專利名稱：記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
作為調(diào)節(jié)基材(substrate)上具有墨接受層的記錄介質(zhì)的表面光澤度的方法，已知控制記錄介質(zhì)的表面粗糙度的方法。日本專利申請(qǐng)公開No. 2000-355160記載了表面的中心線平均粗糙度(高度)為0.8 4!11-4.(^111并且60°鏡面光澤度為10%-30%的記錄介質(zhì)。日本專利申請(qǐng)公開No. 2001-347748記載了表面的中心線平均粗糙度為0. 4 μ m-2. 5 μ m 并且10點(diǎn)平均粗糙度為中心線平均粗糙度的5倍-20倍的記錄介質(zhì)。這些記錄介質(zhì)通過控制記錄介質(zhì)的表面粗糙度來抑制記錄圖像中的光澤不均勻和由于表面光澤而引起的眩目。

發(fā)明內(nèi)容
在記錄介質(zhì)上記錄圖像，然后以它們的記錄表面彼此接觸的方式保存記錄介質(zhì)時(shí)，有時(shí)可能發(fā)生這樣的現(xiàn)象看起來似乎一個(gè)圖像的形狀發(fā)白地出現(xiàn)在另一圖像上(轉(zhuǎn)移不足(imdertrapping))。認(rèn)為這歸因于水或水溶性有機(jī)溶劑在接觸的記錄介質(zhì)之間移動(dòng)的事實(shí)。水或水溶性有機(jī)溶劑移動(dòng)時(shí)，在它們已移動(dòng)的部分與它們尚未移動(dòng)或幾乎未移動(dòng)的部分之間產(chǎn)生水或水溶性有機(jī)溶劑的存在量差。認(rèn)為這引起圖像上的轉(zhuǎn)移不足。存在另一問題，即由于記錄介質(zhì)之間的接觸和摩擦，在記錄介質(zhì)的最外表面上產(chǎn)生劃痕(scratch)，并且能夠視認(rèn)的劃痕損害記錄介質(zhì)的外觀。已對(duì)日本專利申請(qǐng)公開No. 2000-355160和2001-347748中記載的記錄介質(zhì)熱心地進(jìn)行了研究。結(jié)果，記錄介質(zhì)的表面粗糙度小時(shí)，彼此接觸時(shí)這樣的記錄介質(zhì)之間的粘合高，因此存在產(chǎn)生轉(zhuǎn)移不足的傾向。此外，記錄介質(zhì)的最外表面的光澤度高，并且存在清楚地看到劃痕的傾向。另一方面，為了解決這些問題而使記錄介質(zhì)的最外表面的表面粗糙度大時(shí)，有時(shí)墨可能聚集在記錄介質(zhì)的最外表面的凹凸形狀(unevenprofile)的凹部中以產(chǎn)生根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案(mottledpattern)。僅通過控制記錄介質(zhì)的中心線平均粗糙度和10點(diǎn)平均粗糙度，難以抑制該根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案。因此，本發(fā)明的目的在于提供記錄介質(zhì)，其能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生，降低記錄介質(zhì)的最外表面上劃痕的可見性并且抑制進(jìn)行記錄時(shí)斑點(diǎn)圖案的發(fā)生。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供記錄介質(zhì)，其包括基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由Jis B0601 2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度 (arithmetic average roughness) Ra為1· 1 μ m-2. 5 μ m,并且該記錄介質(zhì)的最夕卜表面的由 JIS B 0601 2001 規(guī)定的粗糙度曲線(roughness curve)的偏度(skewness)Rsk 為 0. 1 以下。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供記錄介質(zhì)，其能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生，降低記錄介質(zhì)的最外表面上劃痕的可見性并且抑制進(jìn)行記錄時(shí)斑點(diǎn)圖案的發(fā)生。
