專利名稱：：具有改進(jìn)的耐化學(xué)品性的可成像元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及負(fù)性和正性工作的可成像元件，其具有成像層，其有改進(jìn)的耐化學(xué)品性和熱烘烤性能，這是由于存在特定的耐溶劑聚合物。本發(fā)明還涉及成像方法，以提供負(fù)性或正性工作的成像元件。
背景技術(shù)：
：在常規(guī)的或"濕法"石印印刷(Hthographicprinting)中，油墨接收區(qū)域稱為圖象區(qū)，是在親水性表面上產(chǎn)生的。當(dāng)表面用水濕潤并施用油墨時(shí)，親水區(qū)保留水并排斥油墨，而油墨接收區(qū)域能接收油墨并排斥水。將油墨轉(zhuǎn)移到要復(fù)制圖象的材料表面上。例如，油墨可以先轉(zhuǎn)移到中間轉(zhuǎn)印布(blanket)上，進(jìn)而用于將油墨轉(zhuǎn)移到要復(fù)制圖象的材料表面上。近來在印刷板前體領(lǐng)域的發(fā)展涉及使用激光或激光二極管來成像。激光暴露不需要常規(guī)卣化銀成像膜作為中間信息載體(或"掩模")，這是因?yàn)榧す饪梢灾苯佑捎?jì)算機(jī)控制。在可商購的圖象設(shè)定器中使用的高性能激光或激光二極管通常釋放出波長為至少700nm的輻射，因此要求輻射敏感性組合物在電磁光譜的近紅外或紅外區(qū)域中是敏感的。但是，其它有用的輻射敏感性組合物設(shè)計(jì)用于用紫外光或可見光輻射成像。用于制備石印印刷板的可成像元件一般含有施用在基材的親水性表面上的可成像層?？沙上駥影ㄒ环N或多種輻射敏感性組分，它們可以分散在合適的粘合劑中。或者，輻射敏感性組分也可以是粘合劑材料。在成像之后，可成像層的成像區(qū)域或非成像區(qū)域通過合適的顯影劑除去，顯示出下面的基材親水性表面。如果除去成像區(qū)域，則元件被認(rèn)為是正性工作的。如果除去非成像區(qū)域，則元件被認(rèn)為是負(fù)性工作的。在每種情況下，可成像層的區(qū)域(即，成像區(qū))保持是油墨接收性的，而通過顯影過程顯示出的親水表面區(qū)域接收水和含水溶液(通常是潤版液)并排斥油墨。用紫外光和/或可見光輻射使可成像元件成像的操作通常經(jīng)由具有透明和不透明區(qū)域的掩模進(jìn)行。在掩模的透明區(qū)域之下的區(qū)域中成像，而在不透明掩模區(qū)域之下的區(qū)域中不成像。掩模的使用是耗時(shí)的，并存在許多明顯缺點(diǎn)。直接數(shù)字成像已經(jīng)避免了通過掩模成像，并且在印刷工業(yè)中越來越重要。已經(jīng)開發(fā)了用于制備石印板的可成像元件，與紅外激光器一起使用?？蔁岢上竦亩鄬釉缑枋鲈诿绹鴮＠?，294,311(Shimazu等)、6,352,812(Shimazu等)，6,593,055(Shimazu等)，6,352,811(Patel等),6,358,669(Savariar-Hauck等)和6,528,228(Sa酉iar-Hauck等),美國專利申請(qǐng)2004/0067432Al(Kitson等)。美國專利申請(qǐng)2005/0037280(Loccufier等)描述了熱敏性印刷板前體，其在同一層中含有可溶于酚類顯影劑的聚合物和能吸收紅外輻射的化合物。輻射敏感性化合物和可成像的元件也設(shè)計(jì)用于成像式暴露和/或顯影，同時(shí)在使用潤版液和/或印刷油墨的印刷機(jī)中使用，例如描述在美國專利6,582,882(Pappas等)和6,899,994(Huang等),美國專利申請(qǐng)2004/0260050(Munnelly等)和WO2004/101280(M誦elly等)中。這些可成像的元件通常含有在基材上的單層可成像層。美國專利6,200,725(Takechi等)和美國專利申請(qǐng)2004/0018445(Akita等)描述了耐化學(xué)品性增強(qiáng)的組合物和使用含有金剛烷基側(cè)基的聚合物形成蝕刻圖案的方法。要解決的問題在使用中，石印板(負(fù)性和正性工作)與潤版液和油墨接觸。另夕卜，這些元件可以進(jìn)行轉(zhuǎn)印布洗滌以除去油墨和各種用于轉(zhuǎn)印布和壓輥的清潔溶液。雖然石印文獻(xiàn)描述了具有有利性能的各種可成像的元件，但是仍然需要改進(jìn)這些元件的各種性能，特別是提供改進(jìn)的對(duì)各種在顯影和印刷中使用的化學(xué)品和溶劑的耐受性能。還希望改進(jìn)成像元件的后顯影熱烘烤性能。發(fā)明概述本發(fā)明提供了可成像的元件，其含有基材和位于基材上的可成像層，此元件進(jìn)一步含有輻射吸收性化合物和耐溶劑聚合物，所述聚合物含有聚合物主鏈和磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，前提是金剛烷基側(cè)基經(jīng)由脲或氨酯連接基與聚合物主鏈連接。在一些實(shí)施方案中，可成像層是唯一含有耐溶劑聚合物和輻射吸收性化合物的成像層，并且位于元件中的基材上?？沙上裨梢允秦?fù)性或正性工作的元件。這些負(fù)性工作的可成像元件一般包含可自由基聚合的化合物、能在成像層中產(chǎn)生自由基的組合物以及耐溶劑聚合物和IR吸收性化合物。在另一個(gè)實(shí)施方案中，可成像的元件是正性工作的，并且在基材上按照順序含有以下各層內(nèi)層，其含有輻射吸收性化合物和耐溶劑聚合物，所述聚合物帶有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，如這里所述，和油墨接收外層，其在暴露于成像輻射之前不能用堿性顯影劑除去。本發(fā)明還提供一種形成圖象的方法，包括A)將本發(fā)明的可成像元件進(jìn)行熱成像，從而形成具有成像區(qū)和非成像區(qū)的成像元件，B)使成像層與堿性顯影劑接觸，從而僅僅除去成像區(qū)或僅僅除去非成像區(qū)，和C)任選地，烘烤所述成像和顯影的元件。當(dāng)僅僅除去成像區(qū)時(shí)，本發(fā)明提供了正性工作成像的元件(例如石印板前體)，當(dāng)僅僅除去非成像區(qū)時(shí)，本發(fā)明提供了負(fù)性工作成像的元件?？沙上裨哂懈倪M(jìn)的"耐化學(xué)品性"，即對(duì)于由于在顯影和印刷中使用的化學(xué)品和溶劑引起各層的破壞有抵抗性。這種性能通過在基材上的各層之一中存在特定的耐溶劑聚合物實(shí)現(xiàn)，這種聚合物含有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，使用這些耐溶劑聚合物提供了改進(jìn)的熱烘烤性能，即，當(dāng)在顯影后加熱元件以提高儲(chǔ)存期時(shí)抵抗破壞。本發(fā)明的詳細(xì)描述定義除非另有說明，在這里使用的術(shù)語"可成像元件"和"印刷板前體"參見本發(fā)明的具體實(shí)施方案。"單層，，可成像元件表示本發(fā)明的可成像元件具有僅僅單層以提供正性或負(fù)性圖象。"耐溶劑聚合物"(下面定義)將位于此單個(gè)成像層中，此層可以是最外層。但是，這些元件可以在基材的任一側(cè)上含有額外的非成像層(例如摩擦層或面涂層，其含有可透氧的、水溶性聚合物例如聚乙烯醇)。"多層，，可成像元件表示本發(fā)明的可成像元件具有至少兩層的提供圖象的層，例如下面所述的"內(nèi)層"和"外層"。"耐溶劑聚合物"(下面定義)將通常位于內(nèi)層中。但是，這些元件可以在基材的任一側(cè)上含有額外的非成像層，包括但不限于面涂層、摩擦層和粘合層。術(shù)語"耐溶劑聚合物"表示這里定義的聚合物，其含有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基。在下面詳細(xì)描述這些耐溶劑聚合物。另外，除非另有說明，在這里描述的各種組分例如"耐溶劑聚合物"、"聚合材料，，、"酚類樹脂粘合劑"、"溶解抑制劑"、"加成共聚物"、"涂料溶劑"、"輻射吸收性化合物"、"堿性顯影劑"和相似的術(shù)語也表示這些組分的混合物。因此，使用定語"一種，，并不是必須表示僅僅單種組分。除非另有說明，百分比表示干重量百分比。對(duì)于與聚合物有關(guān)的任何術(shù)語的清晰定義，請(qǐng)參見"GlossaryofBasicTermsinPolymerScience",InternationalUnionofPureandAppliedChemistry("IUPAC")出版，PureAppl.Chem.68,2287-2311(1996)。但是，本文任何明確的定義應(yīng)該被認(rèn)為是非限定性的。除非另有說明，術(shù)語"聚合物"表示高分子量和低分子量的聚合物，包括低聚物、均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"表示從兩種或多種不同單體衍生的聚合物。也就是說，它們含有具有至少兩種不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。術(shù)語"主鏈，，表示聚合物中的原子鏈，多個(gè)側(cè)基可以與其連接。這種主鏈的例子是"全碳"主鏈，從一種或多種可聚合烯屬不飽和單體的聚合獲得。但是，其它主鏈可以包括雜原子，其中聚合物通過縮合反應(yīng)或一些其它方式形成。應(yīng)用可成像元件可以用于提供用于各種目的的成像元件。優(yōu)選的應(yīng)用是石印板前體，如下面詳細(xì)描述。但是，這并不表示本發(fā)明的唯一用途。例如，可成像元件也可以用作熱圖案形成體系以及形成掩模元件和印刷電路板。耐溶劑聚合物提供本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)的耐溶劑聚合物是加成或縮合聚合物，其具有聚合物主鏈，在主鏈上連接有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基。金剛烷基側(cè)基至少經(jīng)由脲或氨酯連接基與聚合物主鏈連接，但是也可以存在其它連接基。優(yōu)選的耐溶劑聚合物可以由以下結(jié)構(gòu)(I)表示(I)其中A和B—起表示聚合物主鏈，其中A還包含含有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基的重復(fù)單元，B還含有不同的重復(fù)單元，x表示5-100重量％,y表示0-95重量。/。，前提是如果A含有金剛烷基側(cè)基，則這些基團(tuán)經(jīng)由脲或氨酯連接基與聚合物主鏈連接(但是也可以存在其它連接基)。更優(yōu)選，耐溶劑聚合物可以由以下結(jié)構(gòu)(II)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>其中R表示氬、取代或未取代的具有l(wèi)-4個(gè)碳原子的低級(jí)烷基(例如甲基、乙基、正丙基或叔丁基)，或卣素基團(tuán)(例如氟、氯、溴或碘)。L表示直接鍵或含有一個(gè)或多個(gè)碳原子并且任選在連接鏈中含一個(gè)或多個(gè)雜原子的連接基。有用的連接基包括但不限于取代或未取代的直鏈或支化的具有l(wèi)-10個(gè)碳原子的亞烷基(例如亞曱基、甲氧基亞甲基、亞乙基、亞異丙基、亞正丁基、亞叔丁基和亞正己基)；取代或未取代的在環(huán)基團(tuán)中具有5-10個(gè)碳原子的亞環(huán)烷基(例如1,3-亞環(huán)戊基和1,4-亞環(huán)己基)、取代或未取代的在環(huán)基團(tuán)中具有6-10個(gè)碳原子的亞芳基(例如1,4-亞苯基、3-曱基-l,4-亞苯基或亞萘基)，或其組合，例如亞芳基亞烷基、亞烷基亞芳基(例如亞甲基-l,4-亞苯基)和亞烷基亞芳基亞烷基。L連接基也可以在連接鏈內(nèi)包括一個(gè)或多個(gè)氧基、硫基、酰氨基、羰基、氧基羰基、羰基氧基、碳酰氨基、磺酰氨基、脲、氨酯和碳酸酯基，具有或不具有上述任何亞烷基、亞環(huán)烷基和亞芳基。L可以包括兩種或多種這些基團(tuán)的組合。優(yōu)選，L是直接鍵或一種或多種在連接鏈中具有l(wèi)-4個(gè)碳原子的亞烷基、羰基氧基、脲、氨酯、亞烷基氧基、亞烷基羰基氧基和羧基亞烷基。更優(yōu)選，L包含至少一個(gè)-C(0)-O-(羰基氧基)、-NH-CO-NH-(脲)、-C(0)-0-(CH2)r或-NH-CO-O-(氨酯基)。在結(jié)構(gòu)(II)中，R，表示磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基。耐溶劑聚合物可以含有一種或多種具有磷酸側(cè)基的不同重復(fù)單元或一種或多種具有金剛烷基側(cè)基的不同重復(fù)單元?；蛘撸腿軇┚酆衔锟梢园ㄒ环N或多種具有磷酸側(cè)基的不同重復(fù)單元與一種或多種具有金剛烷基側(cè)基的不同重復(fù)單元的混合物。當(dāng)R，是金剛烷基側(cè)基時(shí)，L表示在連接鏈內(nèi)的脲或氨酯連接基。對(duì)于"磷酸"基團(tuán)，也包括磷酸的相應(yīng)鹽，包括但不限于堿金屬鹽和銨鹽。任何合適的抗衡正離子可以與磷酸側(cè)基一起使用，只要抗衡離子不會(huì)不利影響所得聚合物的性能或其它所需的成像性能即可。在結(jié)構(gòu)I和II的更優(yōu)選實(shí)施方案中，當(dāng)A表示含有磷酸側(cè)基的重復(fù)單元時(shí)，x是5-20重量。/c),y是80-95重量％。或者，當(dāng)A表示含有金剛烷基側(cè)基的重復(fù)單元時(shí)，x是5-40重量。/。，B是60-95重量％。特別有用的可聚合的烯屬不飽和單體可以用于提供上述"A"重復(fù)單元，包括但不限于以下結(jié)構(gòu)Al-A5表示的化合物CH3(Al)其中X是氧基、硫基或-NH-(優(yōu)選氧基)，X'是-NH-或氧基，X"是氧基或國NH-,n是l-6(優(yōu)選2-4)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(A2)乙烯基膦酸(A3)1,3-丙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(A4)1，4-正丁二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(A5)在結(jié)構(gòu)(I)和(II)中，B表示從一種或多種不含磷酸側(cè)基或金剛烷基側(cè)基的可聚合的烯屬不飽和單體衍生的重復(fù)單元。各種單體可以用于提供B重復(fù)單元，包括苯乙烯類單體、(曱基)丙烯酰胺、(曱基)丙烯酸或其酯、(曱基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來酸酐、N-取代的馬來酰亞胺或它們的混合物。