專利名稱：曝光用光源、曝光裝置、曝光方法、以及面板基板的制造方法
技術領域：
本發(fā)明是關于一種在液晶顯示裝置等的顯示用面板基板的制造中，進 行基板曝光時所使用的曝光用光源、曝光裝置、曝光方法、以及使用上述 曝光用光源、曝光裝置、曝光方法的顯示用面板基板的制造方法。
背景技術：
作為顯示用面板而使用的液晶顯示器裝置的TFT ( thin film transistor,薄膜晶體管)基板或彩色濾光片基板、等離子顯示器面板用 基板、有機EL (electro luminescence)顯示面板用基板等的制造是以如 下方式而進行的，即，使用曝光裝置并利用光刻(photo lithography)技 術，在基板上形成圖案。曝光裝置是隔著掩膜(mask)向涂布著感光樹脂 材料(photoresist,光致抗蝕劑)的基板照射上述曝光光束，由此，將掩 膜的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。曝光裝置的產(chǎn)生曝光光束的光源，使用如水銀燈、囟素燈(halogen lamp)、以及氣氣燈(xenon la即)等將高壓氣體密封進燈泡(bulb)內(nèi)的 燈。由于上述燈的發(fā)熱量多，并且，溫度過高時燈泡將有可能破裂，因此， 必須一面對燈泡進行冷卻一面使用。例如，在專利文獻1中揭示有曝光用 照明裝置的冷卻^U勾。專利文獻1日本專利特開2004 - 71782號公報一般而言，曝光光束的照度(illumination)是根據(jù)燈的表面溫度而 變化。對于燈而言，給定有表面溫度的額定值，當進行曝光處理時，為使 曝光光束的照度穩(wěn)定，必須將燈的表面溫度保持在額定值。曝光光束的光量，與曝光光束的照度及曝光時間成比例。近年來，伴隨 著顯示用面板的大畫面化，基板也趨向大型化，并且，要求曝光裝置的光 源為高亮度的光源。光源的亮度越高，曝光光束的照度就越高，短時間曝 光即可，從而縮短制程時間(tact time),提高生產(chǎn)量(throughput )。而且，當因基板的大小或光致抗蝕劑的種類的不同，而曝光時需要不 同的曝光光束的光量時，先前，必須更換燈來變更光源的亮度。由于更換 燈要花費時間與人力，因此存在以下要求不更換燈而變更光源的亮度。為了滿足上述要求，人們考慮到使用多個燈來作為產(chǎn)生曝光光束的光 源，從整體上提高光源的亮度，并且，通過燈的切換來變更光源的亮度。然 而，存在以下問題如果僅僅使用多個燈，則難以使燈的表面溫度均勻，且
曝光光束的照度不穩(wěn)定。其原因在于各燈所產(chǎn)生的曝光光束的一部分，直 接或透過設置在各燈周圍的聚光鏡而向鄰接的燈照射，由此在相鄰接的燈 的曝光光束所照射的部分與未照射的部分上產(chǎn)生溫度差。而且，各燈所產(chǎn) 生的熱將向鄰接的燈傳送，由此在靠近相鄰接的燈的地方與遠離相鄰接的 燈的地方，產(chǎn)生溫度差。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的課題在于，使用多個燈來一面應對高亮度及變更亮度的要求， 一面使燈的表面溫度均勻，以使曝光光束的照度穩(wěn)定。而且，本發(fā)明的課 題在于，以較短的制程時間來制造高品質(zhì)的基板。本發(fā)明的曝光用光源包括產(chǎn)生曝光光束的多個燈；多個聚光鏡，設置 在各燈的周圍，且對各燈所產(chǎn)生的曝光光束進行聚光；間隔壁，設置在各 燈之間，防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑制各燈所產(chǎn)生的 熱向其他燈傳送；燈收納室，具有冷卻介質(zhì)的吸氣口及排氣口 ，且收納著 多個燈、多個聚光鏡及間隔壁，在各燈的周圍形成冷卻介質(zhì)流以對各燈進 行冷卻。而且，本發(fā)明的曝光裝置包括上述曝光用光源，且利用上述曝光用光 源的多個燈所產(chǎn)生的曝光光束，對基板進行曝光。而且，本發(fā)明的曝光方法中，使用多個燈來作為產(chǎn)生曝光光束的光源； 在各燈的周圍設置著聚光鏡，以對各燈所產(chǎn)生的曝光光束進行聚光；在各 燈之間設置著間隔壁，以防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑 制各燈所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送；在燈收納室中，收納著多個燈、多個聚 光鏡及間隔壁；在燈收納室上設置著冷卻介質(zhì)的吸氣口及排氣口，在各燈 的周圍形成冷卻介質(zhì)流以對各燈進行冷卻；且利用多個燈所產(chǎn)生的曝光光 束，對基板進行曝光。