由以下對(duì)示例性實(shí)施方案的說明，本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得清楚。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案詳細(xì)說明。順便提及，本發(fā)明不應(yīng)解釋為限制于這些說明。記錄介質(zhì)根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)是具有基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層的記錄介質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)能夠用作，例如，用毯頭筆(felt-tip pen)進(jìn)行記錄的記錄介質(zhì)或者通過噴墨記錄方法進(jìn)行記錄的記錄介質(zhì)?？蓪⒛邮軐釉O(shè)置在基材的一個(gè)表面或兩個(gè)表面上。此外，可在基材上設(shè)置一個(gè)以上的墨接受層。根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B0601 :2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1. 1 μ m-2. 5 μ m。Ra為1. 1 μ m以上時(shí)，即使在其上記錄圖像后記錄介質(zhì)的最外表面彼此接觸，也能夠使記錄介質(zhì)的最外表面相互之間的接觸面積小。因此記錄介質(zhì)之間水或水溶性有機(jī)溶劑的移動(dòng)難以發(fā)生，由此能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生。Ra為1. 1 μ m 以上，由此能夠抑制記錄介質(zhì)的光澤度變得太高，因此能夠降低記錄介質(zhì)的最外表面上劃痕的可見性。從進(jìn)一步抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生并且進(jìn)一步降低最外表面上劃痕的可見性的觀點(diǎn)出發(fā)，Ra優(yōu)選為1.3μπι以上。另一方面，如果Ra大于2.5 μ m，即使改變隨后所述的 Rsk值，凹凸形狀的凹部的體積變得太大，因此將墨施涂于這樣的記錄介質(zhì)時(shí)有時(shí)可能產(chǎn)生根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案。特別是通過噴墨記錄進(jìn)行記錄時(shí)，由于以高速施涂墨，因此存在容易產(chǎn)生斑點(diǎn)圖案的傾向。因此，Ra為2.5μπι以下。記錄介質(zhì)的最外表面的Ra優(yōu)選為 2.0μπι以下。簡而言之，本發(fā)明中，記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B 0601 :2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為1.3μπι-2.0μπι。順便提及，本發(fā)明中記錄介質(zhì)的最外表面意指記錄介質(zhì)的表面中在其上施涂墨以進(jìn)行記錄的表面。例如，在基材的一個(gè)表面上具有一個(gè)墨接受層作為最外層的記錄介質(zhì)的情況下，該墨接受層的與基材側(cè)相反側(cè)的表面為記錄介質(zhì)的最外表面。在基材的每個(gè)表面上均具有墨接受層作為最外層的記錄介質(zhì)的情況下，每個(gè)墨接受層的與基材側(cè)相反側(cè)的表面為記錄介質(zhì)的最外表面。此外，根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS Β0601 :2001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度1以下。Ra為1. 1μπι-2. 5μπι并且Rsk為0. 1以下，由此能夠使凹凸形狀的凹部的體積足夠小。結(jié)果，能夠抑制將墨施涂于記錄介質(zhì)時(shí)產(chǎn)生根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案。Rsk表示表面粗糙度的高度方向上的特征。凹部大于凸部時(shí)，Rsk表示正值，凹部小于凸部時(shí)，Rsk表示負(fù)值。Rsk大于0. 1時(shí)，即使Ra在1. 1 μ m-2. 