記錄介質(zhì)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種記錄介質(zhì)。一種記錄介質(zhì)，其具有基材和墨接收層，其中所述墨接收層含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥基羧酸，并且包含于所述墨接收層中的所述膠體二氧化硅的90％以上存在于距離所述記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向0nm以上且300nm以下的區(qū)域。
【專(zhuān)利說(shuō)明】記錄介質(zhì)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種記錄介質(zhì)。

【背景技術(shù)】
[0002] 作為用于噴墨記錄方法等的記錄介質(zhì)，已知在基材上具有含有無(wú)機(jī)顆粒的多孔性 墨接收層的記錄介質(zhì)。在這樣的多孔性墨接收層中，當(dāng)空隙數(shù)大時(shí)，墨接收層的折射率低。 因此，存在墨接收層的表面上反射率降低，因此記錄介質(zhì)的光澤性降低的傾向。然后，作為 改善記錄介質(zhì)的光澤性的方法，已知將含有膠體二氧化硅的光澤層設(shè)置在記錄介質(zhì)的最外 表面上的方法。記錄介質(zhì)的光澤性改善作為記錄介質(zhì)含有膠體二氧化硅的結(jié)果的原因如 下。與其它無(wú)機(jī)顆粒相比，當(dāng)形成墨接收層時(shí)，膠體二氧化硅可能采取其中將膠體二氧化硅 密集地堆積（pack)的構(gòu)造。因此，因?yàn)閷?dǎo)致光澤性的降低的空隙數(shù)降低，光澤性變高。日本 專(zhuān)利特開(kāi)No. 2007-152777記載了一種具有含有膠體二氧化硅的光澤賦予層的記錄介質(zhì)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 根據(jù)本發(fā)明方面的記錄介質(zhì)具有基材和墨接收層，其中墨接收層含有膠體二氧化 硅、鋯化合物、銨鹽和羥基羧酸，并且包含于墨接收層中的膠體二氧化硅的90%以上存在于 距離所述記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下的區(qū)域。
[0004] 本發(fā)明進(jìn)一步特征將參考附圖從以下的示例性實(shí)施方案的描述變得明顯。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0005] 圖1是解釋計(jì)算存在于距離記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以 下的區(qū)域中的膠體二氧化硅的存在比率的方法的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0006] 根據(jù)本發(fā)明人的研究，在日本專(zhuān)利特開(kāi)No. 2007-152777記載的記錄介質(zhì)中，雖然 已經(jīng)改善了光澤性，但是在一些情況下耐擦拭性低。
[0007] 因此，本發(fā)明提供了一種光澤性和耐擦拭性?xún)?yōu)異的記錄介質(zhì)。
[0008] 下文中，參考優(yōu)選的實(shí)施方案詳細(xì)地描述本發(fā)明。
[0009] 本發(fā)明人首先研究了導(dǎo)致具有含有膠體二氧化硅的墨接收層的記錄介質(zhì)的耐擦 拭性下降的原因。結(jié)果，本發(fā)明人得到了結(jié)論：由膠體二氧化硅形成的空隙由于外部應(yīng)力被 容易地壓碎。然而，含有膠體二氧化硅的墨接收層通過(guò)將墨吸入空隙而顯示出高的墨吸收 性，因此不能消除空隙。然后，本發(fā)明人研究了提高墨接收層本身的強(qiáng)度而不消除墨接收層 的空隙的方法。
[0010] 作為本發(fā)明人進(jìn)行研究的結(jié)果，本發(fā)明人已經(jīng)研發(fā)了一種將鋯化合物的銨鹽和羥 基羧酸與膠體二氧化硅一起用于墨接收層的方法。當(dāng)膠體二氧化硅變成堿性時(shí)，膠體二氧 化硅具有變成部分地水解的性能。認(rèn)為，因?yàn)殇喕衔锏匿@鹽是堿性，將膠體二氧化硅的表 面借助鋯化合物的銨鹽而被部分地水解同時(shí)膠體二氧化硅被強(qiáng)烈地結(jié)合至鋯化合物。在該 情況下，認(rèn)為由于羥基羧酸存在的事實(shí)而將反應(yīng)性適度地控制，并且鋯化合物和膠體二氧 化硅的結(jié)合力進(jìn)一步增加。在已經(jīng)形成墨接收層后，鋯化合物的銨鹽以鋯化合物和銨鹽的 形式存在。更具體地說(shuō)，本發(fā)明的記錄介質(zhì)具有含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥基 羧酸的墨接收層。
[0011] 另外，本發(fā)明人已經(jīng)研究了增加記錄介質(zhì)的光澤性的方法，其是最初地使用膠體 二氧化硅的目的，然后已經(jīng)發(fā)現(xiàn)要求包含于墨接收層中的膠體二氧化硅的90%以上存在于 距離記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下的區(qū)域。
[0012] 如在以上描述的機(jī)理中，因?yàn)楦饕匾詤f(xié)同的方式互相影響，所以可以達(dá)到本發(fā) 明的效果。
[0013] 記錄介質(zhì)
[0014] 本發(fā)明的記錄介質(zhì)具有基材和墨接收層。在本發(fā)明中，可以將所述記錄介質(zhì)優(yōu)選 地用作用于噴墨記錄方法的噴墨記錄介質(zhì)。
[0015] 在本發(fā)明中，記錄介質(zhì)表面的由JIS B 0601:2001規(guī)定的算數(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選 是I. 0 μ m以下，更優(yōu)選地0. 5 μ m以下，并且特別優(yōu)選地0. 2 μ m以下。使用樹(shù)脂涂布的基 材來(lái)調(diào)節(jié)記錄介質(zhì)的表面粗糙度的方法的實(shí)例包括將具有特定的凹凸的輥或光滑的輥壓 向樹(shù)脂涂布的基材的表面，然后將墨接收層用涂布液施涂至表面的方法；和將具有特定的 凹凸的輥或光滑的輥壓向記錄介質(zhì)的表面的方法等。