但是，更特別有用的單體由以下結(jié)構(gòu)(III)-(VII)表示r4(iii)r'r2c=cr3ior5r'r2c^cr3nr6R7(v)(vi)其中W和W各自獨(dú)立地是氫、取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的烷基、取代或未取代的具有l(wèi)-6個(gè)碳原子的鏈烯基、取代或未取代的苯基、卣素基團(tuán)、取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的烷氧基、取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的?；?、取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的酰氧基，或R'和R卩一起可以形成環(huán)狀基團(tuán)，例如環(huán)戊基或環(huán)己基，或形成以下二價(jià)基團(tuán)之一-NHC(0)CH2CH2CH2-，-NHC(O)CH2CH2-，-CH2C(O)OC(O)-,-(CH2)2C(〇)OC(O)-，和-CH2C(〇)OC(O)CH2-。R!和I^優(yōu)選是氫或曱基。W是氫，取代或未取代的具有l(wèi)-6個(gè)碳原子的烷基，取代或未取代的苯基，或卣素基團(tuán)。RM尤選是氫或曱基。R"是氫，取代或未取代的具有l(wèi)-6個(gè)碳原子的烷基，取代或未取代的苯基，或卣素基團(tuán)。R"優(yōu)選是取代或未取代的笨基(即，提供苯乙烯類單體)。RS是氫，取代或未取代的具有1-20個(gè)碳原子的烷基，取代或未取代的具有1-20個(gè)碳原子的鏈烯基，取代或未取代的環(huán)烷基，取代或未取代的環(huán)烯基，取代或未取代的苯基，或取代或未取代的具有1-20個(gè)碳原子的烷氧基亞烷基。RS優(yōu)選是曱基或乙基。116和117各自獨(dú)立地是氫，取代或未取代的具有l(wèi)-20個(gè)碳原子的烷基，取代或未取代的具有l(wèi)-20個(gè)碳原子的鏈烯基，取代或未取代的環(huán)烷基，取代或未取代的環(huán)烯基，取代或未取代的苯基，或取代或未取代的具有1-12個(gè)碳原子的烷氧基亞烷基。116和117各自獨(dú)立地優(yōu)選是氫或曱基。rs和W各自獨(dú)立地是氫，取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的烷基，取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的鏈烯基，取代或未取代的笨基，卣素基團(tuán)，氰基，取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的烷氧基，取代或未取代的具有l(wèi)-6個(gè)碳原子的?；?，或取代或未取代的具有1-6個(gè)碳原子的酰氧基。rs和I^各自獨(dú)立地優(yōu)選是氬、曱基或苯基。R^是氫，取代或未取代的具有l(wèi)-7個(gè)碳原子的烷基(包括千基)，取代或未取代的笨基，或羥基。r"—般是氫或取代或未取代的苯基。優(yōu)選，由B表示的重復(fù)單元衍生自苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸、(曱基)丙烯腈或甲基丙烯酸甲酯，或兩種或多種這些單體的混合物。在對(duì)于多層可成像元件(如下所述)的一些優(yōu)選實(shí)施方案中，耐溶劑聚合物由上述結(jié)構(gòu)(II)表示，其中x是5-30重量Q/q(更優(yōu)選5-20重量％),B表示從以下物質(zhì)衍生的重復(fù)單元a)—種或多種苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酸和曱基丙烯酸曱酯，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中所有重復(fù)單元的0-70重量％(更優(yōu)選10-50重量％),和b)—種或多種丙烯腈或曱基丙烯腈或它們的混合物，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中所有重復(fù)單元的20-95重量％(更優(yōu)選20-60重量％)。如果制備和使用縮合聚合-,則;料通常是二元羧酸和^元醇，其中任一種可以包含所需的磷酸側(cè)基或金剛烷基側(cè)基。更優(yōu)選，耐溶劑聚合物是從可聚合的烯屬不飽和單體使用適用于自由基(或"加成，，)聚合的條件、反應(yīng)物和催化劑制備的，這些是本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的，例如參見第20和21章，Macromolecules.第2巻，第2版，H.G.Elias，Plenum,NewYork，1984。有用的自由基引發(fā)劑是過氧化物，例如過氧化苯曱酰；氫過氧化物，例如氫過氧化枯烯；偶氮化合物，例如2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)。合適的反應(yīng)溶劑包括對(duì)反應(yīng)物呈惰性且不會(huì)不利影響反應(yīng)的溶劑。單層可成像元件單層可成像元件可以是負(fù)性或正性工作的可成像元件，這取決于所采用的成像化學(xué)。本文所述的耐溶劑聚合物一般作為粘合劑存在于這些元件的成像層中。一般，單層可成像元件是通過將含有一種或多種耐溶劑聚合物的成像配料施用到合適的基材上以形成可成像層獲得的。在施用配料之前，這種基材通常按照下述各種方式經(jīng)過處理或涂覆?；目梢越?jīng)過處理以提供"內(nèi)層，，，從而改進(jìn)粘合性或親水性，并且將單層成像層施用到內(nèi)層上?；囊话憔哂杏H水性表面，或至少在成像側(cè)上比所施用的成像配料親水性更強(qiáng)的表面?；陌ㄝd體，載體可以由任何能方便用于制備可成像元件(例如石印板)的材料組成。載體一般是片材、膜或箔的形式，并且是強(qiáng)、穩(wěn)定和柔性的，并且在使用條件下具有耐尺寸變化性，從而使顏色記錄具有全色圖象。通常，載體可以是任何自支持性材料，包括聚合物膜(例如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金屬片或箔，或韌性紙(包括樹脂涂布的和金屬化的紙)或任何這些材料的層壓體(例如鋁箔層壓到聚酯膜上)。金屬載體包括鋁、銅、鋅、鈦及其合金的片材或箔。聚合物膜載體可以在其一個(gè)或兩個(gè)表面上被"輔助層"改性以提高親水性，或紙載體可以相似地涂布以提高平面性。輔助層材料的例子包括但不限于烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷和環(huán)氧基官能聚合物，以及常用于卣化銀照相膜中的親水性輔助材料(例如明膠和其它天然和合成的親水性膠體，和乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物)。優(yōu)選的基材由鋁載體組成，其可以使用本領(lǐng)域公知的技術(shù)涂布或處理，包括物理造粒、電化學(xué)造粒、化學(xué)造粒和陽極化。優(yōu)選，鋁片材使用磷酸或硫酸和常規(guī)工藝進(jìn)行陽極化。任選的內(nèi)層可以通過用例如以下物質(zhì)處理鋁載體而形成珪酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚丙烯酸或丙烯酸共聚物。優(yōu)選，?；?或陽極化的鋁載體然后用聚丙烯酸按照公知的工序進(jìn)行處理以改進(jìn)表面親水性?；牡暮穸瓤梢宰兓?，但是應(yīng)當(dāng)足以耐受由印刷引起的磨損，并且足夠薄以巻繞在印刷體周圍。優(yōu)選的實(shí)施方案包括厚度為100-600微米的經(jīng)過處理的鋁箔?；牡谋趁?非成像側(cè))可以用抗靜電劑和/或滑爽層或無光層涂布以改進(jìn)可成像元件的處理和"手感"?；囊部梢允峭坑休椛涿舾行越M合物的圓柱形表面，因此是印刷體的一部分。這些成像圓柱體的使用例如描述在美國專利5,713,287(Gelbart)中。正性工作的可成像元件對(duì)于正性工作的可成像元件，可成像層含有一種或多種耐溶劑聚合物(如上所述)和優(yōu)選一種或多種輻射吸收性化合物。雖然這些化合物可以對(duì)任何合適的能量形式敏感(例如UV輻射)，但是它們優(yōu)選對(duì)紅外輻射敏感，因此輻射吸收性化合物稱為紅外輻射吸收性化合物("IR吸收性化合物")，能吸收600-1200nm、優(yōu)選700-1200nm的輻射。耐溶劑聚合物通常存在于可成像層中，存在量是1-30重量％,優(yōu)選0.5-20重量％(基于干層總重量)?？沙上駥右话闶菃螌涌沙上裨械淖钔鈱印：线m的IR染料的例子包括但不限于偶氮染料、方酸菁染料，克酮酸染料，三芳基胺染料，硫唑錯(cuò)(thioazolium)染料，吲味銪染料，oxonol染料，T懲唑條肯染料，花青染料，部花青染料，酞菁染料，茚花青染料，碘代三羰花青染料，半花青染料，鏈花青染料，氧雜三羰花青染料，硫菁染料，硫雜三羰花青染料，部花青染料，隱花青染料，萘菁染料，聚苯胺染料，聚吡咯染料，聚噻吩染料，硫?qū)僭剡拎喎蓟?chalcogenopyryloarylidene)禾口二(石危屬元素p比"南并)bi(chalcogenopyrylo)-聚次甲基染料，氧基中氮茚染料，他喃錄染料，吡唑啉偶氮染料，？悉。秦染料，萘醌染料，蒽醌染料，醌亞胺染料，次曱基染料，芳基次甲基染料，聚次曱基染料，斯夸苷染料，？悉唑染料，克酮酸(croconine)染料，卟啉染料，和上述染料的取代形式或離子形式。合適的染料例如參見美國專利4,973,572(DeBoer)、5,208,135(Patel等)、5,244,771(JandrueSr.等)和5,401，618(Chapman等)和EP0823327A1(Nagasaka等)。具有陰離子發(fā)色團(tuán)的花青染料也是有用的。例如，花青染料可以具有帶兩個(gè)雜環(huán)基團(tuán)的發(fā)色團(tuán)。在另一個(gè)實(shí)施方案中，花青染料可以具有至少兩個(gè)磺酸基團(tuán)，更特別是兩個(gè)磺酸基團(tuán)和兩個(gè)假吲哚基團(tuán)。有用的這種IR敏感性花青染料例如參見美國專利申請(qǐng)2005-0130059(Tao),將其引入本文供參考。一種合適種類的花青染料一般由WO2004/101280(Munnelly等)的第0026段的結(jié)構(gòu)式表示。除了低分子量的IR吸收性染料之外，也可以使用與聚合物鍵合的IR染料結(jié)構(gòu)部分。此外，也可以使用IR染料陽離子，即，陽離子是染料鹽的IR吸收性部分，其與在側(cè)鏈中含羧基、磺基、磷基或膦基的聚合物發(fā)生離子相互作用。近紅外吸收性花青染料也是有用的，例如參見美國專利6,309,792(Hauck等),6,264,920(Achilefu等),6,153,356(Urano等),5,496,903(Watanate等)。合適的染料可以使用兩種常規(guī)方法和從各種商購來源獲得的原料形成，包括AmericanDyeSource(BaieD'Urfe，Quebec,加拿大)和FEWChemicals(德國)。其它有用的用于近紅外二極管激光束的染料例如參見美國專利4，973,572(如上所述)。有用的IR吸收性化合物包括各種顏料，包括碳黑，例如被增溶基團(tuán)表面官能化的碳黑，它們是本領(lǐng)域公知的。也可以使用接枝到親水性非離子聚合物上的碳黑，例如FX-GE-003(來自NipponShokubai)，或被陰離子基團(tuán)表面官能化的那些，例如CAB-O-JET200或CAB-O-JET300(來自CabotCorporation)。其它有用的顏料包括但不限于Heliogen綠、NigrosineBase、氧化鐵(III)、氧化錳、普魯士藍(lán)和巴黎藍(lán)。顏料顆粒的尺寸應(yīng)當(dāng)不超過可成像層的厚度，優(yōu)選顏料粒徑將小于可成像層厚度的一半。輻射吸收性化合物可以以足以使得成像層在暴露于適當(dāng)輻射之后不溶于含水顯影劑的量存在于可成像元件中。此量一般是至少0.5重量%和最高20重量％,優(yōu)選1-10重量％(基于層的總千重)。或者，此量可以由在0.05-3、優(yōu)選0.1-1.5的吸收度確定，在千膜中通過反射UV可見光光譜法檢測(cè)。為此目的所需要的特定量一般對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見的，取決于所用的具體化合物和要使用的堿性顯影劑的性能。或者，輻射吸收性化合物可包含在與可成像層熱接觸的單獨(dú)層中。因此，在成像期間，輻射吸收性化合物的作用可轉(zhuǎn)移到最初沒有引入該化合物的可成像層中。優(yōu)選地，可成像層包含一種或多種能用作溶解抑制劑的額外化合物，起到對(duì)于堿溶性聚合物的溶解抑制作用。溶解抑制劑通常具有極性受體位。受體位包括具有高電子密度的原子，優(yōu)選選自電負(fù)性的第一列元素，例如碳、氮和氧。能溶于堿性顯影劑中的溶解抑制劑是優(yōu)選的。對(duì)于溶解抑制劑有用的極性基團(tuán)包括但不限于醚基、胺基、偶氮基、硝基、二茂鐵基、亞砜基、砜基、重氮基、重氮鏞基、酮基、磺酸酯基、磷酸酯基、三芳基甲烷基、馕基(例如硫鏞、碘鏞和磷錄基團(tuán))，其中氮原子被引入雜環(huán)的基團(tuán)，以及含有正電原子的基團(tuán)(例如季銨基)。和季化雜環(huán):合物，例如喹^^條t化合物、苯并噻唑條t化合物r:啶一翁化合物和咪唑^翁化合物。其它細(xì)節(jié)和用作溶解抑制劑的代表性化合物參見例如美國專利6,294,311(如上所述)。特別有用的溶解抑制劑包括三芳基曱烷染料，例如乙基紫、晶體紫、孔雀石綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R和維多利亞純藍(lán)BO、BASONYL⑧紫610和DlI(PCAS，Longjumeau，法國)。這些化合物也可以用作對(duì)比染料，能分辨出在顯影的可成像元件中的非成像區(qū)和成像區(qū)。當(dāng)溶解抑制劑存在于可成像層中時(shí)，其用量可以在寬范圍內(nèi)變化，但是一般是至少0.5重量％且最多30重量％,優(yōu)選1-15重量％(基于層的總干重計(jì))。可成像層也優(yōu)選包含一種或多種粘合劑樹脂，其具有或不具有極性基團(tuán)，或這些粘合劑樹脂的混合物，其中一些具有極性基團(tuán)，一些不具有極性基團(tuán)。最合適的粘合劑樹脂包括酚樹脂，例如線型酚醛清漆樹脂和曱階酚醛樹脂，這些樹脂也可以包含一種或多種側(cè)掛的重氮、羧酸酯、磷酸酯、磺酸酯、亞磺酸酯或醚基團(tuán)。