5 μ m的范圍內(nèi)，凹部的體積相當(dāng)大，因此容易產(chǎn)生根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案。為了使凹部的體積小以抑制斑點(diǎn)圖案的發(fā)生，Rsk優(yōu)選為0.0以下。從凹凸形狀形成的容易性的觀點(diǎn)出發(fā)，Rsk優(yōu)選為-1.5以上。從使凹部的體積較小的觀點(diǎn)出發(fā)，記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B0601 :2001規(guī)定的粗糙度曲線要素(roughness curve element)的平均長度RSm優(yōu)選為0. 65mm以下。 RSm表示表面粗糙度的橫向(水平方向)上的特征并且是表示凹部與凸部之間的間隔的值。 盡管其取決于垂直方向(高度方向)上的特征，但將RSm控制為0.65mm以下，由此能夠使凹部的體積較小。結(jié)果，能夠更令人滿意地抑制根據(jù)凹凸形狀的斑點(diǎn)圖案的發(fā)生。從使凹部的體積更小的觀點(diǎn)出發(fā)，RSm更優(yōu)選為0. 60mm以下。RSm優(yōu)選為0. IOmm以上。作為將記錄介質(zhì)的最外表面的Ra、Rsk和RSm控制在上述各范圍內(nèi)的方法，可提及下述方法。例如，將墨接受層設(shè)置為記錄介質(zhì)的最外層時(shí)，存在向墨接受層添加平均粒徑為 1 μ m-20 μ m的無機(jī)或有機(jī)顆粒的方法。此外，有雕刻微細(xì)凹凸的方法和在凹凸基材上設(shè)置墨接受層的方法。在凹凸基材上設(shè)置墨接受層的方法中，對(duì)基材的表面進(jìn)行凹凸壓花處理。 然后將墨接受層用涂布液施涂到該基材上以形成墨接受層，由此能夠在墨接受層的表面， 即記錄介質(zhì)的最外層上形成與基材的凹凸相同形狀的凹凸。特別是墨接受層由硬多孔膜形成時(shí)，該方法適合。這種情況下，優(yōu)選使用的基材是通過用樹脂涂布基料(basematerial) 而得到的樹脂涂布基材。特別優(yōu)選用聚烯烴樹脂涂布紙基料的兩個(gè)表面而得到的樹脂涂布基材。作為在聚烯烴樹脂表面上壓花形成凹凸的方法，有通過將熔融聚烯烴樹脂擠出來涂布基料，然后在壓力下使涂布表面與壓花輥接觸以向聚烯烴樹脂的表面施加微細(xì)凹凸的圖案的方法。作為進(jìn)行圖案化的方法，有例如下述兩種方法。一種方法是對(duì)通過熔融擠出而得到的樹脂涂布紙?jiān)诮咏覝氐臏囟认逻M(jìn)行壓花壓延(embossing calender)處理的方法。 另一種方法是在聚烯烴樹脂的擠出涂布時(shí)，用輥的表面雕刻有圖案的冷卻輥進(jìn)行冷卻，同時(shí)形成凹凸的方法。特別地，由于能夠在較低的壓力下進(jìn)行壓花，并且能夠進(jìn)行更準(zhǔn)確和更均勻的壓花，因此優(yōu)選后者的方法。墨接受層為多孔墨接受層時(shí)，墨接受層的涂布厚度容易大。因此，在墨接受層的表面上難以出現(xiàn)基材的表面的凹凸形狀。因此，在通過用墨接受層用涂布液對(duì)基材在其已預(yù)先設(shè)置了凹凸形狀的表面上進(jìn)行涂布而得到記錄介質(zhì)的情況下，優(yōu)選使基材的表面粗糙度大于墨接受層表面的表面粗糙度。具體地，基材表面的由Jis B 0601 :2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為1. 5 μ m以上，更優(yōu)選為1. 6 μ m以上?；谋砻娴乃阈g(shù)平均粗糙度Ra 優(yōu)選為6. 0 μ m以下，更優(yōu)選為3. 0 μ m以下。從墨吸收性和抑制開裂的觀點(diǎn)出發(fā)，墨接受層的涂布厚度優(yōu)選為30 μ m-45 μ m。墨接受層的涂布厚度為30 μ m以上時(shí)，能夠抑制開裂的發(fā)生。順便提及，本發(fā)明中的涂布厚度是絕對(duì)干燥時(shí)測(cè)定的厚度。本發(fā)明中，將記錄介質(zhì)形成為正方形，通過掃描電子顯微鏡對(duì)從每個(gè)角向四角形的重心方向離開Icm的部分的絕對(duì)干燥時(shí)的厚度進(jìn)行測(cè)定，并且將測(cè)定值的平均值視為涂布厚度。記錄介質(zhì)中由TAPPI T 529om-04規(guī)定的紙表面pH優(yōu)選為4. 3以上。將紙表面pH 控制為4. 3以上，由此能夠抑制bronzing的發(fā)生并且也能夠抑制由于bronzing的發(fā)生而引起的墨吸收性的降低。