[0016] 下文中，描述了構(gòu)成本發(fā)明記錄介質(zhì)的各組分。
[0017] 基材
[0018] 可以用于基材的材料的實(shí)例包括紙、膜、玻璃和金屬等。在以上中，優(yōu)選地使用含 有紙的基材，也就是，所謂的原紙。
[0019] 當(dāng)使用原紙時(shí)，可以將原紙作為基材使用或可以將其中用樹(shù)脂層覆蓋原紙的基材 用作所述基材。在本發(fā)明中，優(yōu)選地使用具有原紙和樹(shù)脂層的基材。在該情況下，可以將樹(shù) 脂層只設(shè)置在原紙的一面上，但是優(yōu)選地設(shè)置在其兩面上。
[0020] 基材的膜厚度優(yōu)選是25 μ m以上且500 μ m以下，并且更優(yōu)選地50 μ m以上且 300 μ m以下。
[0021] 原紙
[0022] 原紙使用木漿作為主要材料，并且按需要，添加合成漿例如聚丙烯，和合成纖維例 如尼龍或聚酯來(lái)制成。木漿的實(shí)例包括闊葉漂白牛皮紙漿（LBKP)、闊葉漂白亞硫酸鹽紙漿、 針葉漂白牛皮紙漿（NBKP)、針葉漂白亞硫酸鹽紙漿（NBSP)、闊葉溶解紙漿（LDP)、針葉溶解 紙漿（NDP)、闊葉未漂白牛皮紙漿（LUKP)和針葉未漂白牛皮紙漿（NUKP)等。按需要可以使 用其一種或兩種以上。在木漿中，優(yōu)選地使用以高比例含有短纖維組分的LBKP、NBSP、LBSP、 NDP和LDP。作為紙漿，具有極少雜質(zhì)的化學(xué)紙漿（硫酸鹽紙漿和亞硫酸鹽紙漿）是優(yōu)選的。 此外，通過(guò)進(jìn)行漂白處理而改善其白度的紙漿也是優(yōu)選的?？梢詫⑹┠z劑、白色顏料、紙?jiān)?強(qiáng)劑、熒光增白劑、水分保持劑、分散劑和軟化劑等酌情添加至原紙中。
[0023] 在本發(fā)明中，原紙的膜厚度優(yōu)選是50 μ m以上且500 μ m以下并且更優(yōu)選地90 μ m 以上且300μπι以下。在本發(fā)明中，將原紙的膜厚度通過(guò)以下的方法計(jì)算。首先，將記錄介 質(zhì)的截面通過(guò)使用切片機(jī)切出，然后將該截面在掃描電子顯微鏡下觀察。然后，測(cè)量原紙的 任選的100個(gè)以上的點(diǎn)的膜厚度，并且將平均值定義為原紙的膜厚度。還通過(guò)相似的方法 計(jì)算本發(fā)明中其它層的膜厚度。
[0024] 在本發(fā)明中，原紙的由JIS P 8118規(guī)定的紙密度優(yōu)選是0.6g/cm3以上且1.2g/cm3 以下。另外，紙密度更優(yōu)選是0. 7g/cm3以上且I. 2g/cm3以下。
[0025] 樹(shù)脂層
[0026] 在本發(fā)明中，當(dāng)原紙覆蓋有樹(shù)脂時(shí)，可以將樹(shù)脂層以部分地覆蓋原紙表面這樣的 方式來(lái)設(shè)置。另外，樹(shù)脂層的覆蓋率（覆蓋有樹(shù)脂層的原紙表面的面積/原紙表面的總面 積）優(yōu)選是70 %以上，更優(yōu)選地90 %以上，并且特別優(yōu)選地100 %，也就是，將原紙表面的全 部表面用樹(shù)脂層覆蓋。
[0027] 此外，在本發(fā)明中，樹(shù)脂層的膜厚度優(yōu)選是20 μ m以上且60 μ m以下并且更優(yōu)選地 35 μ m以上且50 μ m以下。當(dāng)將樹(shù)脂層設(shè)置在原紙的兩面上時(shí)，優(yōu)選的是對(duì)于在兩面上的每 一個(gè)樹(shù)脂層的膜厚度來(lái)說(shuō)滿(mǎn)足以上范圍。
[0028] 此外，樹(shù)脂層的由JIS Z 8741規(guī)定的60°鏡面光澤度優(yōu)選是25%以上且75%以 下。另外，樹(shù)脂層的由JIS B 0601:2001規(guī)定的十點(diǎn)平均粗糙度優(yōu)選是0.5μπι以下。
[0029] 作為用于所述樹(shù)脂層的樹(shù)脂，熱塑性樹(shù)脂是優(yōu)選的。熱塑性樹(shù)脂的實(shí)例包括丙烯 酸類(lèi)樹(shù)脂、丙烯酸類(lèi)硅酮樹(shù)脂、聚烯烴類(lèi)樹(shù)脂和苯乙烯-丁二烯共聚物等。在以上中，優(yōu)選 地使用聚烯烴類(lèi)樹(shù)脂。在本發(fā)明中，聚烯烴類(lèi)樹(shù)脂是含有烯烴作為單體的聚合物。特別地， 提及例如乙烯、丙烯和異丁烯等的均聚物和共聚物。作為聚烯烴類(lèi)樹(shù)脂，按需要可以使用其 一種或兩種以上。在以上中，優(yōu)選地使用聚乙烯。作為聚乙烯，優(yōu)選地使用低密度聚乙烯 (LDPE)和高密度聚乙烯（HDPE)。
[0030] 在本發(fā)明中，為了調(diào)節(jié)不透明度、白度和色相，樹(shù)脂層可以含有白色顏料、熒光增 白劑和群青等。在以上中，因?yàn)榭梢愿纳撇煌该鞫?，?yōu)選地使用白色顏料。白色顏料的實(shí) 例包括金紅石型氧化鈦或銳鈦型氧化鈦。在本發(fā)明中，樹(shù)脂層中的白色顏料的含量?jī)?yōu)選是 3g/m 2以上且30g/m2以下。當(dāng)將樹(shù)脂層設(shè)置在原紙的兩面上時(shí)，優(yōu)選的是兩層樹(shù)脂層中的 白色顏料的總含量滿(mǎn)足以上范圍。基于樹(shù)脂的含量，樹(shù)脂層中的白色顏料的含量?jī)?yōu)選是25 質(zhì)量％以下。當(dāng)白色顏料的含量大于25質(zhì)量％時(shí)，在一些情況下不足以獲得白色顏料的分 散穩(wěn)定性。
[0031] 墨接收層
[0032] 本發(fā)明的記錄介質(zhì)具有含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥基羧酸的墨接收 層。在本發(fā)明中，含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥基羧酸的墨接收層優(yōu)選是在記錄 介質(zhì)的最外表面上的墨接收層。墨接收層可以是單層或者含有兩層以上的多層。可以將墨 接收層只設(shè)置在基材的一面上或者可以設(shè)置在基材的兩面上。在本發(fā)明中，將墨接收層優(yōu) 選地設(shè)置在兩面上。在基材的一面上的墨接收層的膜厚度優(yōu)選是10 μ m以上且60 μ m以下 并且更優(yōu)選地15 μ m以上且45 μ m以下。