酚樹脂的羥基可以被轉(zhuǎn)化成-T-Z基團(tuán)，其中T表示極性基團(tuán)，Z表示非重氮化物的官能團(tuán)，參見例如美國專利6,218,083(McCullough等)和WO99/001795(McCullough等)。羥基也可以用含重氮基的鄰-萘醌重氮化物結(jié)構(gòu)部分衍生，參見例如美國專利5,705,308(West等)和5,705,322(West等)。這些粘合劑樹脂在可成像層中的存在量可以是40-90重量％,優(yōu)選55-75重量％(基于層的總干重計(jì))?？沙上駥涌梢赃M(jìn)一步包含各種添加劑，包括分散劑、濕潤劑、殺微生物劑、增塑劑、用于可涂布性或其它性能的表面活性劑、粘度助劑，染料或著色劑以使書寫圖象可見，pH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變改性劑或這些試劑的混合物，或任何其它在石印領(lǐng)域中常用的助劑，它們以常規(guī)量使用。正性工作的單層可成像元件可以通過使用常規(guī)涂布或?qū)訅悍椒▽优淞鲜┯玫交谋砻?和任何在其上提供的其它親水性層)上來制備。因此，配料可以通過將所需的組分分散或溶解在合適的涂布溶劑中，并使用合適的設(shè)備和工序?qū)⑺玫呐淞习错樞蚧蛲瑫r(shí)施用到基材上，例如旋涂、刮刀涂、凹版涂布、?？谕坎?、狹縫式涂布、棒涂、繞線棒涂布、輥涂或擠出料斗涂布。配料也可以通過噴涂到合適載體(例如正在印刷的印刷圓筒)上施用。對(duì)于所述單層可成像層，涂布重量是0.5-2.5g/m2,優(yōu)選l-2g/m2。用于涂布層配料的溶劑的選擇取決于在配料中聚合物材料和其它組分的性質(zhì)。一般，可成像層配料從丙酮或另一種酮、四氫呋喃、1-甲氧基-丙-2-醇、乙酸l-甲氧基-2-丙基酯以及它們的混合物使用本領(lǐng)域公知的條件和技術(shù)涂布?；蛘?，這些層可以通過常規(guī)擠出涂布方法從各層組合物的熔體混合物施用。通常，這些熔體混合物不含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。中間干燥步驟可以在各層配料的施用操作之間進(jìn)行，從而在涂布其它配料之前除去溶劑。干燥步驟也有助于防止各層的混合。制備本發(fā)明的正性單層可成像元件的代表性方法在下面的實(shí)施例1中描迷。負(fù)性工作的可成像元件負(fù)性工作的可成像元件一般按照順序含有基材、含特定負(fù)性工作化學(xué)組分的可成像層和任選地含有面涂層。有用的基材如上所述。對(duì)于負(fù)性工作的可成像元件特別有用的基材是a)刷式造粒的、磷酸陽極化的和聚丙烯酸處理的基材，或b)電化學(xué)造粒的、磷酸陽極化的和聚丙烯酸處理的基材。含有負(fù)性工作可成像組合物的可成像層一般含有至少一種可自由基聚合的化合物、至少一種輻射吸收性化合物、至少一種上述耐溶劑聚合物(用量如上所述)和能產(chǎn)生自由基的組合物。有用的可自由基聚合的化合物包括含有能通過自由基聚合的可聚合基團(tuán)的任何化合物。例如，可聚合的化合物可以含有可加成聚合的烯屬不飽和基團(tuán)、可交聯(lián)的烯屬不飽和基團(tuán)、可開環(huán)聚合的基團(tuán)、疊氮基團(tuán)、芳基重氮錄鹽基團(tuán)、芳基重氮磺酸鹽基團(tuán)或它們的混合物。優(yōu)選，可自由基聚合的化合物包括可自由基聚合的烯屬不飽和單體、預(yù)聚物和低聚物，以及可自由基交聯(lián)的聚合物。也可以使用這些化合物的混合物。這些化合物具有至少一個(gè)碳-碳雙鍵，并優(yōu)選是多官能的，即具有兩個(gè)或多個(gè)不飽和雙鍵(更優(yōu)選，不飽和雙鍵端基)。典型的可自由基聚合的多官能不飽和單體和低聚物參見例如美國專利6,893,797(Munnelly等)的第5和6欄，將其全部內(nèi)容引入本文供參考。特別有用的多官能單體和低聚物優(yōu)選包括醇的不飽和酯，例如多元醇的丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯；丙烯酸或甲基丙烯酸的多官能酯，例如二(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯和五(甲基)丙烯酸酯。其它合適的可自由基聚合的化合物包括聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，環(huán)氧化物丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，不飽和聚酯樹脂，不飽和酰胺，乙烯基酯，二乙烯基苯，琥珀酸二乙烯基酯，苯二甲酸二乙烯基酯，以及苯乙烯類單體。季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和五甲基丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、低聚聚氨酯丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯是優(yōu)選用于本發(fā)明的可自由基聚合的化合物?？沙上駥右话愫?5-60重量％、優(yōu)選45-55重量％的可自由基聚合的化合物，基于層的總干重計(jì)?？沙上駥右舶环N或多種輻射吸收性化合物，例如上述IR吸收性化合物。這些化合物一般具有750-1200nm、優(yōu)選800-1100nm的最大吸收波長，優(yōu)選包括花青染料、三芳基胺染料、噻唑^輸染料、聚苯胺染料、吲哚^翁染料、T懲唑萄t染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁染料。在美國專利6,893,797(上述)的第6-8欄和美國專利6,309,792(Hauck等)的第5-10欄中所述的花青染料特別適合用于負(fù)性工作的可成像元件中，這些專利在此引用。能產(chǎn)生自由基的組合物可以是任何能在暴露可成像層時(shí)產(chǎn)生自由基的組合物。例如，該組合物可以包括但不限于(a)三喚，包括被多卣代烷基取代的三。秦，例如三卣代甲基三口秦，參見美國專利4,997,745(Kawamura等)，(b)吖。秦饋化合物，(c)多卣代的能產(chǎn)生自由基的化合物，(d)被多卣代烷基取代的能產(chǎn)生自由基的化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，參見例如美國專利6,893,797(上述)，(e)吖。秦錄化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，參見例如美國專利6,309,792(上述)，(f)過氧化笨曱酰和氫過氧化物例如氫過氧化枯烯、偶氮化合物例如偶氮二異丁腈、2，4,5-三芳基咪唑基二聚體(六芳基二咪唑)，參見例如美國專利4,565,769(Dueber等)，(g)二芳基碘條t鹽和光敏劑，(h)硼酸鹽和有機(jī)硼酸鹽，參見例如美國專利6,562,543(Ogata等)，和(i)鏞鹽。其它已知的引發(fā)劑組分參見例如美國專利申請(qǐng)2003/0064318(上述)。錯(cuò)鹽包括但不限于硫錯(cuò)、氧基硫餚、氧基亞砜錄、氧基砜鏞、氧化硫錄、銨、硒錄、砷錄、磷錄、重氮錄或鹵錄鹽。使用錄鹽的其它細(xì)節(jié)，包括代表性例子，參見美國專利申請(qǐng)2002/0068241(Oohashi等),WO2004/101280(Munnelly等),和美國專利5,086,086(Brown-Wensley等)，5,965,319(KobayashO,和6,051,366(Baumann等)。例如，合適的磷^翁鹽包括具有四個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的雜化價(jià)磷原子。合適的硫錄鹽，例如三苯基硫錄鹽，包括具有三個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的雜化價(jià)硫原子。合適的重氮條t鹽具有帶正電的偶氮基(即-N二N+)。合適的銨鹽包括帶正電的氮原子，例如具有四個(gè)有機(jī)取代基的取代季銨鹽，以及季氮雜環(huán)例如N-烷氧基吡啶錄鹽。合適的鹵錄鹽包括具有兩個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的雜化價(jià)卣原子。務(wù)t鹽一般包含合適數(shù)目的負(fù)電抗衡離子，例如卣離子、六氟磷酸根、硫代硫酸根、六氟銻酸根、四氟硼酸才艮和本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的那些。在一個(gè)實(shí)施方案中，鏞鹽具有帶正電的碘錄、(4-曱基苯基)[4-(2-曱基丙基)苯基]-結(jié)構(gòu)部分和合適的帶負(fù)電的抗衡離子。這種碘條肯鹽的代表性例子是Irgacure250,來自CibaSpecialtyChemicals(Tarrytown,NY),它是碘錄，(4-曱基苯基)[4-(2-曱基丙基)苯基],六氟磷酸鹽，并且作為75%碳酸亞丙酯溶液提供。特別有用的三嗪是被多鹵代烷基取代的三嗪，例如在美國專利6,893,797(上迷)的第9欄笫15-22行列出的化合物。此文獻(xiàn)還提到了其它有用的卣代化合物，例如三溴甲基苯基砜和1,2,3,4-四溴-正丁烷。吖。秦錯(cuò)化合物例如參見美國專利6,309,792(上述)，包含吖。桊核，例如吡啶錯(cuò)、重氮餚或三氮銪核。吖。秦鏞核還包含一個(gè)或多個(gè)芳環(huán)，通常是碳環(huán)芳環(huán)，與吖嗪環(huán)稠合，例如喹啉萄肯、異喹啉鏞、苯并重氮鏞或萘并重氮萄對(duì)亥。在吖嗪環(huán)中的氮環(huán)的季化取代基能作為自由基釋放。特別有用的能產(chǎn)生自由基的化合物包括三嗪，例如三嗪A和鏘鹽，例如碘鏞鹽。能產(chǎn)生自由基的組合物在可成像層中的存在量一般根據(jù)所用化學(xué)試劑的混合物確定。例如，使用上述混合物(d)時(shí)，被多卣代烷基取代的能產(chǎn)生自由基的化合物的存在量一般是2-15重量％(優(yōu)選4-7重量%),被羧基取代的碳芳族化合物的存在量一般是1-10重量％(優(yōu)選1.5-3重量％)，基于層的總干重計(jì)。如果使用上述混合物(e),則吖嗪化合物的存在量一般是2-15重量％(優(yōu)選4-7重量％),被羧基取代的碳芳族化合物的存在量一般是1-10重量％(優(yōu)選1.5-3重量％),基于層的總干重計(jì)。其它能產(chǎn)生自由基的化合物可以按照1-20重量％的常規(guī)量存在。可成像層還可以含有多種任選的組分，包括但不限于分散助劑、濕潤劑、殺微生物劑、增塑劑、粘度助劑、印刷染料、pH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變改性劑、對(duì)比染料、涂料表面活性劑或它們的混合物，以常規(guī)量使用。用于負(fù)性工作的可成像元件的可成像層一般具有0.5-2g/m2、優(yōu)選l-2g/n^的涂料干重量。負(fù)性工作的可成像元件可以包含面涂層，其基本是不透氧的，能溶于堿性顯影劑，并且對(duì)于成像輻射是透明的。這種面涂層也可以保護(hù)元件在成像期間免受磨損，并提供耐劃性。關(guān)于面涂層，例如參見美國專利6,893,797(上述)，包括水溶性聚合物，包括但不限于聚乙烯醇、乙烯醇/乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、乙酸乙烯酯/乙烯基吡咯烷酮共聚物、聚乙烯基曱基醚、馬來酸酐和共聚單體(例如甲基乙烯基醚)的開環(huán)共聚物、聚丙烯酸、明膠和明膠衍生物、纖維素醚以及它們的混合物。聚乙烯醇是優(yōu)選的。面涂層也可以含有著色劑(例如水溶性染料)，其不能在電磁光譜的成像區(qū)中吸收，但能有效吸收可見光，以及粘合促進(jìn)劑，例如聚乙烯基咪唑，參見WO99/06890(Pappas等)。面涂層一般具有0.1-6g/m2、優(yōu)選0.5-4g/m2的涂布重量。制備負(fù)性工作元件的代表性方法如實(shí)施例4-6所述。多層的可成像元件一般，多層的可成像元件含有基材、內(nèi)層(也稱為"下層")以及位于內(nèi)層上的外層(也稱為"頂層"或"面涂層")。在熱成像之前，外層不能通過堿性顯影劑除去，但是在熱成像之后，外層的成像區(qū)可以通過堿性顯影劑除去。內(nèi)層也可以通過堿性顯影劑除去。一種或多種耐溶劑聚合物(上述)一般存在于內(nèi)層中。紅外輻射吸收性化合物(下面定義)優(yōu)選也存在于內(nèi)層中，并任選額外存在于內(nèi)層和外層之間的單獨(dú)層中。多層的可成像元件通過將內(nèi)層組合物合適地施用到合適的基材上，所述基材如上面關(guān)于本發(fā)明的單層可成像元件中詳述。此基材可以是未處理的或未涂布的載體，其通常按照下述多種方式在施用內(nèi)層組合物之前處理或涂布?；耐ǔ＞哂杏H水性表面或至少比外層組合物親水性更強(qiáng)的表面。造粒的和陽極化的鋁基材是優(yōu)選的基材。在載體和內(nèi)層之間的夾層可以通過用例如以下物質(zhì)處理鋁載體來形成硅酸鹽、糊精、氟化釣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚丙烯酸或丙烯酸共聚物。優(yōu)選，?；完枠O化的鋁載體然后用PVPA按照公知的工序進(jìn)行處理以改進(jìn)表面親水性。內(nèi)層位于外層和基材之間。內(nèi)層位于基材之上，更通常直接位于基材上。內(nèi)層含有一種或多種上述耐溶劑聚合物。這些聚合物優(yōu)選不溶于用于涂布外層的溶劑，使得外層可以在不溶解內(nèi)層的情況下涂在內(nèi)層上。內(nèi)層也可以含有一種或多種主要的額外聚合物材料，前提是這些主要額外聚合物材料不會(huì)不利影響耐化學(xué)品性和內(nèi)層的溶解性能。優(yōu)選的主要額外聚合物材料在存在時(shí)是酚醛樹脂，當(dāng)使用后顯影烘烤工序時(shí)，其能改進(jìn)印刷元件的操作壽命。對(duì)于內(nèi)層有用的主要額外聚合物材料包括聚乙烯基縮醛，含羧基的(曱基)丙烯酸樹脂，乙酸乙烯酯巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物酚樹脂，馬來化木松香，苯乙烯/馬來酸酐共聚物，(甲基)丙烯酰胺聚合物，從N-取代環(huán)酰亞胺衍生的聚合物，以及它們的混合物。提供耐潤版液和侵蝕性洗滌物質(zhì)性質(zhì)的聚合物材料公開在美國專利6,294,311(上述)中。特別有用的主要額外聚合物材料包括聚乙烯基縮醛，從N-取代環(huán)酰亞胺衍生的聚合物(特別是N-苯基馬來酰亞胺)，(曱基)丙烯酰胺(特別是甲基丙烯酰胺)，和(甲基)丙烯酸(特別是甲基丙烯酸)。