專利名稱：制作液晶面板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器，尤其是一種制作液晶面板(LC Panel)的方法，該方法可同時形成復數(shù)個光阻間隙填充物(photoresist spacer，PRspacer)以及一光阻邊框(PR side frame)，并可避免光阻間隙填充物發(fā)生傾倒。
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圖1至圖5，圖1至圖5為習知制作液晶面板(liquid crystalpanel，LC Panel)的方法示意圖。如圖1所示，背板(backplane)10上包含有復數(shù)個呈陣列(array)排列的電極(未顯示)。首先于背板10上涂布(coat)一配向膜(alignment layer)12。接著如圖2所示，于配向膜12上進行一擦印(rubbing)制程，以于配向膜12表面形成復數(shù)條配向溝漕(alignment trench)44。通常背板10為一硅背板(silicon backplane)，而該擦印制程利用一配向棉刷(rubbing cloth)進行于配向膜12表面。
如圖3所示，接著將復數(shù)個以玻璃制成的球形填充物(spacer ball)16灑于配向膜12表面，使每兩球形填充物16相距約200至400微米(micron)。之后以一包含有球形填充物16與框膠的混合物涂布于配向膜12表面的邊緣，以形成一環(huán)繞于該復數(shù)個電極以及復數(shù)個球形填充物16的外緣，且包含有至少一灌液晶口(silt)20的邊框(side frame)18。
如圖4所示，之后對邊框18一固化(curing)制程，以增加邊框18的硬度。隨即涂布框膠(gasket seal)于邊框18以及各球形填充物16上，并進行一壓合(lamination)制程，以將一由俱備有透光率高與導電性佳的特性的氧化銦錫(indium tin oxide，ITO)所構(gòu)成的透明導電層22，壓合于背板10上。其中，透明導電層22上方另覆蓋有一透明玻璃。
如圖5所示，接著于進行一灌晶(liquid crystal filling，LCfilling)制程，以使背板10與透明導電層22間之間隙(cell gap)充滿液晶后，再進行一封液晶口(end sealing)制程，以封閉灌液晶口20。最后進行一液晶再配向制程，以完成習知的液晶面板制作方法。
然而習知的液晶面板制作方法是利用復數(shù)個以玻璃制成的球形填充物16來作為背板10與透明導電層22間之間隙的支撐，但是不同批購入的球形填充物16常在體積與直徑上會有些微差距，甚至同批購入的球形填充物16亦會發(fā)生此一問題。因此后續(xù)將透明導電層22壓合于背板10上以及進行該灌晶制程時，若球形填充物16的直徑小于邊框18的高度，則會發(fā)生球形填充物16滑動的情形，或造成背板10與透明導電層22間之間隙發(fā)生塌陷的現(xiàn)象。球形填充物16的滑動將造成配向膜12表面的刮傷，而間隙塌陷則會造成灌入的液晶的厚度不均，此二者皆會導致液晶面板的光電均勻性，嚴重影響產(chǎn)品功能。
在本發(fā)明的最佳實施例中，背板(backplane)上包含有復數(shù)個呈陣列(array)排列的電極(electrode)。首先，于該背板上涂布(coat)一配向膜(alignment layer)，隨后進行一擦印(rubbing)制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)條配向溝漕(alignment trench)。接著于該配向膜表面形成一光阻(photoresist)層，并進行一曝光暨顯影制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)個光阻間隙填充物(photoresists pacer，PR spacer)，以及一包含有至少一灌液晶口(silt)的邊框(side frame)。之后進行一固化(curing)制程，以增加該光阻間隙填充物與該邊框的硬度，并隨即涂布框膠(gasketseal)于該邊框以及各該光阻間隙填充物上。接著進行一壓合(lamination)制程，以將一透明導電層壓合于該背板上。之后進行一灌晶(liquid crystalfilling，LC filling)制程，以使該背板與該透明導電層間之間隙(cell gap)充滿液晶。最后進行一封液晶口(end sealling)制程，以封閉該灌液晶口，并隨后進行一液晶再配向制程，以完成本發(fā)明的制作方法。