[0033] 在本發(fā)明中，從墨吸收性的觀點(diǎn)，墨接收層的空隙率優(yōu)選是30%以上并且更優(yōu)選 地40%以上。如以上描述，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)墨接收層本身強(qiáng)度的增加而不消除墨接收層的空隙 并且通過(guò)滿(mǎn)足本發(fā)明的構(gòu)造而滿(mǎn)足30%以上的空隙率。墨接收層的空隙率通過(guò)將墨接收層 每單位面積的總孔容積除以墨接收層每單位面積的體積來(lái)計(jì)算。墨接收層每單位面積的體 積根據(jù)墨接收層的膜厚度和面積來(lái)測(cè)定。墨接收層的總孔容積通過(guò)借助于氮?dú)馕?脫附 方法測(cè)量記錄介質(zhì)的氮?dú)馕?脫附等溫線(xiàn)使用BJH(Barrett-Joyner-Halenda)方法來(lái)測(cè) 定。墨接收層的平均孔半徑優(yōu)選是5nm以上且20nm以下。墨接收層的平均孔半徑從墨接 收層的總孔容積和比表面積來(lái)測(cè)定。
[0034] 膠體二氧化硅
[0035] 在本發(fā)明中，膠體二氧化硅的平均一次粒徑優(yōu)選是IOnm以上且120nm以下。平均 一次粒徑更優(yōu)選是20nm以上且IOOnm以下。當(dāng)平均一次粒徑小于20nm時(shí)，在一些情況下 不足以獲得墨吸收性。當(dāng)平均一次粒徑大于IOOnm時(shí)，在一些情況下不足以獲得耐擦拭性 的改善效果。在本發(fā)明中，膠體二氧化硅的平均一次粒徑是當(dāng)在電子顯微鏡下觀察時(shí)具有 與膠體二氧化硅一次顆粒的投影面積相等的面積的圓的直徑的數(shù)均粒徑。同時(shí)，在至少100 個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量。
[0036] 在本發(fā)明中，在膠體二氧化硅中，球狀膠體二氧化硅是優(yōu)選的，這是因?yàn)槟筒潦眯?和光澤性增加。此處使用的"球狀"是指其中當(dāng)在掃描電子顯微鏡下觀察時(shí)，膠體二氧化硅 (50個(gè)以上且100個(gè)以下）的平均長(zhǎng)徑a與平均短徑b的比b/a落在0.80以上且1.00以下 的范圍中的形狀。b/a更優(yōu)選是0. 90以上且1. 00以下并且特別優(yōu)選地0. 95以上且1. 00以 下。具體地，市售的膠體二氧化娃的實(shí)例包括Quotron :PL-3、PL_3L(全部由Fuso Chemical Co. ,Ltd.制造）；和 Snowtex:20、20L、ZL、AK、AK_L(全部由 Nissan Chemical Industries 制造）等。
[0037] 從耐擦拭性的觀點(diǎn)，墨接收層中的膠體二氧化硅的含量?jī)?yōu)選是0. 01g/m2以上并且 更優(yōu)選地0. 02g/m2以上。從墨吸收性的觀點(diǎn)，膠體二氧化硅的含量?jī)?yōu)選是0. 5g/m2以下并 且更優(yōu)選地0. lg/m2以下。墨接收層中的膠體二氧化硅的含量特別優(yōu)選是0. 02g/m2以上且 0. lg/m2 以下。
[0038] 在本發(fā)明中，要求包含于墨接收層中的膠體二氧化硅的90%以上存在于距離記錄 介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下的區(qū)域。另外，優(yōu)選的是包含于墨接收 層中的膠體二氧化硅的90%以上存在于距離記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且 IOOnm以下的區(qū)域。在本發(fā)明的實(shí)施例中，通過(guò)以下方法計(jì)算膠體二氧化硅沿深度方向的存 在比率。
[0039] 將記錄介質(zhì)的截面通過(guò)使用切片機(jī)切出，然后使用掃描電子顯微鏡 SU-70 (Hitachi High-Technologies Corporation 制造）在 30, 000 倍放大倍率下觀察。然 后，觀察在（距離墨接收層的最外表面沿深度方向2 μ m) X (沿深度方向的垂直方向3 μ m) 范圍內(nèi)的視野。當(dāng)參考附圖描述時(shí)，觀察在墨接收層中由虛線(xiàn)包圍的范圍（附圖的陰影線(xiàn) 部分）內(nèi)的視野。在該情況下，在由虛線(xiàn)包圍的范圍中的X是2μπι并且在該范圍中的Y是 3 μ m。然后，計(jì)數(shù)存在于視野中的全部膠體二氧化硅的個(gè)數(shù)A (也就是，存在于距離最外表 面沿深度方向〇 μ m以上且2 μ m以下的區(qū)域中的膠體二氧化硅的個(gè)數(shù)A)。隨后，計(jì)數(shù)視野 內(nèi)存在于距離最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下（或者Onm以上且IOOnm以下） 的區(qū)域中的膠體二氧化硅的個(gè)數(shù)B。在該情況下，將部分地隱藏在其它膠體二氧化硅后的膠 體二氧化硅和部分地在觀察區(qū)域的邊緣以外的膠體二氧化硅也計(jì)數(shù)為"一個(gè)顆粒"。通過(guò)計(jì) 算B/AX 100,計(jì)算存在于距離最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下（或者Onm以上 且IOOnm以下）的區(qū)域中的膠體二氧化硅的存在比率。
[0040] 除了膠體二氧化硅以外的無(wú)機(jī)顆粒
[0041] 在本發(fā)明中，墨接收層可以含有除了所述膠體二氧化硅以外的無(wú)機(jī)顆粒（下文中 也簡(jiǎn)單地被稱(chēng)為"無(wú)機(jī)顆粒"）。無(wú)機(jī)顆粒的平均一次粒徑優(yōu)選是Inm以上。另外，無(wú)機(jī)顆 粒的平均一次粒徑更優(yōu)選是1 μ m以下。此外，無(wú)機(jī)顆粒的平均一次粒徑更優(yōu)選地30nm以 下并且特別優(yōu)選地3nm以上且IOnm以下。在本發(fā)明中，無(wú)機(jī)顆粒的平均一次粒徑是當(dāng)在電 子顯微鏡下觀察時(shí)，從具有與無(wú)機(jī)顆粒一次顆粒的投影面積相等的面積的圓的直徑而確定 的數(shù)均粒徑。在該情況下，在至少100個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量。