由于使用多個燈來作為產(chǎn)生曝光光束的光源，因此，可整體上提高光 源的亮度，并且，可切換燈來變更光源的亮度。設置在各燈之間的間隔壁 可防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑制各燈所產(chǎn)生的熱向其 他燈傳送，因此，在各燈的表面上，可減小因來自其他燈的曝光光束及熱 的影響而導致的溫度差。由此，當在燈收納室中收納著多個燈、多個聚光 鏡及間隔壁，且在燈收納室上設置著冷卻介質(zhì)的吸氣口及排氣口，并在各 燈的周圍形成著冷卻介質(zhì)流來冷卻各燈時，可使燈的表面均勻地冷卻。進而，本發(fā)明的曝光用光源中，間隔壁具有流動著冷卻水的冷卻水通 路。而且，本發(fā)明的曝光裝置，具備上述曝光用光源，且利用上述曝光用 光源的多個燈所產(chǎn)生的曝光光束，對基板進行曝光。而且，本發(fā)明的曝光 方法中，在間隔壁上設置著冷卻水通路，在冷卻水通路上流動著冷卻水以
對間隔壁進4亍冷卻。由于利用冷卻水來冷卻間隔壁，因此，將進一步抑制各燈所產(chǎn)生的熱 向其他燈傳送，且進一步減小燈的表面的溫度差。由此，當將多個燈、多 個聚光鏡及間隔壁收納在燈收納室中，且在燈收納室上設置著冷卻介質(zhì)的 吸氣口及排氣口 ，并在各燈的周圍形成著冷卻介質(zhì)流來對各燈進行冷卻時， 可使燈的表面更均勻地冷卻。本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法是使用上述任一個曝光裝置或曝 光方法，將掩膜上的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。利用上述曝光裝置或曝光方法，來 一面應對高亮度及變更亮度的要求， 一面使曝光光束的照度穩(wěn)定，因此可 用較短的制程時間制造出高品質(zhì)的基板。[發(fā)明的效果]根據(jù)本發(fā)明的曝光用光源、曝光裝置、以及曝光方法，使用多個燈，可 一面應對高亮度及變更亮度的要求， 一面減小燈的表面溫度差，且對燈的 表面均勻地冷卻。由此，可使燈的表面溫度均勻，以使曝光光束的照度穩(wěn)定。進而，根據(jù)本發(fā)明的曝光用光源、曝光裝置、以及曝光方法，在間隔壁 上設置著冷卻水通J各，并在冷卻水通路中流動著冷卻水以對間隔壁進行冷 卻，由此可進一步減小燈的表面溫度差，以使燈的表面更均勻地冷卻。因此， 可使燈的表面溫度更均勻，以使曝光光束的照度更穩(wěn)定。根據(jù)本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法，可一面應對高亮度及變更 亮度的要求， 一面使曝光光束的照度穩(wěn)定，因此，可用較短的制程時間來 制造出高品質(zhì)的基才反。


圖1是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的曝光裝置的概略構成的圖。圖2是本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的燈的頂視圖。圖3是圖2中的沿著A-A部的局部剖面?zhèn)纫晥D。圖4是圖2中的沿著B - B部的局部剖面?zhèn)纫晥D。圖5是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的間隔壁冷卻機構的圖。圖6是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的燈冷卻機構的圖。圖7是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造步驟的一例的流程圖。圖8是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造步驟的一例的流程圖。1:基板 3:底板 5: X平臺2:掩膜 4: X導軌 6: Y導軌7: Y平臺9: Z-傾斜才幾構20:掩膜架31a、 31b、 31c、 31d:燈33:第1平面鏡35:光閘37:第2平面鏡39:燈收納室39b:排氣口50a、 50b、 50c、 50d、 50e: 51:冷卻水通路 53:排水管8: 0平臺 10:夾盤30:曝光光束照射裝置32a、 32b、 32c、 32d:聚光鏡34:透鏡36:準直透4竟38:電源39a:吸氣口40:排氣風扇間隔壁52:供水管具體實施方式