優(yōu)選的這類聚合物材料是含有20-75重量％、優(yōu)選35-60重量％的從N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-千基馬來酰亞胺或其混合物衍生的重復(fù)單元，10-50重量％、優(yōu)選15-40重量％的從丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或其混合物衍生的重復(fù)單元，以及5-30重量％、優(yōu)選10-30重量％的從曱基丙烯酸衍生的重復(fù)單元。其它親水性單體，例如曱基丙烯酸羥己基酯，可以用于代替部分或全部甲基丙烯酰胺。其它堿溶性單體，例如丙烯酸，可以用于代替部分或全部曱基丙烯酸。任選地，這些聚合物也可以包含從(甲基)丙烯腈或N-[2-(2-氧基-l-咪唑基)乙基]甲基丙烯酰胺衍生的重復(fù)單元。這些聚合物材料能溶于乳酸甲酯/曱醇/二氧戊環(huán)(15:42.5:42.5重量％)混合物中，該混合物用作內(nèi)層的涂布溶劑。但是，它們?cè)谌軇├绫蜁醣街械娜芙庑圆?，這些溶劑可以作為溶劑用于在內(nèi)層上涂布外層，且不會(huì)溶解內(nèi)層。內(nèi)層也可以含有一種或多種次要額外聚合物材料，它們是具有活化的羥曱基和/或活化的烷基化羥甲基的樹脂。這些樹脂包括例如酚醛樹脂和它們的烷基化類似物，羥甲基蜜胺樹脂和它們的烷基化類似物(例如蜜胺-甲醛樹脂)，羥甲基甘脲樹脂和烷基化類似物(例如，甘脲-甲醛樹脂)，硫脲-曱醛樹脂，胍胺-曱醛樹脂，和苯并胍胺-甲醛樹脂。可從商業(yè)獲得的蜜胺-甲醛樹脂和甘脲-曱醛樹脂包括例如CYME1^樹脂(DynoCyanamid)和NIKALAC⑧沖對(duì)月旨(SanwaChemical)。具有活化的羥曱基和/或活化的烷基化羥曱基的樹脂優(yōu)選是酚醛樹脂或酚醛樹脂的混合物。酚醛樹脂是本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的。它們通過苯酚與醛在堿性條件下使用過量的苯酚制備?？蓮纳虡I(yè)獲得的酚醛樹脂包括例如GP649D99酚醛樹脂(GeorgiaPacific)。其它有用的主要額外聚合物材料包括這樣的共聚物，其含有1-30摩爾％、優(yōu)選3-20摩爾o/o的從N-苯基馬來酰亞胺衍生的重復(fù)單元，1-30摩爾％、優(yōu)選5-20摩爾％的從曱基丙烯酰胺衍生的重復(fù)單元，以及20-75摩爾％、優(yōu)選35-60摩爾％的從丙烯腈衍生的重復(fù)單元以及20-75摩爾％、優(yōu)選35-60摩爾％的從具有以下結(jié)構(gòu)(VIII)的一種或多種單體衍生的重復(fù)單元CH2-C(R3)-C02-CH2CH2-NH-CONH-/-C6H4-R2(Vlll)其中R2是OH、COOH或S。2NH2，R3是H或甲基，和任選地1-30摩爾％、優(yōu)選3-20摩爾％的從具有以下結(jié)構(gòu)(IX)的一種或多種單體衍生的重復(fù)單元CH2-C(Rs)-CO-NH-j>C6H4-R4(IX)其中R4是OH、COOH或S02NH2，Rs是H或甲基。其它有用的次要額外聚合物材料可以包括這樣的共聚物，其含有25-75摩爾。/o、優(yōu)選35-60摩爾o/。的從N-苯基馬來酰亞胺衍生的重復(fù)單元，10-50摩爾％、優(yōu)選15-40摩爾％的從甲基丙烯酰胺衍生的重復(fù)單元，和5-30摩爾％、優(yōu)選10-30摩爾的從曱基丙烯酸衍生的重復(fù)單元。這些次要額外共聚物公開在美國專利6,294,311和6,528,228(都如上所述)中。用于內(nèi)層中的主要和次要的額外聚合物材料可以通過本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的方法制備，例如自由基聚合，參見第20和21章，Macromolecules.第2巻，第2版，H.G.Elias,Plenum,NewYork,1984。有用的自由基引發(fā)劑是過氧化物，例如過氧化苯曱酰；氫過氧化物，例如氫過氧化枯烯；偶氮化合物，例如2,2，-偶氮二異丁腈(AIBN)。合適的反應(yīng)溶劑包括對(duì)反應(yīng)物呈惰性且不會(huì)不利影響反應(yīng)的液體。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，內(nèi)層還含有紅外輻射吸收性化合物("IR吸收性化合物，，)，其吸收在600-1200nm、優(yōu)選700-1200nm的輻射，最小吸收是300-600nm。這種化合物(有時(shí)稱為"光熱轉(zhuǎn)化材料")吸收輻射并將其轉(zhuǎn)化成熱。盡管一種聚合物材料可以本身含有IR吸收性結(jié)構(gòu)部分，但紅外輻射吸收性化合物通常是單獨(dú)的化合物。這種化合物可以是染料或顏料(包括碳黑)。有用的碳黑的例子是ProJet900、ProJet860和ProJet830(都來自ZenecaCorporation)。有用的顏料(包括碳黑)和特別有用的IR吸收性染料("IR染料")在上述關(guān)于單層可成像元件中描述。輻射吸收性化合物在多層可成像元件中的存在量一般是至少8重量%且最多30重量％,優(yōu)選8-25重量％,基于內(nèi)層的總干重計(jì)。給定的IR吸收性化合物的具體用量可以由本領(lǐng)域技術(shù)人員確定。內(nèi)層可以包括其它組分，例如表面活性劑、分散助劑、濕潤劑、殺微生物劑、粘度助劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑和著色劑。內(nèi)層一般具有0.5-2.5g/m2、優(yōu)選l-2g/n^的涂料干重量。上述聚合物材料一般占層總干重量的至少50重量％,優(yōu)選60-90重量％,并且此量可以根據(jù)存在的其它聚合物和化學(xué)組分變化。任何主要和次要額外聚合物材料(例如酚醛樹脂、酚樹脂或上述共聚物)的存在量可以是5-45重量％,優(yōu)選5-25重量％，基于內(nèi)層的總干重計(jì)?？沙上裨耐鈱臃植荚趦?nèi)層上，在優(yōu)選實(shí)施方案中，在內(nèi)層和外層之間沒有中間層。外層含有光穩(wěn)定的、水不溶的、能溶于堿性顯影劑的、能成膜的粘合劑材料，例如酚樹脂、聚氨酯樹脂和聚丙烯酸酯。外層一般基本不含紅外輻射吸收性化合物，表明這些化合物都沒有有目的地引入其中，可忽略量擴(kuò)散到其它層。特別有用的粘合劑材料例如描述在美國專利6,352,812(上述)、6,358,669(上述)、6,352,811(上述)、6,294,311(上述)、6,893,783(Kitson等)和6,645,689(Jarek)、美國專利專利申請(qǐng)2003/0108817(Patel等)和2003/0162,126(Kitson等)和WO2005/018934(Kitson等)中。特別有用的用于外層的成膜粘合劑材料是酚樹脂或含羥基的聚合物，其含有酚單體單元，可以是不同單體的無規(guī)、交替、嵌段或接枝共聚物，可以選自乙烯基苯酚、線型酚醛樹脂或酚樹脂。線型酚醛樹脂是優(yōu)選的。線型酴醛樹脂或酚樹脂可以使用常規(guī)原料(羥基芳烴和醛或酮)和反應(yīng)條件制備。重均分子量(Mw),使用凝膠滲透色鐠檢測(cè)，使用標(biāo)準(zhǔn)校準(zhǔn)和聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)，線型酚搭樹脂是500-150,000g/mol，更優(yōu)選1500-15,000g/mol。有用的聚乙烯基酚樹脂可以是一種或多種含羥基苯基單體的聚合物，例如羥基苯乙烯和羥基苯基(甲基)丙烯酸酯。其它不含幾基的單體可以與含羥基的單體共聚。這些樹脂可以通過在自由基引發(fā)劑或陽離子聚合引發(fā)劑存在下使用已知的反應(yīng)條件聚合一種或多種單體制備。這些聚合物的重均分子量(Mw),按照上迷對(duì)于線型酚醛樹脂檢測(cè)，線型酚醛樹脂是1000-200,000g/mol,更優(yōu)選1500-50,000g/mol。有用的含羥基的聚合物的例子包括ALNOVOLSPN452、SPN400、HPN100(ClariantGmbH),DURITEPD443,SD423A,SD126A(BordenChemical,Inc.)，BAKELITE6866LB02,AG,6866LB03(BakeliteAG),KR400/8(KoyoChemicalsInc.)、HRJ1085和2606(SchenectadyInternational,Inc.)和LyncurCMM(SiberHegner),所有都描述在美國專利申請(qǐng)2005/0037280(上述)中。特別有用的可以如上改進(jìn)的聚合物是PD-140,如下述對(duì)于實(shí)施例所述。還可以在外層中包括一種或多種"改性的"酚粘合劑樹脂，其含有酚重復(fù)單元，被下式結(jié)構(gòu)(Q)表示的基團(tuán)取代。一欲H2(Q)其中L1、1^2和1^各自獨(dú)立地表示連接基，T1、丁2和丁3各自獨(dú)立地表示端基，a、b和c各自是0或l。更特別的是，每個(gè)L1、17和！^各自獨(dú)立地是取代或未取代的具有1-4個(gè)碳原子的亞烷基(例如亞甲基、1，2-亞乙基、1,1-亞乙基、亞正丙基、亞異丙基、亞叔丁基和亞正丁基)，在環(huán)中具有5-7個(gè)碳原子的取代的亞環(huán)烷基(例如亞環(huán)戊基和1,4-亞環(huán)己基)，在芳環(huán)中具有6-10個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳基(例如1,4-亞苯基、亞萘基、2-曱基-1,4-亞苯基和4-氯-l,3-亞苯基)，或具有5-10個(gè)碳和一個(gè)或多個(gè)雜原子(氮、氧或硫原子)的取代或未取代的芳族或非芳族二價(jià)雜環(huán)基團(tuán)(例如亞吡咬基、亞吡。秦基、亞嗜咬基或亞p塞唑基)，或兩種或多種這些二價(jià)連接基的組合?；蛘撸琇^和I^一起可以表示必須的原子以形成碳環(huán)結(jié)構(gòu)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)。優(yōu)選，i;是碳-氫單鍵，或是亞曱基、亞乙基或亞苯基，！^和L各自獨(dú)立地是氫、甲基、乙基、2-羥基乙基或環(huán)狀-(CH2)20(CH2CH2)畫基團(tuán)。T1、f和丁3各自獨(dú)立地表示端基，例如氫，或取代或未取代的具有l(wèi)-10個(gè)碳原子的烷基(例如曱基、乙基、異丙基、叔丁基、正己基、曱氧基曱基、苯基甲基、羥基乙基和氯乙基)，取代或未取代的具有2-10個(gè)碳原子的鏈烯基(例如乙烯基和己烯基)，取代或未取代的炔基(例如乙炔基和辛炔基)，取代或未取代的環(huán)中具有5-7個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)戊基、環(huán)己基和環(huán)庚基)，取代或未取代的在環(huán)中具有碳原子和一個(gè)或多個(gè)雜原子的雜環(huán)基(都是芳族和非芳族的)(例如吡啶基、吡唑基、嘧啶基、噻唑基和吲咮基)，以及在芳環(huán)中具有6-10個(gè)碳原子的取代或未取代的芳基(例如苯基、萘基、3-甲氧基苯基、千基和4-溴苯基)?；蛘撸?和T3各自獨(dú)立地表示形成環(huán)結(jié)構(gòu)所需的原子，其可以含有稠合環(huán)。另外，當(dāng)a是0時(shí)，丁3不是氫。上述定義的L1、L2、L3、T1、丁2和T3可以被一個(gè)或多個(gè)取代基取代，例如曙OR11、-SR11、-CO陽OR11、-OCOR1、-COR11,-SC^R11,-S02R"、氰基、硝基、卣素、磷酸鹽、膦酸鹽、氨基、酰氨基、酰亞氨基、磺酰氨基，其中R"與上述f至f相似地定義。優(yōu)選，a是O,b和c各自是l。更優(yōu)選，a是O,f是氫。在另一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，丁2和/或丁3含有5-6元的雜芳基。這種改性的盼樹脂粘合劑可以通過酚單體單元與含有醛基的第一種化合物和含有胺基的第二種化合物反應(yīng)制備。有用的第一種化合物作為化合物AL-01至AL-20列在美國專利申請(qǐng)2005/0037280(上述)中。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，第一種化合物是曱酪、丙醛或苯甲眵。有用的胺化合物是直鏈或環(huán)狀的伯胺或仲胺，例如作為化合物AM-01至AM-27描述在美國專利申請(qǐng)2005/0037280(上述)中。優(yōu)選的胺化合物包括嗎啉、乙醇胺和千基胺。改性的酚樹脂粘合劑可以含有多于一種的取代結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)。不同的結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)可以連續(xù)引入或作為不同的笫一種和第二種化合物的混合物在與含羥基的聚合物反應(yīng)中引入。結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)的用量和類型僅僅受到所得改性酚樹脂粘合劑在堿性顯影劑中的溶解性影響。如果存在于外層中，則通常至少0.5mol。/。和最高50mol。/。改性酚樹脂粘合劑重復(fù)單元含有相同或不同的結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)。優(yōu)選，結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)的存在量是1-40摩爾％。上述結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)是改性酚樹脂粘合劑中的主要取代基。但是，一些在聚合物鏈中的結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)可以以季化形式存在，例如由于與強(qiáng)酸例如硫酸或鹽酸或與烷基卣的反應(yīng)而導(dǎo)致這種結(jié)果。雖然改性酚樹脂粘合劑可以是在外層中唯一的粘合劑材料，還優(yōu)選在外層中包括一種或多種不含結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)的(未改性)酚樹脂粘合劑與一種或多種含有結(jié)構(gòu)(Q)基團(tuán)的改性酚樹脂粘合劑的混合物。各種粘合劑材料的量可以優(yōu)化以提供在所得可成像元件中的所需性能。除了上述酚樹脂之外或代替上述酚樹脂，外層還可以含有非酚類聚合物材料作為成膜粘合劑材料。這些非酚類聚合物材料包括從馬來酸酐和一種或多種苯乙烯類單體形成的聚合物(也就是在苯環(huán)上具有各種取代基的苯乙烯和苯乙烯衍生物)，從曱基丙烯酸曱酯和一種或多種含羧基的單體形成的聚合物，以及它們的混合物。