[0042] 在本發(fā)明中，將無(wú)機(jī)顆粒以通過(guò)分散劑分散無(wú)機(jī)顆粒的狀態(tài)優(yōu)選地用于墨接收層 用涂布液。在分散狀態(tài)下的無(wú)機(jī)顆粒的平均二次粒徑優(yōu)選是IOnm以上且500nm以下，更優(yōu) 選地30nm以上且300nm以下，并且特別優(yōu)選地50nm以上且250nm以下?？梢酝ㄟ^(guò)動(dòng)態(tài)光 散射方法測(cè)量在分散狀態(tài)下的無(wú)機(jī)顆粒的平均二次粒徑。
[0043] 在本發(fā)明中，當(dāng)形成墨接收層時(shí)要施涂的含有膠體二氧化硅的全部無(wú)機(jī)顆粒的涂 布量（g/m2)優(yōu)選是15g/m2以上且45g/m2以下。
[0044] 用于本發(fā)明的除了膠體二氧化硅以外的無(wú)機(jī)顆粒的實(shí)例包括，例如，氧化鋁水合 物、氧化鋁、二氧化硅、二氧化鈦、沸石、高嶺土、滑石、水滑石、氧化鋅、氫氧化鋅、硅酸鋁、硅 酸鈣、硅酸鎂和氫氧化鋯等?？梢园葱枰褂靡环N或兩種以上的這些無(wú)機(jī)顆粒。在無(wú)機(jī)顆 粒中，優(yōu)選地使用具有高的墨吸收性的能夠形成多孔結(jié)構(gòu)的氧化鋁水合物、氣相法氧化鋁 顆粒和氣相法二氧化硅。特別地，從耐擦拭性的觀點(diǎn)，優(yōu)選的是使用氣相法二氧化硅。這被 認(rèn)為是因?yàn)榕c含有氧化鋁水合物和氣相法氧化鋁顆粒的墨接收層相比，含有氣相法二氧化 硅的墨接收層具有較高的彈性。下面描述這些無(wú)機(jī)顆粒。
[0045] 對(duì)于墨接收層，可以?xún)?yōu)選地使用由通式（X) :Al203_n(OH)2n · HiH2O表示的氧化鋁水 合物（在通式（X)中，η是〇、1、2或3,并且m是0以上且10以下并且優(yōu)選地0以上且5以 下。m和η不同時(shí)為0。）。
[0046] 因?yàn)镠iH2O表示不參與晶格形成的并且可以在很多情況下脫離的水相，m可以不是 整數(shù)。當(dāng)加熱氧化鋁水合物時(shí)，m可以是0。
[0047] 在本發(fā)明中，可以將氧化鋁水合物通過(guò)已知的方法來(lái)制造。具體地，所述方法的實(shí) 例包括水解烷醇鋁的方法、水解鋁酸鈉的方法以及將硫酸鋁和氯化鋁的水溶液添加至鋁酸 鈉的水溶液以中和的方法等。
[0048] 作為氧化鋁水合物的晶體結(jié)構(gòu)，根據(jù)熱處理溫度已知無(wú)定形型、三水鋁石型和勃 姆石型。氧化鋁水合物的晶體結(jié)構(gòu)可以通過(guò)X射線(xiàn)衍射方法來(lái)分析。在本發(fā)明中，在以上 中優(yōu)選地使用勃姆石型氧化鋁水合物或無(wú)定形氧化鋁水合物。作為特定的實(shí)例，可以提及 日本專(zhuān)利特開(kāi)No. 7-232473、No. 8-132731、No. 9-66664和No. 9-76628等中描述的氧化鋁水 合物和作為市售商品的Disperal HP14和HP18(全部由Sasol制造）等。按需要可以使用 一種或兩種以上的這些氧化鋁水合物。
[0049] 在本發(fā)明中，氧化鋁水合物的由BET方法測(cè)定的比表面積優(yōu)選是IOOmVg以上且 200m 2/g以下并且更優(yōu)選地125m2/g以上且175m2/g以下。此處，BET方法是將已知其尺寸 的分子和離子吸附至樣品表面，然后從吸附量測(cè)量樣品的比表面積的方法。在本發(fā)明中，使 用氮?dú)庾鳛槲街翗悠返臍怏w。
[0050] 氧化鋁水合物的平均一次粒徑優(yōu)選是5nm以上并且更優(yōu)選地IOnm以上。平均一 次粒徑優(yōu)選是50nm以下并且更優(yōu)選地30nm以下。
[0051] 作為用于墨接收層的氣相法氧化鋁顆粒，可以使用Y-氧化鋁、α-氧化鋁、δ-氧 化鋁、Θ-氧化鋁和X-氧化鋁等。在以上中，從圖像的光學(xué)濃度和墨吸收性的觀點(diǎn)，優(yōu)選地 使用Y-氧化鋁。作為氣相法氧化鋁顆粒的特定實(shí)例，可以提及AER0XIDE;A1u C、Alul30 和 Alu65(全部由 EVONIK Industries A. G.制造）等。
[0052] 在本發(fā)明中，氣相法氧化鋁顆粒的由BET方法測(cè)定的比表面積優(yōu)選是50m2/g以上 并且更優(yōu)選地80m 2/g以上。比表面積優(yōu)選是150m2/g以下并且更優(yōu)選地120m2/g以下。
[0053] 氣相法氧化鋁顆粒的平均一次粒徑優(yōu)選是5nm以上并且更優(yōu)選地Ilnm以上。平 均一次粒徑優(yōu)選是30nm以下并且更優(yōu)選地15nm以下。
[0054] 優(yōu)選地混合用于本發(fā)明的氧化鋁水合物和氣相法氧化鋁顆粒與墨接收層用涂布 液作為水分散液并且優(yōu)選地使用酸作為其分散劑。作為所述酸，優(yōu)選地使用由
[0055] 通式（Y) =R-SO3H
[0056] 表示的磺酸，這是因?yàn)楂@得抑制圖像滲開(kāi)的效果（在通式（Y)中，R表示氫原子、 其中碳原子數(shù)是1個(gè)以上且4個(gè)以下的烷基和其中碳原子數(shù)是1個(gè)以上且4個(gè)以下的烯基 中的任何一種。可以用氧基、鹵素原子、烷氧基和?；〈鶵。）。
[0057] 在本發(fā)明中，基于氧化鋁水合物和氣相法氧化鋁顆粒的總含量，所述酸的含量?jī)?yōu) 選是I. 0質(zhì)量％以上且2. 0質(zhì)量％以下并且更優(yōu)選地1. 3質(zhì)量％以上且1. 6質(zhì)量％以下。
[0058] 根據(jù)其制造方法，將用于墨接收層的二氧化硅大致分為濕法型和干法型（氣相 法）。作為濕法，已知包括通過(guò)硅酸鹽的酸分解生成活化的二氧化硅，適度地聚合其然后聚 集和沉淀其從而獲得水合二氧化硅的方法。另一方面，作為干法（氣相法），已知通過(guò)鹵化 硅的高溫氣相水解（火焰水解法）、或通過(guò)借助于電爐中電弧的硅砂和焦炭的熱還原-蒸 發(fā)然后使用空氣氧化所得的物質(zhì)（電弧法）來(lái)獲得無(wú)水二氧化硅的方法。在本發(fā)明中，優(yōu) 選地使用通過(guò)干法（氣相法）獲得的二氧化硅（下文中也被稱(chēng)為"氣相法二氧化硅"）。這 是因?yàn)闅庀喾ǘ趸杈哂刑貏e地大的比表面積，因此墨吸收性特別地高而折射率低，因 此可以將透明性賦予墨接收層并且獲得良好的顯色性。氣相法二氧化硅的特定實(shí)例包括 Aerosil (Nippon Aerosil Co. , Ltd.制造）和 Reolosil QS 型（Tokuyama Corporation 制 造）。