由于本發(fā)明的制作方法可廣泛運用于反射式液晶投影(liquidcrystal on silicon，LCOS)面板或液晶顯示面板(liquid crystal displaypanel，LCD Panel)的制程中，可達到制程整合以降低成本的效果。此外，本發(fā)明的制作方法利用進行該曝光暨顯影制程，以同時于該配向膜表面形成高度相同，且與該配向膜附著良好的該邊框與該復數(shù)個光阻間隙填充物，因此后續(xù)將該透明導電層壓合于該背板上以及進行該灌晶制程時，可避免發(fā)生光阻間隙填充物滑動而造成該配向膜表面刮傷，抑或間隙塌陷的問題。因此灌入的液晶的厚度得以一致，而確保液晶面板的光電均勻性符合標準，進而提升產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
圖示的符號說明10 背板 12配向膜14 配向溝漕 16間隙填充球18 邊框 20灌液晶口22 透明導電層 40背板42 配向膜 44配向溝漕46 光阻間隙填充物 48邊框50 灌液晶口 52透明導電層如圖8所示，接著于配向膜42表面形成一由一高透光率的光阻所構(gòu)成，并與配向膜42附著良好的的光阻(photoresist)層。隨后對該光阻層進行一曝光暨顯影(lithography)制程，以于配向膜42表面同時形成復數(shù)個光阻間隙填充物(photoresist spacer，PR spacer)46以及一包含有至少一灌液晶口(silt)50的邊框(side frame)48。其中，光阻間隙填充物46與邊框48具有相同的高度，而每兩光阻間隙填充物46相距約200至400微米(micron)(視產(chǎn)品的不同需求而有所調(diào)整)，且邊框48可為一不連續(xù)的框架(discontinuous frame)，環(huán)繞于該復數(shù)個電極以及復數(shù)個光阻間隙填充物46的外緣。
如圖9所示，之后對邊框48以及各光阻間隙填充物46進行一固化(Curing)制程，以增加光阻間隙填充物46與邊框48的硬度，避免光阻間隙填充物46或邊框48發(fā)生傾倒。隨即涂布框膠(gasket seal)于邊框48以及各光阻間隙填充物46上，并進行一壓合(lamination)制程，以將一由俱備有透光率高與導電性佳的特性的氧化銦錫(indium tin oxide，ITO)所構(gòu)成的透明導電層52以及一透明玻璃(未顯示)，壓合于背板40上。其中，未貼附于該透明玻璃的透明導電層52表面亦可形成有一具有復數(shù)條配向溝漕的配向膜。
如圖10所示，接著于進行一灌晶(liquid crystal filling，LCfilling)制程，以使背板40與透明導電層52間之間隙(cell gap)充滿液晶后，再進行一封液晶口(end sealing)制程，以封閉各灌液晶口50。最后進行一液晶再配向制程，以完成本發(fā)明的制作方法。
相較于習知技術(shù)，本發(fā)明利用進行該曝光暨顯影制程，以同時于配向膜42表面形成高度相同，且與配向膜42附著良好的邊框48與復數(shù)個光阻間隙填充物46，因此后續(xù)將透明導電層52壓合于背板40上以及進行該灌晶制程時，可避免發(fā)生光阻間隙填充物滑動而造成配向膜42表面刮傷，抑或背板40與透明導電層52間之間隙塌陷的問題。因此灌入的液晶的厚度得以一致，而確保液晶面板的光電均勻性符合標準，進而提升產(chǎn)品的穩(wěn)定性。此外，本發(fā)明的制作方法可廣泛運用于反射式液晶投影(liquidcrystal on silicon，LCOS)面板或液晶顯示面板(liquid crystal displaypanel，LCD Panel)的制程中，以達到制程整合以及降低成本的目的。
以上所述僅本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本發(fā)明專利的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種制作液晶面板的方法，其特征是該方法包含有下列步驟提供一背板，且該背板上包含有復數(shù)個呈陣列排列的電極；于該背板上涂布一配向膜；進行一擦印制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)條配向溝漕；于該配向膜表面形成一光阻層；進行一曝光暨顯影制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)個光阻間隙填充物以及一邊框，且該邊框包含有至少一灌液晶口；涂布框膠于該邊框以及各該光阻間隙填充物上；進行一壓合制程，以將一透明導電層壓合于該背板上；進行一灌晶制程，以使該背板與該透明導電層間之間隙充滿液晶；以及進行一封液晶口制程，以封閉該灌液晶口。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該擦印制程利用一配向棉刷進行于該配向膜表面。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該背板為一硅背板。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該光阻層由一高透光率的光阻所構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該光阻間隙填充物與該邊框具有相同的高度。