圖1是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的曝光裝置的概略構成的圖。本 實施形態(tài)表示接近式(proximity)曝光裝置的示例，該曝光裝置中，在掩 膜與基板之間設置著微小間隙(proximity gap,貼近間隙)，將掩膜上的 圖案轉(zhuǎn)印到基板上。曝光裝置包括底板3、 X導軌4、 X平臺5、 Y導軌6、 Y 平臺7、 e平臺8、 Z-傾斜機構9、夾盤10、掩膜架(mask holder) 20、 以及曝光光束照射裝置30。再者，曝光裝置除上述之外，還包括搬入基 板1的搬入單元、搬出基板1的搬出單元、以及進行裝置內(nèi)的溫度管理的 溫度控制單元等。在圖1中，夾盤IO位于對基板1進行曝光的曝光位置上。在曝光位置 的上空，利用掩膜架20以保持著掩膜2。在離開曝光位置的傳送位置上， 利用未圖示的搬入單元將基板1搭載到夾盤10上，或利用未圖示的搬出單 元自夾盤10回收基板1。利用Z-傾斜機構9將夾盤IO搭載到9平臺8上，在6平臺8的下方， 設置著Y平臺7及X平臺5。 X平臺5沿著設置在底板3上的X導軌4，向X 方向(圖式中的橫方向)移動。利用X平臺5向X方向的移動，而使夾盤 10在傳送位置與曝光位置之間移動。Y平臺7沿著設置在X平臺5上的Y 導軌6，向Y方向(圖式中的深度方向)移動。9平臺8向8方向旋轉(zhuǎn)，Z-傾斜機構9向Z方向(圖式中的縱方向)移動及傾斜。在曝光位置上，利用X平臺5向X方向的移動、Y平臺7向Y方向的移 動、以及6平臺8向9方向的旋轉(zhuǎn)，而對基板l進行定位。而且，利用 Z-傾斜機構9向Z方向的移動及傾斜，而控制掩膜2與基板1之間的間隙。在掩膜架20的上空，設置著曝光光束照射裝置30。曝光光束照射裝置
30包括燈31a、 31b、 31c、 31d;聚光鏡32a、 32b、 32c、、 32d;第l平 面鏡33;透鏡34;光閘35;準直透鏡36;第2平面鏡37;電源38;燈冷 卻才幾構；以及間隔壁50a、 50b、 50c、 50d及50e。圖2是本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的燈的頂視圖。在本實施形態(tài)中，使用 4個燈31a、 31b、 31c、 31d來作為產(chǎn)生曝光光束的光源。燈31a、 31b、 31c、 31d,如水銀燈、卣素燈、氙氣燈等，使用將高壓氣體密封進燈泡內(nèi)的燈。在燈31a、 31b、 31c、 31d的周圍，設置著對燈31a、 31b、 31c、 31d 所產(chǎn)生的曝光光束進行聚光的聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d。本實施形態(tài)中， 切除聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d的一部分，由此使鄰接的2個燈配置為接 近到小于聚光鏡直徑的距離。然而，也可不切除聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d 的一部分，而使鄰接的2個燈配置為間隔大于聚光鏡直徑的距離。自圖1中的電源38施加電壓后，使燈31a、 31b、 31c、 31d點亮，且產(chǎn) 生曝光光束。燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的曝光光束，將由聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d聚光，并向圖1中的第1平面鏡33照射。圖l中，由第l平面鏡33所反射的曝光光束，將向復眼透鏡或柱狀透 鏡等所構成的透鏡34入射，并且透過透鏡34而使照度分布變得均勻。當 打開光閘35時，透過透鏡34的曝光光束，將透過準直透鏡36而成為平行 光束，并由第2平面鏡37反射后向掩膜2照射。由于使用4個燈31a、 31b、 31c、 31d來作為產(chǎn)生曝光光束的光源，因 此，可整體上提高光源的亮度，并且可通過切換各燈31a、 31b、 31c、 31d 來變更光源的亮度。例如，使用所有燈的亮度均相同的燈，當曝光所需的 曝光光束的光量較多時將所有燈點亮，且當曝光所需的曝光光束的光量較 少時，僅將一部分的燈點亮。