這些聚合物可以含有從上述單體以及從額外的任選單體衍生的重復(fù)單元[例如(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈和(曱基)丙烯酰胺]。從馬來酸酐衍生的聚合物一般含有1-50摩爾％的從馬來酸酐和其余從苯乙烯類單體和任選額外的可聚合單體衍生的重復(fù)單元。從曱基丙烯酸曱酯和含羧基的單體形成的聚合物一般含有80-98摩爾％的從曱基丙烯酸曱酯衍生的重復(fù)單元。含羧基的重復(fù)單元可以例如從丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸和本領(lǐng)域公知的相似單體衍生。在一些但不是全部實(shí)施方案中，外層還含有單體或聚合物，其包括苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物(diazide)結(jié)構(gòu)部分。聚合物可以是用苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分衍生化的酚樹脂，如美國專利5,705,308(West等)和5,705,322(West等)所述。也可以使用這些化合物的混合物。有用的這種聚合物的例子是P-3000，一種連苯三酚/丙酮樹脂的萘醌二疊氮化物(從PCAS購得，法國)。其它有用的含二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分的化合物例如描述在美國專利6,294,311(上述)和5,143,816(Mizutani等)中。具有苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分的單體或聚合物在外層中的存在量一般是至少5重量％,優(yōu)選10-50重量％,基于外層的總干重計(jì)。外層可以任選含有作為著色劑的額外化合物，可以用作堿溶性聚合物的溶解抑制性組分。這些著色劑一般具有極性官能團(tuán)，認(rèn)為這些官能團(tuán)用作在聚合物粘合劑中與各種基團(tuán)鍵合的氫的受體位。能溶于堿性顯影劑的著色劑是優(yōu)選的。有用的極性基團(tuán)包括但不限于重氮基團(tuán)、重氮镥基團(tuán)、酮基、磺酸酯基、磷酸酯基、三芳基曱烷基、錄基(例如硫錨、碘錄和磷餚基團(tuán))，其中氮原子被引入雜環(huán)的基團(tuán)，以及含有正電原子的基團(tuán)(例如季銨基)。其它細(xì)節(jié)和用作溶解抑制劑的代表性化合物參見例如美國專利6,294,311(上述)。特別有用的著色劑包括三芳基曱烷染料，例如乙基紫、晶體紫、孔雀石綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R和維多利亞純藍(lán)BO。這些化合物也可以用作對(duì)比染料，能分辨出在顯影的可成像元件中的非成像區(qū)和成像區(qū)。當(dāng)在外層中存在著色劑時(shí)，其量可以在寬范圍內(nèi)變化，但一般是至少0.1重量％且最多30重量％,優(yōu)選0.5-15重量％,基于外層的總干重計(jì)。外層可以任選地還含有印刷染料、表面活性劑、分散助劑、潤濕劑、殺微生物劑、粘度助劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑和抗氧化劑。外層一般具有0.2-lg/m2、優(yōu)選0.4-0.7g/m2的涂料干重量。雖然不是優(yōu)選的，但是可以在內(nèi)層和外層之間有單獨(dú)的層，且該層與內(nèi)層和外層接觸。這種單獨(dú)的層可以用作阻隔層以使輻射吸收性化合物從內(nèi)層向外層的遷移最少。這種單獨(dú)的"阻隔，，層一般含有能溶于堿性顯影劑的聚合物材料。如果這種聚合物材料與內(nèi)層中的聚合物材料不同，則優(yōu)選能溶于至少一種不能溶解內(nèi)層聚合物材料的有機(jī)溶劑中。優(yōu)選的這種聚合物材料是聚乙烯醇。一般，這種阻隔層的厚度應(yīng)當(dāng)小于內(nèi)層厚度的1/5,優(yōu)選小于內(nèi)層厚度的1/10。用到i材的表面:和、任何其它在其上的J水性表面)上、然后將外層配料施用到內(nèi)層上制備。重要的是避免內(nèi)層配料和外層配料的相互混合。內(nèi)層和外層可以通過將所需的組分分散或溶解在合適的涂料溶劑中，使用合適的設(shè)備和工序?qū)⑺玫呐淞享樞蚧蛲瑫r(shí)施用到基材上施用，例如旋涂、刮刀涂、凹版涂布、?？谕坎?、狹縫式涂布、棒涂、繞線棒涂布、輥涂或擠出料斗涂布。配料也可以通過噴涂到合適載體(例如正在印刷的印刷圓筒)上施用。用于涂布內(nèi)層和外層的溶劑的選擇取決于在配料中聚合物材料和其它組分的性質(zhì)。為了防止內(nèi)層和外層配料混合或當(dāng)施用外層配料時(shí)防止內(nèi)層溶解，外層配料應(yīng)當(dāng)從不能溶解內(nèi)層聚合物材料的溶劑涂布。一般，內(nèi)層配料從甲基乙基酮(MEK)、l-曱氧基-丙-2-醇、y-丁內(nèi)酷和水的溶劑混合物涂布，從二乙酮(DEK)、水、乳酸曱酯和y-丁內(nèi)酯的混合物涂布，或從DEK、水和乳酸曱酯的混合物涂布。外層配料一般從DEK或DEK和1-曱氧基-丙-2-醇丙酮的混合物涂布?；蛘?，內(nèi)層和外層可以通過常規(guī)擠出涂布方法從各層組合物的熔體混合物施用。通常，這些熔體混合物不含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。中間干燥步驟可以在各層配料的施用操作之間進(jìn)行，從而在涂布其它配料之前除去溶劑。干燥步驟也有助于防止各層的混合。制備本發(fā)明的多層可成像元件的代表性方法在下面的實(shí)施例2和3中描述。成像條件本發(fā)明的單層和多層的可成像元件可以具有任何有用的形式，包括但不限于印刷板前體、印刷圓筒、印刷套筒和印刷帶(包括柔性印刷網(wǎng))。優(yōu)選，這些可成像元件是印刷板前體。印刷板前體可以具有任何有用的尺寸和形狀(例如，正方形或長方形)，具有位于合適基材上的必要可成像層。印刷圓筒和套筒是已知的旋轉(zhuǎn)印刷元件，具有圓筒形式的基材和可成像層。中空或?qū)嵭牡慕饘俸丝梢杂米饔∷⑻淄驳幕摹Ｔ谑褂闷陂g，單層和多層的可成像元件暴露于合適的輻射源，例如波長為300-1400nm的UV、可見光或紅外輻射，這取決于在輻射敏感組合物中存在的輻射吸收性化合物。優(yōu)選，成像使用紅外激光在700-1200nm的波長進(jìn)行。用于暴露成像元件的激光優(yōu)選是二極管激光，因?yàn)槎O管激光系統(tǒng)的可靠性和低保養(yǎng)費(fèi)用，但是也可以使用其它的激光例如氣體或固態(tài)激光。對(duì)于激光成像的功率、強(qiáng)度和暴露時(shí)間的組合對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見的。目前，在商購圖象固定器中的高能激光或激光二極管發(fā)射出800-850nm或1060-1120nm的紅外輻射。成像設(shè)備可以僅僅用作板設(shè)置器，或可以直接引入到石印工藝中。在后一種情況下，印刷可以在成像后立即開始，從而顯著降低印版設(shè)置時(shí)間。成像設(shè)備可以設(shè)計(jì)成平床記錄器或鼓式記錄器，其中將可成像元件安裝到鼓的內(nèi)部或外部圓筒表面。有用的成像設(shè)備可作為來自EastmanKodakCompany的CreoTrendsetter圖象i殳置器(Burnaby,BritishColumbia,Canada),其含有激光二極管，能發(fā)射波長為830nm的近紅外輻射。其它合適的成像源包括在1064nm的波長操作的Crescent42TPlatesetter(來自GerberScientific,Chicago,IL)和ScreenPlateRite4300系列或8600系列板式設(shè)置器(來自Screen,Chicago,IL)。其它有用的輻射源包括直接成像機(jī)，可以用于成像元件并與印刷板圓筒連接。合適的直接成像印刷機(jī)的例子包括HeidelbergSM74-DI機(jī)(來自Heidelberg,Dayton，OH)。成像速度可以在50-1500mJ/cm2的范圍內(nèi)，更特別是75-400mJ/cm2。雖然激光成像在本發(fā)明實(shí)踐中是優(yōu)選的，但是成像可以通過任何其它能以圖象方式提供熱能的方法提供。例如，成像可以使用熱蝕刻頭(熱印刷頭)完成，稱為"熱印刷"，例如描述在美國專利5,488,025(Martin等)中。熱印刷頭可以商購(例如FujitsuThermalHeadFTP-040MCSOOl和TDKThermalHeadF415HH7-1089)。成像一般通過直接數(shù)字成像進(jìn)行。圖象信號(hào)作為二進(jìn)位數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中。這些文件可以由窄平行光柵圖象處理器(RIP)或其它合適的措施產(chǎn)生。二進(jìn)位設(shè)計(jì)成定義顏色色調(diào)以及屏幕頻率和角度?？沙上裨某上癞a(chǎn)生了成像元件，其含有成像(曝光)和非成像(未曝光)區(qū)的潛在圖象。用合適的堿性顯影劑使成像元件顯影，除去了最外層和在其下的層(包括內(nèi)層)的曝光區(qū)域，并使基材的親水性表面曝光。因此，這些可成像元件是"正性工作"(例如"正性工作，，石印板前體)的。親水性表面的曝光(或成像)區(qū)域排斥油墨，同時(shí)外層的未曝光(或非成像)區(qū)域接受油墨。當(dāng)未曝光(或非成像)區(qū)域被除去并保持曝光(成像)的區(qū)域，可成像元件是"負(fù)性工作"的。對(duì)于正性工作更特別的是，顯影進(jìn)行足以除去外層和下層的成像(曝光)區(qū)域的時(shí)間，但不長到足以除去外層的非成像(未曝光)區(qū)域。因此，外層的成像(曝光)區(qū)域描述為在堿性顯影劑中是"可溶的"或"可除去的，，，因?yàn)榕c外層的非成像(未曝光)區(qū)域相比，它們?cè)趬A性顯影劑中更容易被除去、溶解或分散。因此，術(shù)語"可溶的"也表示"可分散的"。成像元件一般使用常規(guī)工藝條件顯影。含水的堿性顯影劑和基于溶劑的堿性顯影劑都可以使用，后一種類型的堿性顯影劑是優(yōu)選的。含水的堿性顯影劑一般具有至少7的pH,優(yōu)選至少11。pH較高的堿性顯影劑一般最好用于單層元件。有用的含水堿性顯影劑包括3000Developer,9000Developer,GOLDSTARDeveloper,GREENSTARDeveloper,The腿lProDeveloper,PROTHE固Developer,MX1813Developer,和MX1710Developer(都來自KodakPolychromeGraphics,是EastmanKodakCompany的子公司)。這些組合物還通常包含表面活性劑、螯合劑(例如乙二胺四乙酸的鹽)和堿性組分(例如無機(jī)偏硅酸鹽、有機(jī)偏硅酸鹽、氫氧化物和碳酸氬鹽)?；谌軇┑膲A性顯影劑一般是一種或多種能與水混溶的有機(jī)溶劑的單相溶液。有用的有機(jī)溶劑是苯酚與環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物[例如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)]、千基醇，乙二醇或丙二醇與具有6或更少的碳原子的酸形成的酯，以及乙二醇、二甘醇或丙二醇的具有6或更少的碳原子的醚，例如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有機(jī)溶劑的存在量一般是0.5-15%,基于顯影劑總重量計(jì)。代表性的溶劑基堿性顯影劑包括ND-IDevd叩er、955Developer和956Developer(來自KodakPolychromeGraphics,是EastmanKodakCompany的子公司)。一般，通過用含顯影劑的涂布器摩擦或擦拭外層而將堿性顯影劑施用到成像元件上?；蛘撸上裨梢杂蔑@影劑刷涂，或顯影劑可以通過用足夠的力噴涂外層來施用以除去曝光區(qū)域。另外，成像元件可以浸入顯影劑中。在所有情況下，顯影的圖象在具有優(yōu)異耐環(huán)境化學(xué)品性的石印板中產(chǎn)生。在顯影之后，成像元件可以用水洗滌并按照合適的方式干燥。干燥的元件也可以用常身見膠溶液處理(優(yōu)選阿4立伯膠)。成像和顯影的元件也可以以后烘烤方式烘烤，從而提高所得成像元件的操作壽命。烘烤可以例如在220-240。C的溫度進(jìn)行7-10分鐘或在120。C進(jìn)行30分鐘。印刷可以通過將石印油墨和潤版液施用到成像元件的印刷表面上進(jìn)行。油墨被外層的非成像(未曝光或未除去)區(qū)域吸收，潤版液被由成像和顯影工藝暴露的基材親水性表面吸收。油墨然后被轉(zhuǎn)移到合適的接收材料上(例如布、紙、金屬、玻璃或塑料)以提供所需的圖象痕跡。如果需要的話，中間"轉(zhuǎn)印布"輥可以用于將油墨從成像元件轉(zhuǎn)移到接收材料。成像元件可以在痕跡之間清潔，如果需要的話，使用常規(guī)清潔方式和化學(xué)品進(jìn)行。以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不限制本發(fā)明。在實(shí)施例和分析方法中使用的組分和材料如下所示MEK是曱基乙基酮。DEK是二乙基酮。DAA是二丙酮醇。BLO是y-丁內(nèi)酯BC是2-丁氧基乙醇(ButylCELLOSOLVE)。PGME是l-曱氧基丙-2-醇(或DowanolPM)956Developer是一種有機(jī)溶劑基(苯氧基乙醇)堿性顯影劑(KodakPolychromeGraphics,Norwalk，CT,USA,是EastmanKodakCompany的子公司).GoldstarPlusDeveloper是一種含偏硅酸鹽的顯影劑，來自KodakPolychromeGraphics.。IRDyeA來自EastmanKodakCompany并由下式表示IRDyeAIRDyeB由下式表示:IRDyeB<formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>乙基紫是C丄42600(CAS2390-59-2，Xmax=596nm),具有式(p畫(CH3CH2)2NC6H4)3C+CI-(AldrichChemicalCompany,Milwaukee,WI,USA)。Basonyl紫是BasicViolet3,Xmax=588nm(AldrichChemicalCo.)。P3000是1,2-萘醌-5-石黃酰氯與鄰苯三酚丙酮縮合物的反應(yīng)產(chǎn)物(PCAS,Longjumeau,France)。PD-140是曱酚/甲醛朌醛清漆樹脂(75:25間甲酚/對(duì)甲盼)(BordenChemical,Columbus,OH,USA)。