以下對(duì)根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)中使用的材料詳細(xì)說明?；淖鳛楸景l(fā)明的基材，可優(yōu)選使用紙例如鑄涂紙、鋇地紙或樹脂涂布紙(用樹脂例如聚烯烴涂布基料的樹脂涂布紙)。此外，可優(yōu)選使用由聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚乳酸、聚苯乙烯、聚醋酸酯、聚氯乙烯、醋酸纖維素、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯形成的透明熱塑性膜。除了上述以外，也可使用作為適度施膠紙的吸液紙或涂布紙， 或由通過填充無機(jī)材料或產(chǎn)生微細(xì)發(fā)泡而不透明化的膜形成的片狀材料(合成紙等)。此外，也可使用由玻璃或金屬形成的片材。此外，為了改善這樣的基材與其上形成的層之間的粘合強(qiáng)度，也可對(duì)這些基材的表面進(jìn)行電暈放電處理或各種底涂處理。上述基材中，從得到的記錄介質(zhì)的光澤感的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用樹脂涂布紙。墨接受層本發(fā)明的墨接受層優(yōu)選含有顏料和粘結(jié)劑。墨接受層可另外含有交聯(lián)劑、PH調(diào)節(jié)劑和各種添加劑?，F(xiàn)在對(duì)這些組分詳細(xì)說明。作為無機(jī)顏料，優(yōu)選白色顏料例如沉淀碳酸鈣、碳酸鎂、高嶺土、硫酸鋇、硅酸鋁、 硅酸鎂、合成無定形二氧化硅、膠體二氧化硅、濕式或干式硅溶膠或水合氧化鋁。這些無機(jī)顏料可單獨(dú)使用或者以它們的任意組合使用。這些中，從墨吸收性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選二氧化硅或水合氧化鋁。從抑制轉(zhuǎn)移不足發(fā)生的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選水合氧化鋁。另一方面，從降低得到的記錄介質(zhì)的最外表面上的劃痕的可見性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選氣相法二氧化硅。使用的粘結(jié)劑的優(yōu)選實(shí)例包括聚乙烯醇(PVA)、氧化淀粉、醚化淀粉、磷酸酯化淀粉、羧甲基纖維素、羥乙基纖維素、酪蛋白、明膠、大豆蛋白、聚乙烯基吡咯烷酮、馬來酸酐樹脂、共軛聚合物的膠乳例如苯乙烯-丁二烯共聚物和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物、丙烯酸系聚合物的膠乳例如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯聚合物、乙烯基聚合物的膠乳例如乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、蜜胺樹脂、脲醛樹脂、丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的聚合物或共聚物樹脂，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、 聚乙烯醇縮丁醛和醇酸樹脂。上述粘結(jié)劑可單獨(dú)使用或者以它們的任意組合使用。這些中， PVA是最優(yōu)選使用的粘結(jié)劑。PVA的實(shí)例包括通過將聚醋酸乙烯酯水解而得到的PVA。優(yōu)選粘均聚合度為1，500-5，000的PVA。其皂化度優(yōu)選為70-100。除了上述以外，也可使用改性PVA例如在其末端陽離子改性的PVA或具有陰離子基團(tuán)的陰離子改性PVA。墨接受層中顏料與粘結(jié)劑的含量比優(yōu)選為1 1 13 1，基于質(zhì)量。只要不損害本發(fā)明的效果，對(duì)交聯(lián)劑并無特別限制。但是，將PVA用作粘結(jié)劑時(shí)， 該交聯(lián)劑優(yōu)選能夠與PVA發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)以引起固化。特別地，優(yōu)選硼酸作為交聯(lián)劑。能夠使用的硼酸的實(shí)例除了原硼酸(H3BO3)以外，還包括偏硼酸和連二硼酸(hypoboric acid)。 但是，從得到的涂布液的長期穩(wěn)定性和抑制開裂發(fā)生的效果的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用原硼酸。