或者，'使用所有或一部分的燈的亮度不同的 燈，當曝光所需的曝光光束的光量較多時，將所有燈點亮，且當曝光所需 的曝光光束的光量較少時，僅將與所需的曝光光束的光量相一致的亮度的 燈點亮。圖2中，在燈31a與燈31b之間，設置著間隔壁50a。而且，在燈31b 與燈31c之間，設置著間隔壁50b。進而，在燈31c與燈31d之間，設置著 間隔壁50c。進而，在燈31d與燈31a之間，設置著間隔壁50d。進而，在 燈31a與燈31c之間，設置著間隔壁50e。此外，間隔壁可設置在燈與燈之間，且其數(shù)量可根據(jù)多個燈的配置而 適當?shù)匾?guī)定。例如，當將4個燈配置為相鄰接的燈之間的距離相等時，間隔 壁的數(shù)量可為4個。并且，也可將多個間隔壁連接成一體。圖3是圖2中的沿著A-A部的局部剖面?zhèn)?^見圖。并且，圖4是閨2中 的沿著B-B部的局部剖面?zhèn)纫晥D。此外，圖3或圖4中，聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d由沿著A-A部或B-B部的剖面圖來表示，燈31a、 31b、 31c、31d以及間隔壁50a、 50b、 50d、 50e由側(cè)^見圖來表示。間隔壁50a、 50b、 50c、 50d、 50e，由紫外線反射率高的鋁所形成，以 防止各燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑制各 燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送。由于設置在燈31a、 31b、 31c、 31d之間的間隔壁50a、 50b、 50c、 50d、 50e，可防止各燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且 抑制各燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送，因此，在燈31a、 31b、 31c、 31d的表面上，可減小因來自其他燈的曝光光束及熱的影響而導 致的溫度差。由此，當.利用下述的燈冷卻機構來對燈31a、 31b、 31c、 31d 進行冷卻時，可4吏各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面均勻地冷卻。進而，本實施形態(tài)中，在間隔壁50a、 50b、 50c、 50d、 50e,設置著冷 卻機構。圖5是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的間隔壁冷卻機構的圖。在 間隔壁50e的內(nèi)部，設置著流動著冷卻水的冷卻水通路51。將溫度經(jīng)調(diào)節(jié) 后的冷卻水，自供水管52向冷卻水通路51供給，且將流過冷卻水通路51 的冷卻水自排水管53排出。由冷卻水通路51中流動的冷卻水來冷卻間隔 壁50e。間隔壁50a、 50b、 50c、 50d的構成也與間隔壁50e的構成相同。由于利用冷卻水來冷卻各間隔壁50a、 50b、 50c、 50d50e，因此，進一 步抑制各燈31a、 31b、 31c、 31d所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送，并且進一步減 小各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面溫度差。由此，當利用下述的燈冷卻機 構來對各燈31a、 31b、 31c、 31d進行冷卻時，可使各燈31a、 31b、 31c、 31d 的表面更均勻地冷卻。圖6是表示本發(fā)明中的一個實施形態(tài)的燈冷卻機構的圖。燈冷卻機構 包括燈收納室(lamp housing) 39以及排氣風扇(exhaust fan) 40。在燈收納室39中，收納著燈31a、 31b、 31c、 31d;聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d;第1平面鏡33;透鏡34;以及間隔壁50a、 50b、 50c、 50d、 50e。 燈收納室39,在燈31a、 31b、 31c、 31d更下方的位置上具有空氣吸氣口 39a,在燈31a、 31b、 31c、 31d更上方的位置上具有空氣排氣口 39b。排氣 風扇40與排氣口 39b連接。起動排氣風扇40后，燈收納室39內(nèi)的空氣自 排氣口 39b排出，且為了向燈收納室39內(nèi)補充空氣，而自吸氣口 39a吸入 空氣。在聚光鏡32a、 32b、 32c、 32d的底部,設置著燈31a、 31b、 31c、 31d 所貫通的開口，且自吸氣口 39a吸入的空氣，如箭頭符號所示，通過各聚 光鏡32a、 32b、 32c、 32d的開口，在各燈31a、 31b、 31c、 31d的周圍流 動，對各燈31a、 31b、 31c、 31d進行冷卻。在各燈31a、 31b、 31c、 31d 的周圍流動的空氣，吸收各燈31a、 31b、 31c、 31d的熱而使溫度上升，且 自排氣口 39b排出。