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該邊框環(huán)繞于該等電極以及該等光阻間隙填充物的外緣，且該邊框為一不連續(xù)的框架。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是另包含有一固化制程，進行于該壓合制程之前，以增加該光阻間隙填充物與該邊框的硬度。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該透明導電層包含有氧化銦錫。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是另包含有一液晶再配向制程，進行于該封液晶口制程之后。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該液晶面板為一反射式液晶投影面板。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征是該液晶面板為一液晶顯示面板。
12.一種避免光阻間隙填充物發(fā)生傾倒的液晶面板的制作方法，其特征是該制作方法包含有下列步驟提供一背板，且該背板上包含有復數(shù)個呈陣列排列的電極；于該背板上涂布一配向膜；進行一擦印制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)條配向溝漕；于該配向膜表面形成一高透光率的光阻層；進行一曝光暨顯影制程，以于該配向膜表面形成復數(shù)個光阻間隙填充物以及一邊框，且該邊框包含有至少一灌液晶口；涂布框膠于該邊框以及各該光阻間隙填充物上；進行一壓合制程，以將一透明導電層壓合于該硅背板上；進行該灌晶制程，以使該背板與該透明導電層間之間隙充滿液晶；以及進行一封液晶口制程，以封閉該灌液晶口；其中各該光阻間隙填充物形成于該擦印制程之后，以避免各該光阻間隙填充物于該擦印制程中發(fā)生傾倒的現(xiàn)象。
13.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是該擦印制程利用一配向棉刷進行于該配向膜表面。
14.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是該背板為一硅背板。
15.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是該光阻間隙填充物與該邊框具有相同的高度。
16.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是該邊框環(huán)繞于該等電極以及該等光阻間隙填充物的外緣，且該邊框為一不連續(xù)的框架。
17.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是另包含有一固化制程，進行于該壓合制程之前，以增加該光阻間隙填充物與該邊框的硬度。
18.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是該透明導電層包含有氧化銦錫。
19.如權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征是另包含有一液晶再配向制程，進行于該封液晶口制程之后。
20.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征是該液晶面板包含有一反射式液晶投影面板或一液晶顯示面板。
全文摘要
一種制作液晶面板的方法，廣泛運用于反射式液晶投影(LCOS)面板或液晶顯示面板(LCD Panel)的制程中，首先提供一背板，其上包含有復數(shù)個呈陣列排列的電極；于該背板上涂布一配向膜；進行一擦印制程，于該配向膜表面形成復數(shù)條配向溝漕；于該配向膜表面形成一光阻層；進行一曝光暨顯影制程，于該配向膜表面形成復數(shù)個光阻間隙填充物以及一邊框，且該邊框包含有至少一灌液晶口；涂布框膠于該邊框以及各該光阻間隙填充物上；進行一壓合制程；進行一灌晶制程，使該背板與該透明導電層間之間隙充滿液晶；以及進行一封液晶口制程；本發(fā)明利用曝光暨顯影制程可同時形成復數(shù)個光阻間隙填充物以及一光阻邊框，可避免光阻間隙填充物發(fā)生傾倒或間隙塌陷的問題，進而提升產(chǎn)品的穩(wěn)定性并降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號G02F1/13GK1405608SQ0214169
公開日2003年3月26日 申請日期2002年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月19日
發(fā)明者洪慶龍, 韓宗立, 陳維孝 申請人:聯(lián)華電子股份有限公司