使用的硼酸的量優(yōu)選在0.2當(dāng)量-1.2當(dāng)量的范圍內(nèi)，基于墨接受層中的PVA。關(guān)于術(shù)語“當(dāng)量”，將理論上與PVA的羥基完全反應(yīng)的交聯(lián)劑的量視為1. 0當(dāng)量。將交聯(lián)劑的量控制在上述范圍內(nèi)，由此能夠特別使墨接受層用涂布液的長期穩(wěn)定性改善。通常，形成墨接受層時(shí)，長時(shí)間使用涂布液。將涂布液中硼酸的含量控制在上述范圍內(nèi)，由此能夠優(yōu)異地防止涂布液的長時(shí)間使用過程中產(chǎn)生的涂布液的粘度增加和膠化物的發(fā)生。因此，可不需頻繁地進(jìn)行涂布液的更換或涂布機(jī)頭的清潔，以致能夠抑制記錄介質(zhì)的生產(chǎn)率的降低。此外，涂布液中硼酸的含量落在上述范圍內(nèi)時(shí)，能夠得到均勻且良好的表面。將使用墨接受層用涂布液涂布基材而形成的墨接受層用作墨接受層時(shí)，可適合在墨接受層用涂布液中添加下述酸中的任一種作為PH調(diào)節(jié)劑。酸的實(shí)例包括甲酸、乙酸、乙醇酸、草酸、丙酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、馬來酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、苯甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對(duì)苯二甲酸、戊二酸、葡糖酸、乳酸、天冬氨酸、谷氨酸、庚二酸、辛二酸、 甲磺酸，和無機(jī)酸例如鹽酸、硝酸和磷酸。例如，將水合氧化鋁用作無機(jī)顏料時(shí)，優(yōu)選將一元酸用于將水合氧化鋁分散在水中。因此，上述PH調(diào)節(jié)劑中，優(yōu)選使用有機(jī)酸例如甲酸、乙酸、乙醇酸或甲磺酸，或者無機(jī)酸例如鹽酸或硝酸。作為添加劑，在沒有大幅度改變墨接受層形成后的墨接受層表面相對(duì)于離子交換水的接觸角的范圍內(nèi)，可適宜地添加顏料分散劑和堅(jiān)牢度改進(jìn)劑。記錄介質(zhì)的制備方法根據(jù)以下方法制備根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)。首先，制備通過將無機(jī)顏料、粘結(jié)劑、 交聯(lián)劑、PH調(diào)節(jié)劑、各種添加劑和水混合而得到的墨接受層用涂布液。將該墨接受層用涂布液施涂于基材并且干燥以形成墨接受層，由此能夠制備根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)。順便提及，可適當(dāng)選擇使用墨接受層中使用的這些材料的種類和量以滿足本發(fā)明的要求。以下對(duì)墨接受層用涂布液的涂布方法進(jìn)行說明。使用例如各種簾式涂布機(jī)、使用擠出系統(tǒng)的涂布機(jī)和使用滑動(dòng)料斗系統(tǒng)的涂布機(jī)中的任一種，通過機(jī)內(nèi)(on-machine)或機(jī)外(off-machine)涂布來進(jìn)行墨接受層用涂布液的涂布以得到適當(dāng)?shù)耐坎剂?。涂布時(shí)， 為了調(diào)節(jié)涂布液的粘度，可將涂布液加熱或者可將涂布機(jī)頭加熱。例如，可將熱風(fēng)干燥機(jī)例如直線隧道式干燥機(jī)(linear tunnel dryer)、拱式干燥機(jī)(arch dryer)、空氣套網(wǎng)干燥機(jī) (air loop dryer)或lE弓玄曲線氣浮干(sine curve air float dryer)用于@布后的涂布液的干燥。也可使用紅外線加熱干燥機(jī)或者利用微波的干燥機(jī)以下通過下述實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明詳細(xì)說明。但是，本發(fā)明的內(nèi)容并不限于這些實(shí)施例。順便提及，除非明確說明，“份”或“份”和“ ％，，基于質(zhì)量。表面粗糙度的測(cè)定方法通過以下測(cè)定裝置在以下測(cè)定條件下對(duì)算術(shù)平均粗糙度Ra、粗糙度曲線的偏度 Rsk和粗糙度曲線要素的平均長度RSm進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定裝置SurfcorderSE3500 (由 Kosaka Laboratory, Ltd.