根據(jù)以上所說明的實施形態(tài)，使用多個燈31a、 31b、 31c、 31d,可一面 應對高亮度及變更亮度的要求， 一面減小各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面 溫度差，且使各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面均勻地冷卻。由此，可使燈 31a、 31b、 31c、 31d的表面溫度均勻，使曝光光束的照度穩(wěn)定。進而，在間隔壁50a、 50b、 50c、 50d、 50e上設置著冷卻水通路51, 在冷卻水通路51中流動著冷卻水以對間隔壁進行冷卻，由此，可進一步減 小各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面溫度差，且可使各燈31a、 31b、 31c、 31d的表面更均勻地冷卻。由此，可進一步使燈31a、 31b、 31c、 31d的表 面溫度均勻，使曝光光束的照度進一步穩(wěn)定。再者，在以上所說明的實施形態(tài)中，使用4個燈31a、 31b、 31c、 31d 作為產(chǎn)生曝光光束的光源，但本發(fā)明并非限定于此，也可使用2個、3個、 5個或5個以上的燈。而且，在以上所說明的實施形態(tài)中，使用空氣來作為 對各燈31a、 31b、 31c、 31d進4亍冷卻的冷卻介質(zhì)(cooling medium)，但 本發(fā)明并非限定于此，也可使用空氣以外的氣體來作為冷卻介質(zhì)。而且，在 以上所說明的實施形態(tài)中，在燈收納室39上設置著2個吸氣口 39a,但也 可設置著1個、或3個或3個以上的吸氣口。同樣，在以上所說明的實施 形態(tài)中，在燈收納室39上設置著1個排氣口 39b，但也可設置著2個或2 個以上的排氣口。本發(fā)明并不限定于接近式曝光裝置，也可應用于使用透鏡或鏡將掩膜 上的圖案投影到基板上的投影曝光裝置。通過使用本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法，將掩膜上的圖案轉(zhuǎn)印到基板 上，可一面應對高亮度及變更亮度的要求， 一面使曝光光束的照度穩(wěn)定，因 此，可用較短的制程時間制造出高品質(zhì)的基板。例如，圖7是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造步驟的一例的流 程圖。在薄膜形成步驟(步驟101)中，利用賊射法(sputtering method) 及等離子化學氣相沉積(CVD, chemical vapor deposition)法等，在玻 璃基板上形成作為液晶驅(qū)動用的透明電極的導電體膜或絕緣體膜等的薄 膜。在抗蝕劑涂布步驟(步驟102)中，利用輥涂法等，涂布感光樹脂材料 (光致抗蝕劑)，且在薄膜形成步驟(步驟101)中所形成的薄膜上，形成光 致抗蝕劑膜。在曝光步驟(步驟103)中，使用接近式曝光裝置或投影曝光 裝置等，將掩膜的圖案轉(zhuǎn)印到光致抗蝕劑膜上。在顯影步驟(步驟104)中， 利用淋浴式顯影法等，將顯影液供給到光致抗蝕劑膜上，除去光致抗蝕劑 膜上的多余部分。在蝕刻步驟(步驟105)中，利用濕蝕刻，除去在薄膜形 成步驟(步驟101 )中所形成的薄膜中的未被光致抗蝕劑膜掩蓋的部分。在 剝離步驟(步驟106)中，利用剝離液，將已完成蝕刻步驟(步驟105)中 的掩膜作用的光致抗蝕劑膜剝離。在上述各步驟之前或之后，可根據(jù)需要，
