本發(fā)明涉及滌綸面料印花，更具體地說，本發(fā)明涉及一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝。

背景技術：

1、滌綸面料常規(guī)分散染料印花工藝流程：前處理預定形→印花→預烘→高溫高壓蒸化/高溫焙烘→水洗、還原清洗→拉幅烘干→整理/定形→成品，分散印料印花固色后清洗是洗去浮色、印花糊料和助劑等，改善印花產(chǎn)品的色澤和色牢度等。但水洗所產(chǎn)生的色水、污水、廢水都是印染企業(yè)較難又必須處理的工業(yè)廢水，否則直接造成污染生態(tài)，影響環(huán)境，破壞植被，危及污染地下水資源等。

2、印花機在使得液體分散染料對滌綸面料印花后，滌綸面料上的液體分散染料無法快速干燥和固化，會導致出現(xiàn)染料擴散、顏色模糊等問題，并且印花機印花裝置上的壓料輥在對滌綸面料進行撫平的過程中可能會導致分散染料與壓料輥接觸后脫落，從而對印花效果造成影響，降低印花品質(zhì)。

3、本發(fā)明提供一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，旨在解決滌綸面料上的液體分散染料無法快速干燥和固化，會導致出現(xiàn)染料擴散、顏色模糊，以及分散染料與壓料輥接觸后脫落，從而對印花效果造成影響，降低印花品質(zhì)的問題。

技術實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，以解決上述背景技術中提出的滌綸面料上的液體分散染料無法快速干燥和固化，會導致出現(xiàn)染料擴散、顏色模糊，以及分散染料與壓料輥接觸后脫落，從而對印花效果造成影響，降低印花品質(zhì)的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，包括以下步驟：

3、s1、對滌綸面料進行預處理；

4、s2、使用印花機將液體分散染料噴印到滌綸面料上；

5、s3、對印花后的滌綸面料進行烘干處理；

6、s4、對烘干處理后的滌綸面料進行定型處理；

7、s5、對定型處理后的滌綸面料進行整理和包裝。

8、優(yōu)選地，所述印花機包括機架、印花裝置和輸送裝置，還包括：固化裝置，所述固化裝置為兩組，對稱設置在所述印花裝置沿移動方向的兩側(cè)，用于配合所述印花裝置在印花過程中對印花后的滌綸面料進行吹氣。

9、優(yōu)選地，所述固化裝置包括與所述印花裝置外壁固定連接的安裝塊，所述安裝塊的底部轉(zhuǎn)動連接有壓料輥，所述安裝塊的兩側(cè)均固定連接有轉(zhuǎn)動腔，所述壓料輥轉(zhuǎn)軸的兩端均固定連接有轉(zhuǎn)盤，兩個所述轉(zhuǎn)盤分別轉(zhuǎn)動連接在兩個所述轉(zhuǎn)動腔內(nèi)，兩個所述轉(zhuǎn)盤與對應所述轉(zhuǎn)動腔均呈偏心設置。

10、優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)盤上開設有多個圓周等距分布的限位槽，每個所述限位槽內(nèi)均滑動連接有旋片，每個所述旋片與對應所述限位槽之間均連接有彈性件，每個所述旋片均能夠在對應所述彈性件的支撐作用下始終與所述轉(zhuǎn)動腔的內(nèi)部抵觸。

11、優(yōu)選地，所述安裝塊的內(nèi)部開設有集氣腔室，所述集氣腔室的頂部設置有連通腔室，所述集氣腔室的內(nèi)部滑動連接有活塞板，所述活塞板的頂部固定連接有滑動連接在所述連通腔室內(nèi)部密封滑塊，所述安裝塊的底部靠近所述印花裝置的一側(cè)開設有與所述集氣腔室相連通的噴氣槽。

12、優(yōu)選地，每個所述轉(zhuǎn)動腔的外壁均分別開設有進氣口與出氣孔，每個所述出氣孔均通過氣管與所述集氣腔室的內(nèi)部連通。

13、優(yōu)選地，所述安裝塊的頂部開設有與所述連通腔室相連通的連通孔，兩組所述固化裝置中的兩個所述連通孔通過外部管道相連通。

14、優(yōu)選地，當所述印花裝置移動對滌綸面料進行印花時，兩組所述固化裝置中的兩個所述壓料輥能夠與所述滌綸面料接觸，并同步跟隨所述印花裝置的移動進行轉(zhuǎn)動。

15、優(yōu)選地，當所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時，能夠帶動多個所述旋片沿對應所述轉(zhuǎn)動腔的內(nèi)壁滑動，并形成一個或多個可變?nèi)莘e的工作室。

16、優(yōu)選地，當所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動時，能夠通過進氣口將外部氣體抽入至所述轉(zhuǎn)動腔，并通過所述出氣孔與所述氣管將氣體輸送至所述集氣腔室內(nèi)。