[0059] 在本發(fā)明中，氣相法二氧化硅的由BET法測(cè)定的比表面積優(yōu)選是50m2/g以上且 400m 2/g以下并且更優(yōu)選地200m2/g以上且350m2/g以下。
[0060] 在本發(fā)明中，將氣相法二氧化硅以將氣相法二氧化硅通過(guò)分散劑分散的狀態(tài)優(yōu)選 地用于墨接收層用涂布液。在分散狀態(tài)下的氣相法二氧化硅的粒徑優(yōu)選是500nm以下并且 更優(yōu)選地200nm以下。其粒徑更優(yōu)選是30nm以上。可以通過(guò)動(dòng)態(tài)光散射方法測(cè)量在分散 狀態(tài)下的氣相法二氧化硅的粒徑。
[0061] 鋯化合物
[0062] 從耐擦拭性的觀點(diǎn)，墨接收層中的鋯化合物的含量?jī)?yōu)選是0. 2mmol/m2以上并且 更優(yōu)選地〇.4mmol/m2以上。從要獲得的圖像的顯色性的觀點(diǎn)，鋯化合物的含量?jī)?yōu)選是 1.2mmol/m 2以下并且更優(yōu)選地0. 8mmol/m2以下。墨接收層中的锫化合物的含量特別優(yōu)選 是 0. 4mmoI /m2 以上且 0. 8mmol/m2 以下。
[0063] 在本發(fā)明中，鋯化合物的實(shí)例包括醋酸氧鋯、氯氧化鋯、碳酸鋯銨和氫氧化氧氯化 鋯等。可以按需要使用其一種或兩種以上。在以上中，優(yōu)選地使用碳酸鋯銨。
[0064] 銨鹽
[0065] 在本發(fā)明中，銨鹽也包括有機(jī)銨鹽。銨鹽的特定實(shí)例包括例如氨、甲胺、二甲胺和 三甲胺等的揮發(fā)性胺類(lèi)以及例如碳酸、鹽酸和乙酸等的酸類(lèi)的鹽?？梢园葱枰褂闷湟环N 或兩種以上。在本發(fā)明中，可以將以上描述的鋯化合物和銨鹽分別地引入。然而，特別優(yōu)選 地，提及引入鋯化合物的銨鹽的方法。在本發(fā)明中，當(dāng)引入鋯化合物的銨鹽時(shí)，理解的是將 鋯化合物和銨鹽二者都引入。特別地作為鋯化合物的銨鹽，優(yōu)選地使用碳酸鋯銨。
[0066] 在本發(fā)明中，從耐擦拭性和墨吸收性的觀點(diǎn)，墨接收層中的銨鹽的含量?jī)?yōu)選是 0.2mmol/m2以上并且更優(yōu)選地0.4mmol/m2以上。從抑制其中要獲得的圖像隨時(shí)間滲開(kāi)， 也就是，所謂的隨時(shí)間滲開(kāi)的現(xiàn)象的觀點(diǎn)，其含量?jī)?yōu)選是2. OmmoVm2以下并且更優(yōu)選地 0. 8mmol/m2以下。墨接收層中的銨鹽的含量特別優(yōu)選地0. 4mmol/m2以上且0. 8mmol/m2以 下。因?yàn)閷@鹽部分地形成為氨等以便揮發(fā)，所以墨接收層中的銨鹽的含量是指最后殘存 于記錄介質(zhì)的銨鹽的含量。因此，涂布液中銨鹽的含量可以與墨接收層中銨鹽的含量不同。 在本發(fā)明的實(shí)施例中，銨鹽的含量通過(guò)以下方法計(jì)算。首先，將切出為2cmX3cm尺寸的記 錄介質(zhì)在Iml的離子交換水中在攪拌下浸漬10分鐘。其后，取出記錄介質(zhì)，然后將殘余液 體通過(guò)離子色譜法分析從而計(jì)算墨接收層中的銨鹽的含量。
[0067] 羥基羧酸
[0068] 在本發(fā)明中，羥基羧酸是指含有羥基和羧基并且在羧基的α位具有羥基的化合 物，并且也包括羥基羧酸鹽。為什么要求在羧基的α位具有羥基的原因如下。羥基羧酸可 以通過(guò)與鋯化合物配位而控制鋯化合物的反應(yīng)性，但是，因?yàn)榱u基在羧基的α位，所以與 鋯化合物的配位力變得適度。羥基羧酸的實(shí)例包括羥基乙酸、乳酸、酒石酸、蘋(píng)果酸、羥基丁 酸、檸檬酸鹽和葡萄糖酸等。可以按需要使用其一種或兩種以上。特別地，從耐擦拭性的觀 點(diǎn)，酒石酸是優(yōu)選的。
[0069] 從耐擦拭性的觀點(diǎn)，墨接收層中的羥基羧酸的含量?jī)?yōu)選是0. 02mmol/m2以上并且 更優(yōu)選地0. 04mmol/m2以上。從抑制隨時(shí)間滲開(kāi)的觀點(diǎn)，其含量?jī)?yōu)選是0. 2mmol/m2以下并 且更優(yōu)選地0. lmmol/m2以下。墨接收層中的羥基羧酸的含量特別優(yōu)選是0. 04mm〇l/m2以上 且 0. ImmoΙ/m2 以下。
[0070] 從耐擦拭性和要獲得的圖像的顯色性的觀點(diǎn)，墨接收層中的羥基羧酸的含量?jī)?yōu)選 是鋯化合物含量的〇. 01倍以上并且更優(yōu)選地是〇. 02倍以上。從抑制隨時(shí)間滲開(kāi)的觀點(diǎn)， 其含量?jī)?yōu)選是〇. 3倍以下并且更優(yōu)選地0. 1倍以下。
[0071] 在墨接收層中，基于羥基羧酸的含量（mmol/m2)，銨鹽的含量（mmol/m 2)優(yōu)選是10 倍以上且20倍以下。通過(guò)將含量設(shè)置在以上范圍中，將鋯化合物和膠體二氧化硅的反應(yīng)性 適度地控制并且其結(jié)合力進(jìn)一步增加，從而耐擦拭性改善。當(dāng)含有鋯化合物的銨鹽時(shí)，可以 計(jì)算銨鹽的含量（mm〇l/m 2)作為鋯化合物的銨鹽的含量（mmol/m2)。
[0072] 粘結(jié)劑
[0073] 在本發(fā)明中，優(yōu)選的是對(duì)于墨接收層來(lái)說(shuō)含有粘結(jié)劑。在本發(fā)明中，粘結(jié)劑是指能 夠結(jié)合無(wú)機(jī)顆粒，例如膠體二氧化硅，從而形成涂膜的材料。
[0074] 在本發(fā)明中，從墨吸收性的觀點(diǎn)，墨接收層中的粘結(jié)劑的含量?jī)?yōu)選是包括膠體二 氧化硅的全部無(wú)機(jī)顆粒的含量的50質(zhì)量％以下并且更優(yōu)選地30質(zhì)量％以下。從墨接收層 的結(jié)合性的觀點(diǎn)，所述比優(yōu)選是5. 0質(zhì)量％以上并且更優(yōu)選地8. 0質(zhì)量％以上。