制造)測(cè)定條件根據(jù)JIS B 0601 :2001設(shè)定截止(cutoff)值并且以截止值5倍的長度作為評(píng)價(jià)長度進(jìn)行評(píng)價(jià)，從而進(jìn)行測(cè)定?；牡闹苽鋵?0份沉淀碳酸鈣添加到100份LaiAholz漂白牛皮漿的漿料中，添加2. 0份陽離子化淀粉和0. 3份烯基琥珀酸酐中性施膠劑，并且將這些組分充分混合以制備紙料。通過Rmrdrinier多圓筒抄紙機(jī)將該紙料干燥到10%的水含量，并且通過施膠壓榨機(jī)將7% 的氧化淀粉溶液施涂于干燥產(chǎn)物的兩側(cè)以形成4g/m2的合計(jì)涂布量。將這樣涂布的產(chǎn)物進(jìn)一步干燥到7%的水含量以制備定量為110g/m2的基紙。通過熔融擠出將由70份低密度聚乙烯和20份高密度聚乙烯組成的樹脂組合物以一側(cè)30g/m2的量施涂于基紙的兩側(cè)。施涂后，立即使用在它們的表面上具有彼此不同的不規(guī)則形狀的凹凸的冷卻輥，在進(jìn)行冷卻的同時(shí)對(duì)聚乙烯表面進(jìn)行十次壓花處理。通過調(diào)節(jié)冷卻輥中凹部與凸部之間的寬度和高度來產(chǎn)生壓花處理中的不同。以這種方式，制備定量均為170g/m2的基材A-K。將各基材的Ra、 Rsk和RSm示于表1中。順便提及，基材的兩表面均具有表1中所示的值。表權(quán)利要求
1.記錄介質(zhì)，包括基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B 0601 2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1. 1 μ m-2. 5 μ m,并且該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B 0601 2001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度Rsk為0. 1以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JISB 0601 2001規(guī)定的粗糙度曲線要素的平均長度RSm為0. 65mm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該基材為通過用樹脂涂布基料而得到的樹脂涂布基材。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JISB 0601 2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1. 3 μ m-2. 0 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JISB 0601 2001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度Rsk為0. 0以下。
全文摘要
本發(fā)明提供記錄介質(zhì)，其能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生、降低記錄介質(zhì)的最外表面上的劃痕的可見性并且抑制進(jìn)行記錄時(shí)斑點(diǎn)圖案的發(fā)生。該記錄介質(zhì)具有基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B 06012001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.1μm-2.5μm，并且該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS B 06012001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度Rsk為0.1以下。
文檔編號(hào)B41M5/50GK102267301SQ201110143
公開日2011年12月7日 申請(qǐng)日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月4日
發(fā)明者永島齊, 淺尾昌也, 淺川浩, 田中考利 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社