒸汽在刻蝕室I頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物3上的刻蝕液中。
[0032]在圖2所示的示例性實(shí)施例中，吸水層6被設(shè)置在干燥腔5的底壁上。由于干燥腔5的底壁是干燥腔5的與刻蝕室I直接接觸的壁，刻蝕室I中的水蒸汽能夠被該底壁上的吸水層6高效地吸入干燥腔5。然而，本發(fā)明不限于此，吸水層6還可以被設(shè)置在干燥腔5的側(cè)壁的下部中。
[0033]對(duì)干燥腔5的各個(gè)壁的形狀沒有限制，只要其形成獨(dú)立的腔即可。干燥腔5的各個(gè)壁可以為如圖2所示的平面形狀。然而，本發(fā)明不限于此。例如，干燥腔5的底壁的周邊可以具有向下彎折的部分。
[0034]對(duì)吸水層6的材料沒有限制，只要其具備吸水特性即可。例如，吸水層6可以為多孔材料?？涛g室I中的水蒸汽進(jìn)入到該多孔材料的細(xì)孔中，從而被吸入干燥腔5內(nèi)，由此可以阻止水蒸汽在刻蝕室I頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物3上的刻蝕液中。
[0035]具體而言，吸水層6的材料可以包括脫脂棉、硅膠、海綿中的至少一種。這些材料具有較強(qiáng)的吸水性，能夠有效地吸附刻蝕室I中的水蒸汽而將水蒸汽吸入干燥腔5內(nèi)。
[0036]對(duì)吸水層6的厚度沒有限制，只要其既可以保持干燥腔5的密閉度，又可以使吸附的水蒸汽被及時(shí)干燥即可O例如，吸水層6的厚度范圍可以為5mm?15mm，優(yōu)選地為1 土 1_。
[0037]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，在干燥腔5的遠(yuǎn)離刻蝕室I的壁中設(shè)置有多個(gè)通氣孔7(參見圖3)，通氣孔7用于向干燥腔5中通入干燥氣體。
[0038]通過在干燥腔5的遠(yuǎn)離刻蝕室I的壁中設(shè)置用于向干燥腔5中通入干燥氣體的通氣孔7，進(jìn)入干燥腔5中的水蒸汽被通入的干燥氣體所干燥或帶走，從而可以阻止水蒸汽在刻蝕室I頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物3上的刻蝕液中。
[0039]在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述多個(gè)通氣孔7可以被設(shè)置在干燥腔5的頂壁上。然而，本發(fā)明不限于此，通氣孔7還可以被設(shè)置在干燥腔5的側(cè)壁的上部中。
[0040]圖3是示出圖2中橢圓形虛線所圈出的干燥腔5的頂壁的局部的示意性仰視圖。如圖3所示，在干燥腔5的頂壁上排布有多個(gè)通氣孔7。
[0041]對(duì)通氣孔7的形狀沒有具體限制。例如，通氣孔7可以為圖3所示的圓形。然而，本發(fā)明不限于此。所述多個(gè)通氣孔7可以為圓形、多邊形、橢圓形、不規(guī)則形狀中的至少一種的孔的陣列。多個(gè)通氣孔7采用孔陣列的形式，可以使干燥氣體的流通更均勻、順暢而及時(shí)地對(duì)被吸入干燥腔的水蒸汽進(jìn)行干燥。
[0042]對(duì)通氣孔7的排列方式?jīng)]有具體限制。例如，通氣孔7可以為圖3所示的矩形陣列的方式排列。然而，本發(fā)明不限于此。所述多個(gè)通氣孔7可以按圓形、多邊形、橢圓形或甚至不規(guī)則的陣列的方式排列。
[0043]干燥氣體可以為氮?dú)?。氮?dú)獾幕瘜W(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定，能夠在不影響濕刻的情況下及時(shí)有效地干燥進(jìn)入干燥腔5的水蒸汽。然而，本發(fā)明不限于此。干燥氣體可以為任何能夠吸收或帶走水蒸汽的氣體。
[0044]如上所述，本發(fā)明實(shí)施例通過在刻蝕腔I的頂部上設(shè)置干燥腔5，可以在濕刻工藝中使刻蝕液中的水分的水蒸汽在干燥腔5中被干燥，有效阻止水蒸汽在刻蝕室頂部遇冷凝結(jié)并滴落回到被刻蝕物上的刻蝕液中，進(jìn)而降低被刻蝕物3的刻蝕不均勻，提高最終產(chǎn)品的良品率。
[0045]本發(fā)明實(shí)施例的濕刻設(shè)備適用于任何需要使用濕刻工藝進(jìn)行微加工的實(shí)際應(yīng)用中。例如，可以在TFT-LCD的陣列濕刻工藝等中使用本發(fā)明實(shí)施例的濕刻設(shè)備，由此可以防止刻蝕液中的水分的水蒸汽在刻蝕室頂部凝結(jié)成水滴而滴落回到基板上的刻蝕液中，從而降低面板不良的發(fā)生率。
[0046]本發(fā)明的說明書中，說明了大量具體細(xì)節(jié)。然而，能夠理解，本發(fā)明的實(shí)施例可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)踐。在一些實(shí)施例中，并未詳細(xì)示出公知的方法、結(jié)構(gòu)和技術(shù)，以便不模糊對(duì)本說明書的理解。
[0047]最后應(yīng)說明的是:以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制;盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種濕刻設(shè)備，其特征在于包括: 亥Ij蝕室；以及 位于所述刻蝕室的頂部上的干燥腔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，在所述干燥腔的鄰近所述刻蝕室的壁上設(shè)置有吸水層。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，在所述干燥腔的遠(yuǎn)離所述刻蝕室的壁中設(shè)置有多個(gè)通氣孔，所述通氣孔用于向所述干燥腔中通入干燥氣體。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述吸水層為多孔材料。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述吸水層的材料包括脫脂棉、硅膠、海綿中的至少一種。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述吸水層的厚度范圍為5mm?15mm。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述吸水層的厚度范圍為10±lmm。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述吸水層被設(shè)置在所述干燥腔的底壁上。9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)通氣孔為圓形、多邊形、橢圓形、不規(guī)則形狀中的至少一種的孔的陣列。10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕刻設(shè)備，其特征在于，所述干燥氣體為氮?dú)狻?br>【文檔編號(hào)】H01L21/67GK105895565SQ201610405309
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年6月12日
【發(fā)明人】薛靜, 宋玉冰, 李鑫, 朱紅, 孫鳳英
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司