[0075] 粘結(jié)劑的實(shí)例包括淀粉衍生物，例如氧化淀粉、酯化淀粉和磷酸化淀粉；纖維素衍 生物例如羧甲基纖維素和羥乙基纖維素；酪蛋白、明膠、大豆蛋白、聚乙烯醇和其衍生物； 聚乙烯吡咯烷酮；馬來(lái)酸酐樹(shù)脂；共軛聚合物乳膠，例如苯乙烯-丁二烯共聚物和甲基丙烯 酸甲酯-丁二烯共聚物；丙烯酸類(lèi)聚合物乳膠，例如丙烯酸酯類(lèi)和甲基丙烯酸酯類(lèi)的聚合 物；乙烯基類(lèi)聚合物乳膠，例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物；以上提及的聚合物的含有官能團(tuán) 例如羧基的單體的官能團(tuán)改性的聚合物乳膠；通過(guò)將以上提及的聚合物使用陽(yáng)離子基團(tuán)陽(yáng) 離子化而獲得的那些；通過(guò)將以上提及的聚合物的表面使用陽(yáng)離子表面活性劑陽(yáng)離子化而 獲得的那些；通過(guò)將構(gòu)成以上提及的聚合物的單體在陽(yáng)離子性聚乙烯醇的存在下聚合從而 在聚合物表面上分散聚乙烯醇而獲得的那些；通過(guò)將構(gòu)成以上提及的聚合物的單體在陽(yáng)離 子性膠體顆粒的懸浮/分散液中聚合從而在聚合物表面上分散陽(yáng)離子性膠體顆粒而獲得 的那些；水性粘結(jié)劑，例如熱固性合成樹(shù)脂，例如三聚氰胺樹(shù)脂和尿素樹(shù)脂；丙烯酸酯類(lèi)和 甲基丙烯酸酯類(lèi)的聚合物和共聚物，例如聚（甲基丙烯酸甲酯）；和合成樹(shù)脂，例如聚氨酯 樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇縮丁醛和醇酸樹(shù)脂?？梢园?要求使用一種或兩種以上的這些粘結(jié)劑。
[0076] 在以上提及的粘結(jié)劑中，特別優(yōu)選地使用聚乙烯醇和聚乙烯醇衍生物。聚乙烯醇 衍生物的實(shí)例包括陽(yáng)離子改性聚乙烯醇、陰離子改性聚乙烯醇、硅烷醇改性聚乙烯醇和聚 乙烯醇縮醛等。作為陽(yáng)離子改性聚乙烯醇，例如，日本專(zhuān)利特開(kāi)No. 61-10483中記載的在聚 乙烯醇主鏈或側(cè)鏈中具有伯胺基至叔胺基或季銨基的聚乙烯醇是優(yōu)選的。
[0077] 可以將聚乙烯醇通過(guò)皂化聚乙酸乙烯酯來(lái)合成。聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選是 80mol %以上且IOOmol %以下并且更優(yōu)選地85mol %以上且98mol %以下。皂化度是當(dāng)皂 化聚乙酸乙烯酯而獲得聚乙烯醇時(shí)通過(guò)皂化反應(yīng)生成的羥基的摩爾數(shù)的比，并且是通過(guò) JIS-K6726中記載的方法而測(cè)量的值。聚乙烯醇的平均聚合度優(yōu)選是2000以上并且更優(yōu)選 地2000以上且5000以下。在本發(fā)明中，作為平均聚合度，使用通過(guò)JIS-K6726(1994)中記 載的方法而測(cè)定的粘度平均聚合度。
[0078] 當(dāng)制備墨接收層用涂布液時(shí)，優(yōu)選的是以水溶液的形式使用聚乙烯醇和聚乙烯醇 衍生物。在該情況下，水溶液中聚乙烯醇和聚乙烯醇衍生物的固含量?jī)?yōu)選是3質(zhì)量％以上 且20質(zhì)量％以下。
[0079] 交聯(lián)劑
[0080] 在本發(fā)明中，優(yōu)選的是對(duì)于墨接受層來(lái)說(shuō)含有交聯(lián)劑。交聯(lián)劑的實(shí)例包括醛化合 物、三聚氰胺化合物、異氰酸酯化合物、鋯化合物、酰胺化合物、鋁化合物、硼酸類(lèi)和硼酸鹽 類(lèi)等?？梢园匆笫褂靡环N或兩種以上的這些交聯(lián)劑。特別地，當(dāng)使用聚乙烯醇和聚乙烯 醇衍生物作為粘結(jié)劑時(shí)，在以上提及的交聯(lián)劑中優(yōu)選地使用硼酸類(lèi)和硼酸鹽類(lèi)。
[0081] 硼酸類(lèi)的實(shí)例包括原硼酸（H3BO3)、偏硼酸和二硼酸。作為硼酸鹽類(lèi)，以上提及的 硼酸的水溶性鹽類(lèi)是優(yōu)選的。硼酸鹽類(lèi)的實(shí)例包括硼酸類(lèi)的堿金屬鹽類(lèi)，例如硼酸類(lèi)的鈉 鹽和鉀鹽；硼酸類(lèi)的堿土金屬鹽類(lèi)，例如硼酸類(lèi)的鎂鹽和鈣鹽；和硼酸類(lèi)的銨鹽等。在這些 硼酸類(lèi)和硼酸鹽類(lèi)中，從涂布液隨時(shí)間的穩(wěn)定性和抑制龜裂發(fā)生的效果的觀點(diǎn)，優(yōu)選地使 用原硼酸。
[0082] 可以根據(jù)制造條件等酌情調(diào)節(jié)交聯(lián)劑的使用量。在本發(fā)明中，基于粘結(jié)劑的含量， 墨接收層中的交聯(lián)劑的含量?jī)?yōu)選是I. 0質(zhì)量％以上且50質(zhì)量％以下并且更優(yōu)選地5質(zhì) 量％以上且40質(zhì)量％以下。
[0083] 當(dāng)粘結(jié)劑是聚乙烯醇并且交聯(lián)劑是選自硼酸類(lèi)和硼酸鹽類(lèi)的至少一種時(shí)，硼酸類(lèi) 和硼酸鹽類(lèi)的總含量?jī)?yōu)選是墨接收層中的聚乙烯醇含量的5質(zhì)量％以上且30質(zhì)量％以下。 [0084] 其它添加劑
[0085] 在本發(fā)明中，墨接收層可以含有除了以上描述的物質(zhì)以外的其它添加劑。所述添 加劑的特定實(shí)例包括pH調(diào)節(jié)劑、增稠劑、流動(dòng)性改良劑、消泡劑、抑泡劑、表面活性劑、脫模 齊U、滲透液、著色顏料、著色染料、熒光增白劑、紫外線(xiàn)吸收劑、抗氧化劑、防腐劑、抗菌劑、耐 水添加劑、染料固色劑、固化劑和耐候材料。
[0086] 在本發(fā)明中，從抑制隨時(shí)間滲開(kāi)的觀點(diǎn)，墨接收層中的堿金屬鹽的含量?jī)?yōu)選較低。 墨接收層中的堿金屬鹽的含量?jī)?yōu)選是I. OmmoVm2以下并且更優(yōu)選地0. 5mmol/m2以下。堿 金屬鹽可以作為用于墨接收層用涂布液的各種材料的雜質(zhì)而包含于墨接收層中。
[0087] 底涂層
[0088] 在本發(fā)明中，可以將底涂層設(shè)置在基材和墨接收層之間。通過(guò)設(shè)置底涂層，可以改 善在基材和墨接收層之間的粘合性。底涂層優(yōu)選地含有水溶性聚酯樹(shù)脂、明膠和聚乙烯醇 等。底涂層的膜厚度優(yōu)選是〇. 01 μ m以上且5 μ m以下。
[0089] 背涂層
[0090] 在本發(fā)明中，可以將背涂層設(shè)置在與基材的其上設(shè)置墨接收層的表面相對(duì)的表面 上。通過(guò)設(shè)置背涂層，可以改善操作性能、輸送性能和在負(fù)荷大量張數(shù)的情況下在連續(xù)打印 時(shí)的耐輸送傷痕性。背涂層優(yōu)選地含有白色顏料和粘結(jié)劑等。