LB6564是苯酚/曱酚清漆酚醛樹脂(來自Rutgers-PlencoLLC,Sheboygan,Wisconsin。PD494是m/p-曱酚清漆酚醛樹脂(來自BordenChemical)。Durez33816是甲酚型酚醛清漆樹脂(來自Durez-Sumitomo,GrandIsland,NY)。Byk307是聚乙氧基化二曱基聚硅氧烷共聚物，來自BykChemie(Wallingford，CT),是25重量％二甲苯/曱氧基丙基乙酸酯溶液的形式。XDSA是4,6-二曱基-N,N'-二苯基-l,3-苯二磺酰胺。KP654b是2-[2-[2-氯-3-[(1,3-二氫-1,3,3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)亞乙基]-l-環(huán)己烯-l-基]乙烯基]-l,3,3-三甲基-3H-溴化吲哚錄(來自HoneywellSpecialtyChemicals,Morristown,NJ)。SilikophenP50X是苯基甲基聚硅氧烷(來自TegoChemieService,Essen,Germany)。制備以下聚合物并用于以下實(shí)施例中聚合物A的合成將2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN,0.2g)、N-苯基馬來酰亞胺(PMI,6g))、丙烯腈(8g)、曱基丙烯酰胺(3g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(3g)和N,N-二曱基乙酰胺(DMAC,80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0。C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)。在室溫保持72小時(shí)后，加入AIBN(O.lg),將反應(yīng)混合物加熱回60°C,并再攪拌5小時(shí)。將反應(yīng)溶液IC'f曼滴入正丙醇(400ml)中，形成沉淀物。過濾和用另外200ml正丙醇進(jìn)行洗滌。在過濾和在低于5(TC干燥后，得到18.0g的粘性固體(聚合物A),此固體溶解在82gDMAC中備用。聚合物B的合成將AIBN(0.4g)、PMI(16g)、丙烯腈(20g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(4g)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0。C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(O.lg)，并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有27%的聚合物B,并直接用于涂料配料中。聚合物C-1(非粉末)的合成將AIBN(0.25g)、PMI(6g)、丙烯腈(9.6g)、曱基丙烯酸(2.4g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(2g)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟凇⒒旌衔锛訜岬?0。C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(0.1g),并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有18%的聚合物C-l，并直接用于涂料配料中。聚合物C-2(粉末)的合成將AIBN(0.75g)、PMI(18g)、丙烯腈(28.8g)、甲基丙烯酸(7.2g)、乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(6g)和DMAC(240g)放入500-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟凇⒒旌衔锛訜岬?(TC，并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(0.2g),并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有20%的聚合物C,并緩慢滴入2000ml的正丙醇中，形成沉淀物。過濾和用另外400ml正丙醇進(jìn)行洗滌。在過濾和在低于5(TC干燥后，得到31g的固體聚合物C-2。聚合物D的合成將A舊N(0.4g)、PMI(12g)、丙烯腈(24g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(化)和DMAC(80g)放入"0-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?(TC,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(O.lg)，并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有26%的聚合物D,并直接用于涂料配料中。聚合物E的合成將AIBN(0.5g)、PMI(22.5g)、曱基丙烯酰胺(3g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(4.5g)和DMAC(70g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0°C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌過夜。反應(yīng)混合物含有30。/。的聚合物E,并直接用于涂料配料中。聚合物F的合成將AIBN(0.4g)、PMI(10.5g)、丙烯腈(15g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(4.5g)和DMAC(70g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?(TC,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(O.lg),并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有30%的聚合物F,并直接用于涂料配料中。聚合物G的合成將AIBN(0.25g)、PMI(6g)、丙烯腈(9.6g)、曱基丙烯酰胺(1.4g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(3g)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0。C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌6小時(shí)，然后加入AIBN(0.1g),并繼續(xù)反應(yīng)過夜。反應(yīng)混合物含有19%的聚合物G,并直接用于涂料配料中。聚合物H的合成將AIBN(0.25g)、PMI(7g)、曱基丙烯酸(2.4g)、乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(lg)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟凇⒒旌衔锛訜岬?(TC,在3小時(shí)內(nèi)分4份向燒瓶加入丙烯腈(9.6g),然后加入AIBN(O.lg),并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌過夜。反應(yīng)混合物含有18。/。的聚合物H,并直接用于涂料配料中。聚合物I的合成將AIBN(0.25g)、PMI(7g)、丙烯腈(10g)、甲基丙烯酸(3g)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0°C，并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌過夜。檢測(cè)到19.1%的固含量。將溶液在1L水中沉淀，過濾固體，并在50°C干燥5小時(shí)。得到聚合物IU7g)。聚合物J的合成將AIBN(0.4g)、PMI(14g)、甲基丙烯酸(3g)、乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(3g)和DMAC(60g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟凇⒒旌衔锛訜岬?(TC,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌過夜。檢測(cè)到20.1°/0的固含量。將溶液在1L水中沉淀，過濾固體，并在5(TC干燥5小時(shí)。得到聚合物J(18g)。聚合物K的合成將AIBN(0.4g)、丙烯腈(18g)、乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(2g)和DMAC(80g)放入250-ml三頸燒瓶中，該燒瓶配備有磁力攪拌、溫度控制器和氮?dú)馊肟?。將混合物加熱?0°C,并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下攪拌過夜。反應(yīng)混合物含有20%的聚合物K,并直接用于涂料配料中。中間體I的合成DMAC(115.7g)和1-金剛烷胺(25g,0.1653當(dāng)量)加入500ml兩頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟凇⒎磻?yīng)混合物加熱到90°C，直到溶液變透明。然后冷卻到室溫，在30分鐘內(nèi)滴加入24.36g曱基丙烯酸異氰酸酯基乙基酯(IEM,0.1570當(dāng)量)。反應(yīng)放熱達(dá)到46。C,IO分鐘后冷卻到35°C。然后將反應(yīng)混合物再攪拌1小時(shí)。反應(yīng)的完成通過使用IR光語檢測(cè)異氰酸酯基在2275cm—1(UR4446)處消失來確認(rèn)。質(zhì)子NMR(在DMSO-d6中)5(ppm)1.50-2.00(18H,m),3.19(2H,quartet),3.98(2H，t)，5.60(1H，s),5.65(1H，s),5.77(1H，t)，和6.02(1H，s)。NMR光語也顯示在1.92,2.74和2.90ppm處的溶劑二甲基乙酰胺峰。聚合物L(fēng)的合成將DMAC(172.66g)、中間體I(11g,30%NV)、丙烯腈(6g)、PMI(1.5g)、曱基丙烯酸(1.2g)和AIBN(0.125g,Vazo-64,來自D叩ontdeNemoursCo)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。在氮?dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到8CTC。然后，在2小時(shí)內(nèi)于80。C加入含有中間體I(34g，30%NV)、丙烯腈(18g)、N-PMI(6g)、甲基丙烯酸(3,8g)和AIBN(0.25g，Vazo-64)的預(yù)混物。添加結(jié)束之后，加入0.4g的AIBN。反應(yīng)再在8(TC繼續(xù)14小時(shí)，并在此期間再加入0.4gAIBN。聚合物轉(zhuǎn)化率是〉98%,基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.1%非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是1"(G.H'33),約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在6000RPM使用4500g水及1500g水將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，產(chǎn)物聚合物L(fēng)使用干燥烘箱(來自InterMetroIndustriesCorporation,PA)在4(TC干燥。最終的聚合物酸值是65.0mg/KOH。單體中間體I/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/甲基丙烯酸的重量比是27/48/15/10。聚合物L(fēng)的結(jié)片勾^r下戶斤示聚合物M的合成將DMAC(170.5g)、中間體I(5.5g,30%NV)、丙烯腈(5.25g)、PMI(2.5g)、曱基丙烯酸(1.25g)和AIBN(0.125g，Vazo-64)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。在氮?dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到8(TC。然后，在2小時(shí)內(nèi)于80。C加入含有中間體I(34g，30%NV)、丙烯腈(15g)、PMI(7.5g)、曱基丙烯酸(5g)和AIBN(0.25g，Vazo-64)的預(yù)混物。添加結(jié)束之后，加入0.4g的AIBN,反應(yīng)在8CTC再進(jìn)行14小時(shí)。在反應(yīng)期間，再分兩次加入AIBN(0.4g)。聚合物轉(zhuǎn)化率是>98%，基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.0。/。非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是"A"(G.H'33),約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在6000RPM使用4500g水&1500g水將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，固體產(chǎn)物使用干燥烘箱在40。C干燥。最終的聚合物酸值是80.70mg/KOH。中間體I/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/曱基丙烯酸的重量比是27/40.5/20/12.5。聚合物N的合成將DMAC(170.5g)、中間體I(5.5g,30%NV)、丙烯腈(6.0g)、PMI(3.25g)、曱基丙烯酸(1.25g)和AIBN(0.125g,Vazo-64)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。在氮?dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到8(TC。然后，在2小時(shí)內(nèi)于80。