對基板實施洗凈/干燥步驟。重復進行數(shù)次上述步驟，在玻璃基板上形成TFT 陣列。此外，圖8是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造步驟中的 一例的流程圖。在黑色矩陣(black matrix)形成步驟(步驟201)中，通 過涂布抗蝕劑、曝光、顯影、蝕刻、及剝離等的處理，在玻璃基板上形咸 黑色矩陣。在著色圖案形成步驟(步驟202 )中，利用染色法、顏料分散法、 印刷法、電鍍法等，在玻璃基板上形成著色圖案。對R、 G、 B的著色圖案 重復進行著色圖案形成步驟。保護膜形成步驟(步驟203 )中，在著色圖案 上形成保護膜，然后，透明電極膜形成步驟(步驟204 )中，在保護膜上形 成透明電極膜。在上述各步驟之前、中途或之后，可根據(jù)需要，對基板實 施洗凈/干燥步驟。本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法可應用于圖7所示的TFT基板的制造步 驟中的曝光步驟(步驟103)、圖8所示的彩色濾光片基板的制造步驟中的 黑色矩陣形成步驟(步驟201)及著色圖案形成步驟(步驟202 )的曝光處 理。
權利要求
1.一種曝光用光源，其特征在于包括產(chǎn)生曝光光束的多個燈；多個聚光鏡，設置在各燈的周圍，并且對各燈所產(chǎn)生的曝光光束進行聚光；間隔壁，設置在各燈之間，防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑制各燈所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送；以及燈收納室，具有冷卻介質(zhì)的吸氣口及排氣口，且收納著上述多個燈、上述多個聚光鏡、以及上述間隔壁，在各燈周圍形成冷卻介質(zhì)流，以對各燈進行冷卻。
2. 如權利要求1所述的曝光用光源，其特征在于上述間隔壁具有流 動著冷卻水的冷卻水通路。
3. —種曝光裝置，其特征在于包括權利要求1或權利要求2所述的曝光用光源，且利用該曝光用光 源的上述多個燈所產(chǎn)生的曝光光束，對基板進行曝光。
4. 一種曝光方法，其特征在于使用多個燈來作為產(chǎn)生曝光光束的光源；在各燈的周圍設置著聚光鏡，對各燈所產(chǎn)生的曝光光束進行聚光； 在各燈之間設置著間隔壁，以防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈照射，且抑制各燈所產(chǎn)生的熱向其他燈傳送；在燈收納室中，收納著多個燈、多個聚光^:、以及間隔壁；且 在燈收納室上，設置著冷卻介質(zhì)的吸氣口及排氣口，且在各燈的周圍形成冷卻介質(zhì)流，以對各燈進行冷卻；利用多個燈所產(chǎn)生的曝光光束，對基板進行曝光。
5. 如權利要求4所述的曝光方法，其特征在于 在間隔壁上設置著冷卻水通路，且在冷卻水通路中流動著冷卻水，以對間隔壁進行冷卻。
6. —種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于 使用如權利要求3所述的曝光裝置，將掩膜上的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。
7. —種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于 使用如權利要求4或權利要求5所述的曝光方法，將掩膜的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。
全文摘要
本發(fā)明是關于一種曝光用光源、曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法，本發(fā)明的曝光用光源使用多個燈，一面來應對高亮度以及變更亮度的要求，一面使燈的表面溫度均勻，以使曝光光束的照度穩(wěn)定。使用多個燈(31a、31b、31c、31d)來作為產(chǎn)生曝光光束的光源，并且在各燈之間，設置著間隔壁(50a、50b、50c、50d、50e)，以防止各燈所產(chǎn)生的曝光光束向其他燈上照射，且抑制各燈所產(chǎn)生的熱向其他燈上傳送。在燈收納室中，收納著燈(31a、31b、31c、31d)以及聚光鏡(32a、32b、32c、32d)及間隔壁(50a、50b、50c、50d、50e)，且在燈收納室(39)上，設置著冷卻介質(zhì)的吸氣口(39a)及排氣口(39b)，在各燈的周圍形成冷卻介質(zhì)流以冷卻各燈。
文檔編號G03F7/20GK101154052SQ20071011143
公開日2008年4月2日 申請日期2007年6月20日 優(yōu)先權日2006年9月28日
發(fā)明者森順一 申請人:株式會社日立高科技