17、本發(fā)明的技術效果和優(yōu)點：

18、本發(fā)明通過固化裝置的設置，當印花裝置左右移動對滌綸面料進行印花時，位于左側(cè)固化裝置中的活塞板會在對應集氣腔室內(nèi)向上移動進行集氣，位于右側(cè)固化裝置中的活塞板會在對應集氣腔室內(nèi)向下移動，使得右側(cè)集氣腔室內(nèi)的氣體通過對應噴氣槽向下排出，從而能夠在印花裝置進行左右移動印花時，兩組固化裝置能夠做到一組進行集氣另一組進行排氣，從而加快液體分散染料的固化，防止液體分散染料與壓料輥接觸后脫落，避免壓料輥對滌綸面料的印花效果造成影響，從而減少色差和滲化，提高印花圖案的清晰度和色彩的飽和度，提升印花品質(zhì)。

技術特征：

1.一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于，包括以下步驟：

2.根據(jù)權利要求1所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：所述印花機(1)包括機架(11)、印花裝置(2)和輸送裝置(3)，其特征在于，還包括：

3.根據(jù)權利要求2所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：所述固化裝置(4)包括與所述印花裝置(2)外壁固定連接的安裝塊(41)，所述安裝塊(41)的底部轉(zhuǎn)動連接有壓料輥(42)，所述安裝塊(41)的兩側(cè)均固定連接有轉(zhuǎn)動腔(43)，所述壓料輥(42)轉(zhuǎn)軸的兩端均固定連接有轉(zhuǎn)盤(44)，兩個所述轉(zhuǎn)盤(44)分別轉(zhuǎn)動連接在兩個所述轉(zhuǎn)動腔(43)內(nèi)，兩個所述轉(zhuǎn)盤(44)與對應所述轉(zhuǎn)動腔(43)均呈偏心設置。

4.根據(jù)權利要求3所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：所述轉(zhuǎn)盤(44)上開設有多個圓周等距分布的限位槽(45)，每個所述限位槽(45)內(nèi)均滑動連接有旋片(46)，每個所述旋片(46)與對應所述限位槽(45)之間均連接有彈性件(47)，每個所述旋片(46)均能夠在對應所述彈性件(47)的支撐作用下始終與所述轉(zhuǎn)動腔(43)的內(nèi)部抵觸。

5.根據(jù)權利要求4所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：所述安裝塊(41)的內(nèi)部開設有集氣腔室(48)，所述集氣腔室(48)的頂部設置有連通腔室(49)，所述集氣腔室(48)的內(nèi)部滑動連接有活塞板(410)，所述活塞板(410)的頂部固定連接有滑動連接在所述連通腔室(49)內(nèi)部密封滑塊(411)，所述安裝塊(41)的底部靠近所述印花裝置(2)的一側(cè)開設有與所述集氣腔室(48)相連通的噴氣槽(416)。

6.根據(jù)權利要求5所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：每個所述轉(zhuǎn)動腔(43)的外壁均分別開設有進氣口(412)與出氣孔(413)，每個所述出氣孔(413)均通過氣管(414)與所述集氣腔室(48)的內(nèi)部連通。

7.根據(jù)權利要求6所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：所述安裝塊(41)的頂部開設有與所述連通腔室(49)相連通的連通孔(415)，兩組所述固化裝置(4)中的兩個所述連通孔(415)通過外部管道相連通。

8.根據(jù)權利要求7所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：當所述印花裝置(2)移動對滌綸面料進行印花時，兩組所述固化裝置(4)中的兩個所述壓料輥(42)能夠與所述滌綸面料接觸，并同步跟隨所述印花裝置(2)的移動進行轉(zhuǎn)動。

9.根據(jù)權利要求8所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：當所述轉(zhuǎn)盤(44)轉(zhuǎn)動時，能夠帶動多個所述旋片(46)沿對應所述轉(zhuǎn)動腔(43)的內(nèi)壁滑動，并形成一個或多個可變?nèi)莘e的工作室。

10.根據(jù)權利要求9所述的滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，其特征在于：當所述轉(zhuǎn)盤(44)轉(zhuǎn)動時，能夠通過進氣口(412)將外部氣體抽入至所述轉(zhuǎn)動腔(43)，并通過所述出氣孔(413)與所述氣管(414)將氣體輸送至所述集氣腔室(48)內(nèi)。

技術總結(jié)
本發(fā)明公開了一種滌綸面料液體分散染料免洗印花工藝，具體涉及滌綸面料印花技術領域，包括以下步驟：S1、對滌綸面料進行預處理；S2、使用印花機將液體分散染料噴印到滌綸面料上；S3、對印花后的滌綸面料進行烘干處理；S4、對烘干處理后的滌綸面料進行定型處理；S5、對定型處理后的滌綸面料進行整理和包裝。本發(fā)明通過固化裝置的設置，能夠在印花裝置進行左右移動印花時，兩組固化裝置能夠做到一組進行集氣另一組進行排氣，從而加快液體分散染料的固化，防止液體分散染料與壓料輥接觸后脫落，避免壓料輥對滌綸面料的印花效果造成影響，從而減少色差和滲化，提高印花圖案的清晰度和色彩的飽和度，提升印花品質(zhì)。

技術研發(fā)人員：方渝超,石楊玲,趙濤,劉占鰲
受保護的技術使用者：諸暨華都國際紡織產(chǎn)業(yè)城集團有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/9