C加入含有中間體I(34g,30%NV)、丙烯腈(18g)、PMI(9.75g)、甲基丙烯酸(5.0g)和AIBN(0.25g，Vazo-64)的預(yù)混物。添加結(jié)束之后，加入0.4g的AIBN,反應(yīng)在8CTC再進(jìn)行14小時(shí)，在此期間加入AIBN(0.5g)。聚合物轉(zhuǎn)化率是〉98%，基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.0%非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是"A"(G.H'33)，約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在6000RPM使用4500g水61500g冰將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，產(chǎn)物使用干燥烘箱在40。C干燥。最終的聚合物酸值是80.70mg/KOH。中間體1/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/曱基丙烯酸的重量比是13.5/48/26/12.5。中間體II的合成DMAC(115.4g)和1-金剛烷醇(25g,0.1642當(dāng)量)、二月桂酸二丁錫(0.25g)和甲氧基苯酚(O.lOg)加入250ml三頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。將反?yīng)混合物加熱到6(TC。所得溶液是透明的。然后在60分鐘內(nèi)滴加入甲基丙烯酸異氰酸酯基乙基酯(24.20g，0.1560當(dāng)量)。反應(yīng)混合物于65。C再攪拌8小時(shí)。反應(yīng)的完成通過使用IR光鐠檢測(cè)異氰酸酯基在2275cm"處消失來確認(rèn)。質(zhì)子NMR(在DMSO-d6中)5(ppm)1.40-2.10(18H,m),3.16(2H,quartet),4.01(2H,t),5.63(1H，s),6.02(1H,s)和6.98(1H，t)。NMR光i普也顯示在1.92,2.74和2.90ppm處的溶劑DMAC峰。聚合物O的合成將DMAC(170.5g)、中間體II(11.0g,30%NV)、丙晞腈(5.25g)、PMI(2.5g)、甲基丙烯酸(1.25g)和A舊N(0.125g，Vazo-64)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。在氮?dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到80。C。然后，在2小時(shí)內(nèi)于80。C加入含有中間體n(34g,30%NV)、丙烯腈(15.0g)、PMI(7.5g)、甲基丙烯酸(5.0g)和AIBN(0.25g，Vazo-64)的預(yù)混物，然后加入0.4g的AIBN。反應(yīng)在8CTC再繼續(xù)進(jìn)行14小時(shí)，在此期間加入0.70g的AIBN。聚合物轉(zhuǎn)化率是〉980/。，基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.0%非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是'言A"(G.H'33)，約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在6000RPM使用4500g水&1500g冰將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，產(chǎn)物使用干燥烘箱在4(TC干燥。最終的聚合物酸值是80.7mg/KOH。中間體11/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/甲基丙烯酸的重量比是27/40.5/20/12.5。聚合物的結(jié)構(gòu)如下所示聚合物P的合成將DMAC(170.5g)、中間體II(5.5g,30%NV)、丙烯腈(6.0g)、PMI(3.25g)、曱基丙烯酸(1.25g)和AIBN(0.125g，Vazo-64)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。在氮?dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到8(TC。然后，在2小時(shí)內(nèi)于8(TC加入含有中間體IK17.0g,30%NV)、丙烯腈(18.0g)、PMI(9.75g)、曱基丙烯酸(5.0g)和AIBN(0.25g,Vazo-64)的預(yù)混物，然后加入0.4g的AIBN,反應(yīng)在8(TC再進(jìn)行14小時(shí)，在反應(yīng)期間加入AIBN(0.35g)。聚合物轉(zhuǎn)化率是〉98%,基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.0。/Q非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是"A"(G.H'33),約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在6000RPM使用4500g水A1500g冰將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，產(chǎn)物使用干燥供箱在4(TC干燥。最終的聚合物酸值是80.7mg/KOH。中間體11/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/甲基丙烯酸的重量比是13.5/48/26/12.5。中間體III的合成DMAC(103.4g)和一又丁胺(14.83g,0.2當(dāng)量)加入250ml三頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟?。然后?0分鐘內(nèi)在室溫滴加入曱基丙烯酸異氰酸酯基乙基酯(29.5g,0.19當(dāng)量)。反應(yīng)放熱達(dá)到37。C,10分鐘后加熱到4(TC。反應(yīng)混合物再攪拌1小時(shí)。反應(yīng)的完成通過使用IR光語檢測(cè)異氰酸酯基在2275cm"處消失來確認(rèn)。聚合物Q的合成將DMAC(170.5g)、中間體III(11.0g,30%NV)、丙烯腈(5.25g)、PMI(2.5g)、甲基丙烯酸(1.25g)和AIBN(0.125g,Vazo隱64)加入500ml四頸玻璃燒瓶中，該燒瓶配備有加熱套、溫度控制器、磁力攪拌器、冷凝器、等壓加料漏斗和氮?dú)馊肟凇Ｔ诘獨(dú)夥障聦⒎磻?yīng)混合物加熱到80°C。然后，在2小時(shí)內(nèi)于8(TC加入含有中間體III(34.0g,30%NV)、丙烯腈(15.0g)、PMI(7.5g)、甲基丙烯酸(5.0g)和AIBN(0.25g,Vazo-64)的預(yù)混物。添加結(jié)束之后，再加入0.4g的AIBN。反應(yīng)在80。C再繼續(xù)進(jìn)行14小時(shí)，在此期間加入1.2g的AIBN。聚合物轉(zhuǎn)化率是〉98%,基于非揮發(fā)性物質(zhì)的百分比確定。在20.0%非揮發(fā)物質(zhì)下的溶液粘度是"A"(G.H'33),約50cps。用來自Silverston(Model#L4RT-A)的多用途高剪切實(shí)驗(yàn)室混合物在4000RPM使用4500g水&1500g冰將樹脂溶液以粉末形式沉淀。溶液然后過濾，產(chǎn)物^吏用干燥烘箱在40。C干燥。最終的聚合物酸值是80.7mg/KOH。中間體III/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺/曱基丙烯酸的重量比是27/40.5/20/12.5。聚合物的結(jié)構(gòu)如下所示實(shí)施例1:正性工作的單層可成像元件通過將下表I中所列的配料1、2、3、4、5a和5b的組分溶解在溶劑中制備單層可成像元件。為了對(duì)比，配料l、2和3含有10%耐溶劑性粘合劑(聚合物A-C),而配料4、5a和5b不包含這些粘合劑。<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>用Meyer棒所有配料涂在同一批次的?；㈥枠O化的鋁上，得到在所有元件上的干涂布重量為1.5g/m2。溶劑通過在123。C干燥50秒來除去。在可成像元件涂布和干燥之后，將它們?cè)?5。C和80。/。RH相對(duì)濕度下調(diào)節(jié)72小時(shí)。在調(diào)節(jié)之后，可成像元件使用常規(guī)CreoTrendsetter3244(CreoInc.Burnaby,BritishColumbia,Canada)成4象，然后在Americas處J里器(KodakPolychromeGraphics)的水銀中在750mm/min的處理速度下在23。C顯影，其中含有商購的GoldstarPlus顯影劑。數(shù)字成像速度和可成像元件的耐溶劑性使用以下方法測(cè)定。結(jié)果列在下表II中。板的數(shù)字成像速度限定在曝光水平(單位是mJ/cm2),要求清除50%十字板圖案，使用D196密度計(jì)檢測(cè)(GretagMacBeth，Regensdorf,Switzerland)。耐溶劑性通過讀取在浸入濃縮潤版液中8小時(shí)之前和之后的固體表面上的AOD(△光學(xué)密度)檢測(cè)。濃縮潤版液含有6%的AstroMark3自來水添加劑(NikkenChemicalLtd.,Tokyo,Japan)、10%的異丙醇(Sigma-AldrichStLouis,MO)和84。/。的通過反滲透提純的水。表II<table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table>結(jié)果顯示，在配料1-3中使用所有三種聚合物A、B和C改進(jìn)了所得涂料的耐溶劑性(也就是，在浸泡在潤版液中之前和之后的OD變化很小)。實(shí)施例2:正性工作的多層可成像元件多層可成像元件如下制備底層(內(nèi)層)通過將本發(fā)明聚合物(6.0137g，表III)溶解在BLO(9.27g)、PGME(13.9g)、MEK(60.26g)和水(9.27g)的溶劑混合物中制備涂料配料。然后向此溶液中加入IRDyeA(1,06g)，隨后加入BYK307(0.211g)。所得的溶液布在鋁基材上，達(dá)到1.5g/m2的干涂料重量。頂層(外層)將P-3000(1.5025g)、PD-MO(3.4685g)、乙基紫(0.014g)、BYK307(0.149g)在DEK(85.38g),口丙酉同(9.48g)中的涂料配料涂在底層(外層)上，得到0.5g/n^的干涂料重量?？沙上裨粺岢上竦匠Ｒ?guī)CreoTrendsetter3244(CreoProducts,Burnaby,BC,Canada)上，其具有激光二極管排列，在830nm發(fā)射，并具有80-140mJ/cm2的各種曝光功率。曝光的元件使用9%Devel叩er(KodakPolychromeGraphics,Norwalk,CT,USA)顯影。除去曝光區(qū)域以顯現(xiàn)出親水性基材。含有聚合物A、C-l、C-2和H的元件顯示在顯影后在<120mJ/cm2的良好圖象。也觀察"顯影劑清除時(shí)間"(也就是，當(dāng)施用顯影劑時(shí)，完全或部分除去內(nèi)層且不存在外層的時(shí)間)。通過以下方法檢測(cè)在內(nèi)部含有各種聚合物的元件的耐溶劑性和熱烘烤性，結(jié)果列在表III中。(a)BC滴落實(shí)驗(yàn)將丁基溶纖劑溶液(80%水溶液)以最大15分鐘的有規(guī)則間隔滴在內(nèi)層表面上。使用的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)是優(yōu)異(在達(dá)到15分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，良好(達(dá)到IO分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，差(在5分鐘內(nèi)有明顯的涂料損傷)。(b)DAA滴落實(shí)驗(yàn)將雙丙酮醇溶液(80%水溶液)以最大15分鐘的有規(guī)則間隔滴在內(nèi)層表面上。使用的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)是優(yōu)異(在達(dá)到15分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，良好(達(dá)到10分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，差(在5分鐘內(nèi)有明顯的涂料損傷)。(c)熱烘烤性實(shí)驗(yàn)將一種PS板圖象清除劑PE-35(來自DIC,曰本)以最大5分鐘的有規(guī)則間隔涂到已經(jīng)在23(TC烘烤8分鐘的內(nèi)層表面上。使用的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)是優(yōu)異(在達(dá)到5分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，良好(達(dá)到1分鐘時(shí)沒有明顯的涂料損傷)，差(在1分鐘內(nèi)有明顯的涂料損傷)。表in<table>tableseeoriginaldocumentpage47</column></row><table>生的重復(fù)單元的聚合物提供改進(jìn)的耐溶劑性和熱烘烤性。考慮所有三種性能，即顯影性、耐化學(xué)品性和熱煤烤性，聚合物C-l和C-2是用于內(nèi)層中的最好聚合物。實(shí)施例3:正性工作的多層可成像元件多層可成像元件如下制備底層(內(nèi)層)通過將上述本發(fā)明聚合物(6.0137g,表IV)溶解在BLO(9.27g)、PGME(13.9g)、MEK(60.26g)和水(9.27g)的溶劑混合物中制備涂料配料。然后向此溶液中加入IRDyeA(1.06g)隨后加入BYK307(0.211g)。所得的溶液布在鋁石印基材上，達(dá)到1.5g/r^的干涂料重量。頂層(外層)將P-3000(1.5025g)、PD-140(3.4685g)、乙基紫(0.014g)、BYK307(0.149g)在DEK(85.38g)禾口丙酉同(9.48g)中的涂料配料涂在底層(內(nèi)層)上，得到0.5g/n^的干涂料重量。