[0091] 制造記錄介質(zhì)的方法
[0092] 在本發(fā)明中，制造記錄介質(zhì)的方法優(yōu)選是具有生產(chǎn)基材的過(guò)程、制備墨接收層用 涂布液的過(guò)程和將墨接收層用涂布液施涂至基材的過(guò)程的方法。下文中，描述制造記錄介 質(zhì)的方法。
[0093] 制造基材的方法
[0094] 在本發(fā)明中，作為制造原紙的方法，可以應(yīng)用通用的造紙方法。造紙機(jī)器的實(shí)例包 括長(zhǎng)網(wǎng)造紙機(jī)、圓網(wǎng)造紙機(jī)、鼓式造紙機(jī)和夾網(wǎng)造紙機(jī)。為了改善原紙的表面平滑性，表面 處理可以通過(guò)在造紙過(guò)程期間或造紙過(guò)程后施加熱和壓力來(lái)進(jìn)行。表面處理方法的特定實(shí) 例包括壓延處理，例如壓延機(jī)和超級(jí)壓延機(jī)。
[0095] 將樹(shù)脂層設(shè)置在原紙上的方法，也就是，將原紙用樹(shù)脂覆蓋的方法的實(shí)例包括熔 融擠出方法、濕層壓法和干層壓法等。在以上中，將熔融樹(shù)脂壓出至原紙的一面或兩面用于 涂布的熔融擠出方法是優(yōu)選的。作為熔融擠出方法，廣泛地采用在夾輥和冷卻輥之間的嚙 合點(diǎn)接觸和加壓輸送的原紙和從擠出模頭壓出的樹(shù)脂從而將樹(shù)脂層層壓至原紙上的方法 (下文中也被稱(chēng)為擠出涂布法）。當(dāng)將樹(shù)脂層通過(guò)熔融擠出法設(shè)置時(shí)，可以將預(yù)處理以原紙 和樹(shù)脂層的粘合變得更強(qiáng)這樣的方式來(lái)進(jìn)行。預(yù)處理的實(shí)例包括用硫酸-鉻酸混合物的酸 蝕處理、使用氣體火焰的火焰處理、紫外線(xiàn)照射處理、電暈放電處理、輝光放電處理和用燒 基鈦酸酯的錨涂處理等。在以上中，電暈放電處理是優(yōu)選的。當(dāng)將白色顏料引入樹(shù)脂層中 時(shí)，可以將原紙使用樹(shù)脂和白色顏料的混合物覆蓋。
[0096] 形成墨接收層的方法
[0097] 在本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，作為將墨接收層在基材上形成的方法，例如，可以提及以 下的方法。首先，制備墨接收層用涂布液。然后，通過(guò)將該涂布液施涂至基材上，然后干燥 其，可以獲得本發(fā)明的記錄介質(zhì)。作為施涂涂布液的方法，可以使用簾式涂布機(jī)、使用擠出 系統(tǒng)的涂布機(jī)和使用滑動(dòng)料斗系統(tǒng)（slide hopper system)的涂布機(jī)等。在施涂期間，可 以加溫涂布液。施涂后的干燥方法的實(shí)例包括使用熱風(fēng)干燥機(jī)例如直線(xiàn)隧道式干燥機(jī)、拱 式干燥機(jī)、空氣環(huán)路干燥機(jī)和正弦曲線(xiàn)空氣浮動(dòng)干燥機(jī)的方法，和使用利用紅外線(xiàn)或微波 的干燥機(jī)的方法等。
[0098] 在本發(fā)明中，優(yōu)選的是首先將含有除了膠體二氧化硅以外的無(wú)機(jī)顆粒和粘結(jié)劑的 第一涂布液施涂至基材上，接著干燥其，然后施涂含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥 基羧酸的第二涂布液，接著干燥其。在該情況下，根據(jù)干燥的固含量，第一涂布液的施涂量 優(yōu)選是5g/m 2以上且45g/m2以下。根據(jù)干燥的固含量，第二涂布液的施涂量?jī)?yōu)選是0. Olg/ m2以上且0.5g/m2以下。通過(guò)這樣的方法的使用，可以有效地形成其中包含于墨接收層中 的膠體二氧化硅的90%以上存在于距離記錄介質(zhì)的最外表面沿深度方向Onm以上且300nm 以下的區(qū)域中的墨接收層。
[0099] 實(shí)施例
[0100] 下文中，將參考實(shí)施例和比較例而更詳細(xì)地描述本發(fā)明。本發(fā)明不被以下實(shí)施例 限制并且不偏移本發(fā)明的范圍。在以下實(shí)施例中，術(shù)語(yǔ)"份"是質(zhì)量基準(zhǔn)，除非另有規(guī)定。
[0101] 記錄介質(zhì)的生產(chǎn)
[0102] 基材的生產(chǎn)
[0103] 混合80份的具有450 mLCSF的加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度（Canadian Standard Freeness)的LBKP、20份具有480mLCSF的加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度的ΝΒΚΡ、0. 60份陽(yáng)離子化淀 粉、10份重質(zhì)碳酸鈣、15份輕質(zhì)碳酸鈣、0. 10份烷基烯酮二聚體和0. 030份陽(yáng)離子化聚丙 烯酰胺，然后將水以固含量是3. 0質(zhì)量％這樣的方式添加從而獲得紙漿。隨后，將紙漿用長(zhǎng) 網(wǎng)造紙機(jī)形成為紙，然后進(jìn)行三階段濕壓，隨后使用多筒式干燥機(jī)干燥。其后，將所得的紙 使用施膠加壓設(shè)備以干燥后的固含量是I. 〇g/m2這樣的方式使用氧化淀粉水溶液來(lái)浸漬， 然后干燥。另外，將所得的紙用壓延機(jī)進(jìn)行修飾處理從而生產(chǎn)具有170g/m 2基重、100秒的 stockigt施膠度、50秒的透氣度、30秒的Bekk平滑度、11. OmN的Gurley剛度和100 μ m的 膜厚度的原紙。隨后，將含有70份低密度聚乙烯、20份高密度聚乙烯和10份氧化鈦的樹(shù)脂 組合物以干施涂量是25g/m 2這樣的方式施涂至原紙的一面（定義為正面）上。另外，將含 有50份高密度聚乙烯和50份低密度聚乙烯的樹(shù)脂組合物以干施涂量是25g/m 2這樣的方 式施涂至原紙的背面上從而獲得基材。
[0104] 墨接收層用涂布液的制備
[0105] 第一涂布液1-1的制備