所得的可成像元件被熱成像到CreoTrendsetter3244(CreoProducts,Burnaby,BC,Canada)上，其具有激光二極管排列，在830nm發(fā)射，并具有100-200mJ/cm2的各種曝光功率。曝光的元件使用956Developer(KodakPolychromeGraphics,Norwalk,CT,USA)顯影。除去曝光區(qū)域以顯現(xiàn)出親水性基材。含有聚合物L(fēng)、M、N、O、P和Q的元件顯示在顯影后在140-180mJ/cn^的良好圖象。也觀察"顯影劑清除時(shí)間"(也就是，當(dāng)施用顯影劑時(shí)，完全或部分除去內(nèi)層且不存在外層的時(shí)間)。通過以下方法檢測(cè)在含有聚合物L(fēng)-Q的元件的耐溶劑性和熱烘烤性，結(jié)果列在表IV中。實(shí)驗(yàn)如實(shí)施例2所述進(jìn)行。表IV<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>劑性并同時(shí)保持所需的熱烘烤性。'^^、zB八'''實(shí)施例4:負(fù)性工作的多層可成像元件涂料配料通過將0.58g的聚合物N、0.69g的聚氨酯丙烯酸酯(UR3447，(通過Desmodur100與丙烯酸羥乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯反應(yīng)制備)、0.12g的Sartomer355(二三羥甲基丙烷四丙烯酸酯，SartomerCo.,Inc.,)、0.068g的2-(4-甲氧基苯基)-4,6-二(三氯曱基)-2-三。秦、0.036g的N-苯基亞氨基二乙酸、0.023g的IRDyeB、0.017g的晶體紫(PCAS,Longjumeau,France)和0.03g的10%Byk307溶解在8.16g的PGME、8.21g的MEK和1.85g的BLO中制備。用上述配料涂布已經(jīng)用氟化磷后處理的電化學(xué)?；完枠O化的鋁基材，從而提供干涂料重量為約1.2g/m2的內(nèi)層。涂料配料使用繞線棒涂布，然后在Ranar轉(zhuǎn)換爐中在約90。C干燥約30秒停留時(shí)間。外層配料通過將16.3g的9.7%Airvol203(一種聚乙烯醇)水溶液、1.39g的20%聚乙烯基咪唑水溶液、1.18g的2-丙醇和11.1g的水混合制備。將此配料按照與內(nèi)層配料相似的方式涂布，前提是得到具有約0.8g/m2的干涂料重量的兩層元件。所得的可成像元件(即，印刷板前體)被放到CREOTrendsetter3244x圖象固定器(Creo,Burnaby，BritishColumbia,Canada,EastmankodakCompany的子公司)上，并暴露于80-420mJ/cm2成像功率下的830nmIR激光。所得的印刷板然后在956Developer(KodakPolychromeGraphics,Norwalk,CT制造)中于25。C顯影。在曝光區(qū)域中得到了強(qiáng)的實(shí)心圖象，成像功率是約250mJ/cm2。實(shí)施例5:負(fù)性工作的多層可成像元件涂料配料通過將0.58g的聚合物P、0.69g的UR3447、0.12g的Sartomer355、0.068g的2-(4-曱氧基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-2-三。秦、0.036g的N-苯基亞氨基二乙酸、0.023g的IRDyeB、0.017g的晶體紫(PCAS,Longjumeau，F(xiàn)rance)和0.03g的10%Byk307溶解在8.16g的PGME、8.21g的MEK和1.85g的BLO中制備。4姿照實(shí)施例4所述的方式，用上述配料涂布已經(jīng)用氟化磷后處理的電化學(xué)?；完枠O化的鋁基材，從而提供干涂料重量為約1.2g/n^的內(nèi)層。外層配料通過將16.3g的9.7°/。Airvol203水溶液、1.39g的20%聚乙烯基咪唑水溶液、1.18g的2-丙醇和11.1g的水混合制備。將此配料按照相似的方式涂布，得到具有約0.8g/n^的外層干涂料重量的兩層可成像元件。所得的可成像元件如實(shí)施例4所述進(jìn)行成像和顯影。在曝光區(qū)域中得到了強(qiáng)的實(shí)心圖象，成像功率是約250mJ/cm2。實(shí)施例6:負(fù)性工作的多層可成像元件涂料配料通過將0.58g的聚合物C-2、0.69g的UR3447、0.12g的Sartomer355、0.068g的2-(4-甲氧基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-2-三。秦、0.036g的N-苯基亞氨基二乙酸、0.023g的IRDyeB、0.017g的晶體紫(PCAS,Longjumeau,France)和0.03g的10%Byk307溶解在8.16g的PGME、8.21g的MEK和1.85g的BLO中制備。按照實(shí)施例4所述的方式，用上述配料涂布已經(jīng)用氟化磷后處理的電化學(xué)?；完枠O化的鋁基材，從而提供干涂料重量為約1.2g/n^的內(nèi)層。外層配料通過將16.3g的9.7%Airvol203水溶液、1.39g的20%聚乙烯基咪唑水溶液、1.18g的2-丙醇和11.1g的水混合制備。將此外層配料按照相似的方式涂布，得到具有約0.8g/n^的外層干涂料重量的兩層可成像元件。所得的可成像元件如實(shí)施例4所述進(jìn)行成像和顯影。在曝光區(qū)域中得到了弱圖象，成像功率是約400mJ/cm2。權(quán)利要求1.一種可成像的元件，其含有基材和位于基材上的可成像層，所述元件進(jìn)一步含有輻射吸收性化合物和耐溶劑聚合物，所述聚合物含有聚合物主鏈和磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，前提是金剛烷基側(cè)基經(jīng)由脲或氨酯連接基與所述聚合物的主鏈連接。2.權(quán)利要求1的元件，其中所述耐溶劑聚合物由以下結(jié)構(gòu)(I)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中A和B—起表示聚合物主鏈，其中A還包含含有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基的重復(fù)單元，B還含有不同的重復(fù)單元，x表示5-100重量％,y表示0-95重量。/Q,前提是如果A含有金剛烷基側(cè)基，則這些基團(tuán)經(jīng)由脲或氨酯連接基與聚合物主鏈連接。3.權(quán)利要求2的元件，其中B表示衍生自以下物質(zhì)的重復(fù)單元苯乙烯類單體、(曱基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來酸肝、N-取代的馬來酰亞胺或它們的混合物。4.權(quán)利要求2的元件，其中當(dāng)A表示含有磷酸側(cè)基的重復(fù)單元時(shí)，x是5-20重量。/。；當(dāng)A表示含有金剛烷基側(cè)基的重復(fù)單元時(shí)，x是5-40重量％;5.權(quán)利要求1的元件，其中所述輻射吸收性化合物是紅外輻射吸收性染料，能吸收波長為700-1200nm的輻射。6.權(quán)利要求1的元件，其中所述輻射吸收性化合物的存在量是0.5-20重量％，基于包含該化合物的層的總干重計(jì)。7.權(quán)利要求l的元件，其中所述基材是經(jīng)過處理或涂布的鋁基材。8.權(quán)利要求l的元件，其是正性工作的石印板前體。9.權(quán)利要求1的元件，其是負(fù)性工作的可成像元件，其中所述可成像層含有所述耐溶劑聚合物、所述作為IR吸收性化合物的輻射吸收性化合物、可自由基聚合物的化合物以及能產(chǎn)生自由基的組合物。10.權(quán)利要求9的元件，其中所述能產(chǎn)生自由基的組合物是可自由基聚合的不飽和單體或低聚物，或可自由基交聯(lián)的聚合物，并且所述能產(chǎn)生自由基的組合物包括(a)三溱，(b)吖。秦每肯化合物，(c)多鹵代的能產(chǎn)生自由基的化合物，(d)被多卣代烷基取代的能產(chǎn)生自由基的化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，(e)吖。秦錄化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，(f)過氧化苯甲酰、氬過氧化物或偶氮化合物，(g)二芳基碘錄鹽和光敏劑，(h)硼酸鹽和有機(jī)硼酸鹽，(i)^翁鹽，或它們的混合物。11.權(quán)利要求1的元件，其中所述耐溶劑聚合物具有從一種或多種由以下結(jié)構(gòu)A1-A5表示的化合物衍生的重復(fù)單元(Al)其中X是氧基、硫基或-NH-,X，是-NH-或氧基，X"是氧基或-NH-,n是1-6,<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>12.權(quán)利要求1的元件，其中所述可成像層是唯一的可成像層，且含有在所述基材上的所述輻射吸收性化合物和所述耐溶劑聚合物。13.權(quán)利要求12的元件，其中所述耐溶劑聚合物由以下結(jié)構(gòu)(II)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>其中R表示氫、低級(jí)烷基或囟素基團(tuán)，L表示直接鍵或連接基，R，表示磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，前提是當(dāng)R'是金剛烷基側(cè)基時(shí)，L包括脲或氨酯連接基，B表示不同的重復(fù)單元，當(dāng)R，表示磷酸側(cè)基時(shí)，x是5-20重量Q/。，y是80-95重量％;和當(dāng)R，表示金剛烷基側(cè)基時(shí)，x是5-40重量。/c),y是60-95重量yo。14.權(quán)利要求13的元件，其中L表示包含至少一個(gè)-C(0)-O-、誦NH-CO-NH-、-C(0)-O誦(CH2)2-或-NH-CO-0-基團(tuán)的連接基。15.權(quán)利要求13的元件，其中B表示衍生自以下物質(zhì)的重復(fù)單元:苯乙烯類單體、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來酸酑、N-取代的馬來酰亞胺或它們的混合物。16.權(quán)利要求9的元件，其中對(duì)于所述單層可成像層，涂料重量是0.5陽2.5g/m2。17.權(quán)利要求11的元件，其中所述可成像層還含有溶解抑制劑和紛類粘合劑樹脂。18.權(quán)利要求1的元件，其是正性工作的，并且在所述基材上按照順序含有以下各層內(nèi)層，其含有輻射吸收性化合物和耐溶劑聚合物，所述聚合物帶有磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，如這里所述，和油墨接收外層，其在暴露于成像輻射之前不能用堿性顯影劑除去。19.權(quán)利要求18的元件，其中所述耐溶劑聚合物由以下結(jié)構(gòu)(II)表示一(CH2-9R)x一(B)y—其中R表示氫、低級(jí)烷基或卣素基團(tuán)，L表示直接鍵或連接基，R，表示磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基，前提是當(dāng)R，是金剛烷基側(cè)基時(shí)，L包括脲或氨酯連接基，B表示不同的重復(fù)單元，當(dāng)R'表示磷酸側(cè)基時(shí)，x是5-20重量Q/。，y是80-95重量。/。；和當(dāng)R'表示金剛烷基側(cè)基時(shí)，x是5-40重量Q/。，y是60-95重量0/。。20.權(quán)利要求19的元件，其中B表示衍生自以下物質(zhì)的重復(fù)單元苯乙烯類單體、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來酸酐、N-取代的馬來酰亞胺或它們的混合物。21.權(quán)利要求19的元件，其中x是5-30重量y。，B表示從以下物質(zhì)衍生的重復(fù)單元a)—種或多種苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、曱基丙烯酸和曱基丙烯酸曱酯，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中所有重復(fù)單元的0-70重量％,和b)—種或多種丙烯腈或甲基丙烯腈或它們的混合物，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中所有重復(fù)單元的20-95重量％。22.權(quán)利要求19的元件，其中當(dāng)R，表示磷酸側(cè)基時(shí)，x是5-20重量％;和當(dāng)R'表示金剛烷基側(cè)基時(shí)，x是5-40重量y。。23.權(quán)利要求18的元件，其中所述外層含有酚樹脂粘合劑，所述輻射吸收性化合物是紅外輻射吸收性化合物，存在量是8-25重量％,基于所述內(nèi)層的總干重計(jì)。24.—種形成圖象的方法，包括A)將權(quán)利要求1的可成像元件進(jìn)行熱成像，從而形成具有成像區(qū)和非成像區(qū)的成像元件，B)使成像層與堿性顯影劑接觸，從而僅僅除去成像區(qū)或僅僅除去非成像區(qū)，和C)任選地，烘烤所述成像和顯影的元件。25.權(quán)利要求24的方法，其中僅僅除去所述成像區(qū)，提供正性工作的成像元件。26.權(quán)利要求24的方法，其中僅僅除去所述非成像區(qū)，提供負(fù)性工作的成像元件。27.權(quán)利要求24的方法，其中成像使用最大吸收為700-1200nm的輻射進(jìn)行。28.—種通過權(quán)利要求24的方法獲得的成像元件。全文摘要本發(fā)明涉及單層和多層的可成像元件，其具有基材和至少一層可成像層。這些元件可以用于制備負(fù)性或正性工作的成像元件，例如作為石印板?？沙上裨€包含輻射吸收性化合物和耐溶劑聚合物，所述聚合物含有聚合物主鏈和磷酸側(cè)基、金剛烷基側(cè)基或這兩種側(cè)基。當(dāng)此聚合物含有金剛烷基側(cè)基時(shí)，這些側(cè)基經(jīng)由脲或氨酯連接基與所述聚合物的主鏈連接。由于存在獨(dú)特的耐溶劑聚合物，可成像元件具有改進(jìn)的耐化學(xué)品性和熱烘烤性。文檔編號(hào)B41C1/10GK101321632SQ200680045164公開日2008年12月10日申請(qǐng)日期2006年11月21日優(yōu)先權(quán)日2005年12月1日發(fā)明者E·克拉克,F·E·米克爾,J·L·馬利根,J·卡拉門,J·帕特爾,K·B·雷,S·A·貝克利,S·薩賴亞,T·陶申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司