[0106] 將 L 54份聚二烯丙基二甲胺氫氯化物：SHALLOL DC902P (Daiichi Kogyo Seiyaku Co.，Ltd.制造，50質(zhì)量％的固含量）添加至79. 23份離子交換水。少量地添加19. 23份 氣相法二氧化硅AER0SIL 300 (EVONIK Industries A.G.制造）（氣相法二氧化硅與聚二 烯丙基二甲胺氫氯化物的量比為100:4)，同時(shí)將水溶液使用T.K.均質(zhì)混合器MARK II 2.5(Tokusyu Kika Kogyo Co.，Ltd.制造）在3000rpm的旋轉(zhuǎn)條件下攪拌。另外，使用 Nanomizer(Yoshida Kikai Co. ,Ltd.制造）進(jìn)行兩次處理從而制備具有20質(zhì)量％固含量 的氣相法二氧化娃分散液。
[0107] 將具有3500的粘度平均聚合度和88mol%皂化度的聚乙烯醇PVA 235(Kuraray Co.，Ltd.制造）溶解于離子交換水中從而制備具有8.0質(zhì)量％固含量的粘結(jié)劑水溶液。
[0108] 基于100份的包含于氣相法二氧化硅分散液中的氣相法二氧化硅固含量，以固 含量計(jì)，將2. 0份的作為多價(jià)金屬的水溶性鹽的乙酸鋯ZA-30 (Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co.，Ltd.制造，30質(zhì)量％的固含量）和20.0份的以上制備的粘結(jié)劑水溶液（8.0質(zhì) 量％的固含量）與以上制備的氣相法二氧化硅分散液混合從而獲得混合溶液。隨后，基于 100份的包含于混合溶液中的聚乙烯醇固含量，以固含量計(jì)，將20.0份的作為交聯(lián)劑的原 硼酸水溶液（5質(zhì)量％的固含量）與所得的混合溶液混合。另外，基于涂布液的總質(zhì)量，以 0.1質(zhì)量％的量，將表面活性劑Surfinol 465(Nissin Chemical Co. ,Ltd.制造）添加至其 中從而獲得第一涂布液1-1。
[0109] 第一涂布液1-2的制備
[0110] 將1. 65份甲磺酸作為解膠酸添加至333份離子交換水。少量地添加100份氧 化鋁水合物DISPERAL HP14(Sasol制造），同時(shí)將水溶液使用Τ. K.均質(zhì)混合器MARK II 2. 5 (Tokusyu Kika Kogyo Co. ,Ltd.制造）在3000 rpm的旋轉(zhuǎn)條件下攪拌。添加完成后， 將該混合物原樣攪拌30分鐘從而制備具有23質(zhì)量％的固含量的氧化鋁水合物分散液。
[0111] 將具有3500的粘度平均聚合度和88mol %皂化度的聚乙烯醇PVA 235 (Kuraray Co., Ltd.制造）溶解于離子交換水中從而制備具有8.0質(zhì)量％固含量的粘結(jié)劑水溶液。
[0112] 基于100份的包含于氧化鋁水合物分散液中的氧化鋁水合物固含量，以固含量 計(jì)，將2.0份的作為多價(jià)金屬的水溶性鹽的乙酸锫ZA-30(Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co.，Ltd.制造，30質(zhì)量％的固含量）和9.0份的以上制備的粘結(jié)劑水溶液（8.0質(zhì)量％的 固含量）與以上制備的氧化鋁水合物分散液混合從而產(chǎn)生混合溶液。隨后，基于100份的 包含于混合溶液中的聚乙烯醇固含量，以固含量計(jì),將20. 0份的作為交聯(lián)劑的原硼酸水溶 液（5質(zhì)量％的固含量）與獲得的混合溶液混合。另外，基于涂布液的總質(zhì)量，以0. 1質(zhì)量％ 的量，將表面活性劑Surfinol 465(Nissin Chemical Co. ,Ltd.制造）添加至其中從而獲得 第一涂布液1-2。
[0113] 第二涂布液的制備
[0114] 將之后描述的膠體二氧化硅分散液、鋯化合物和羥基羧酸以各個(gè)混合物的固含量 的份值是表1的值這樣的方式混合。作為膠體二氧化硅分散液，使用表2中示出的那些。作 為碳酸鋯銨，使用 AC-7 (DAIICHI KIGENS0 KAGAKU K0GY0 CO. ,LTD.制造）。
[0115] 表 1
[0116] 第二涂布液的制備條件
[0117]

【權(quán)利要求】
1. 一種記錄介質(zhì)，包含：基材和墨接收層，所述記錄介質(zhì)特征在于，其中 所述墨接收層含有膠體二氧化硅、鋯化合物、銨鹽和羥基羧酸，并且 包含于所述墨接收層中的所述膠體二氧化硅的90%以上存在于距離所述記錄介質(zhì)的 最外表面沿深度方向Onm以上且300nm以下的區(qū)域。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述膠體二氧化硅的平均一次粒徑是20nm以 上且100nm以下。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述墨接收層中的所述膠體二氧化硅的含量 是0. 02g/m2以上且0. lg/m2以下。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述墨接收層中的所述鋯化合物的含量是 0. 4mmo 1 /m2 以上且 0. 8mmo 1 /m2 以下。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述墨接收層中的所述銨鹽的含量是 0. 4mmo 1 /m2 以上且 0. 8mmo 1 /m2 以下。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述墨接收層中的所述羥基羧酸的含量是 0. 04mmol/m2 以上且 0. lmmol/m2 以下。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述羥基羧酸是酒石酸。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，其中所述墨接收層中的所述銨鹽的以mmol/m2為 單位的含量相對(duì)于所述羥基羧酸的以mmol/m2為單位的含量是10倍以上且20倍以下。
【文檔編號(hào)】B41M5/50GK104339910SQ201410384073
【公開(kāi)日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年8月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月6日
【發(fā)明者】小栗勲, 加茂久男, 野口哲朗, 湯本真也 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社