專利名稱:成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種使用電子照相方式的復(fù)印機(jī)、打印機(jī)等的成像裝置,特別涉及具有多個感光體的成像裝置。
背景技術(shù):
圖5~7表示具有多個感光體的所謂縱列式成像裝置的一例。
圖5表示打印彩色圖像的成像裝置,它具有對應(yīng)黃、品紅、深藍(lán)、黑各種顏色的獨(dú)立的圖像承載體(以下稱為感光鼓)。
感光鼓是在導(dǎo)電體上涂感光層,通過由掃描光學(xué)裝置射出的激光形成靜電潛像。
掃描光學(xué)裝置21基于由未圖示的圖像讀取裝置或個人計(jì)算機(jī)等設(shè)備輸出的圖像信息將激光照射到感光鼓。顯影器22通過摩擦帶電的調(diào)色劑分別在對應(yīng)的感光鼓上形成調(diào)色劑像。中間轉(zhuǎn)印帶23將感光鼓上的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)印用紙。供紙器24中有形成調(diào)色劑像的多份轉(zhuǎn)印用紙。定影器25通過加熱將轉(zhuǎn)印在轉(zhuǎn)印用紙上的調(diào)色劑像粘附在轉(zhuǎn)印用紙上。出紙托盤26排出并收容被定影的轉(zhuǎn)印用紙。清潔器27清理殘留在各感光鼓上的調(diào)色劑。
成像是基于掃描光學(xué)裝置21輸出的圖像信息將激光器發(fā)出的激光照射到各感光鼓,在由帶電器使帶電的感光鼓上形成靜電潛像。然后在顯影器22中將摩擦帶電的調(diào)色劑粘附在靜電潛像上,從而在各感光鼓上形成調(diào)色劑像。
調(diào)色劑像自感光鼓上轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶23上。然后調(diào)色劑像再次轉(zhuǎn)印到從設(shè)置在本體下部的供紙器24輸出的轉(zhuǎn)印用紙上,這樣圖像轉(zhuǎn)印在轉(zhuǎn)印用紙上。
轉(zhuǎn)印在轉(zhuǎn)印用紙上的圖像通過定影器25將調(diào)色劑固定,然后將其排出并層疊到出紙托盤26。
圖6表示圖5的成像部,由于呈左右對稱結(jié)構(gòu),因此圖中的記號只表示了一側(cè)的。圖中的掃描光學(xué)裝置21經(jīng)過多面反射鏡28、fθ透鏡29、30、多個反射鏡31a~31d、防塵玻璃32,由激光分別在感光鼓上形成靜電潛像,其中,多面反射鏡28是偏轉(zhuǎn)掃描按照圖像信息發(fā)出的激光的旋轉(zhuǎn)多面鏡,fθ透鏡29、30是等速掃描激光以及在感光鼓上點(diǎn)陣成像的成像元件,多個折射鏡31a~31d將激光分別反射到規(guī)定的方向,而防塵玻璃32為掃描光學(xué)裝置21起到了防塵的作用。
伴隨著設(shè)備主體的小型化,掃描光學(xué)裝置21不是采用現(xiàn)有技術(shù)中的從遠(yuǎn)離感光鼓的位置照射的方式,而是配置在靠近感光鼓的位置。如圖6所示,在1臺多位置組件上使用照射多個即4個感光鼓的方式,在多面反射鏡28的各相向面形成照射多束激光的2個掃描組。
另外,為了使單元(掃描光學(xué)裝置)緊湊,使用了多個反射鏡。為了使不同的2條光路上的激光分別在感光鼓上成像,可以使用結(jié)合2個透鏡或?qū)蓷l光路一體化的模塊透鏡。
多面反射鏡28射出的多束激光平行并排掃描的平行光學(xué)系統(tǒng)必須要有對應(yīng)各光路的偏轉(zhuǎn)掃描激光的偏轉(zhuǎn)面,使用較厚的多面反射鏡或2層結(jié)構(gòu)的多面反射鏡。
但是,對于上述使用的較厚的或2層結(jié)構(gòu)的多面反射鏡,也有使用可實(shí)現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)整體的薄型化的如圖7所示的薄多面反射鏡33的光學(xué)系統(tǒng)。
該光學(xué)系統(tǒng)中多面反射鏡將各激光分別以不同的角度射入或射出,在可得到規(guī)定的激光間隔的部位分離照射各感光鼓的激光。
激光通過多面反射鏡33進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描后透過共通的fθ透鏡35、36,經(jīng)過2個反射鏡34a、34c和1個凹面鏡34b,或是經(jīng)過2個反射鏡34d、34f和1個凹面鏡34e后照射在各對應(yīng)的感光鼓上。
另外,激光的分離結(jié)構(gòu)是相對內(nèi)側(cè)的感光鼓通過配置在光路中途的反射鏡34d使在圖7中下側(cè)偏轉(zhuǎn)掃描的激光以與在圖7中上側(cè)偏轉(zhuǎn)掃描的激光交叉的方式而反射到圖7中上部方向,通過配置在光學(xué)箱上部的多面反射鏡34e、34f反射到內(nèi)側(cè)的感光鼓上。
圖7的斜入射光學(xué)系統(tǒng)的情況,fθ透鏡在主掃描方向具有折射性,為使其發(fā)揮與圖6的平行光學(xué)系統(tǒng)同樣的作用,雖然可配置成與圖6相同的形式,但在副掃描方向由于激光是相對透鏡光軸而斜射入fθ透鏡的,所以要在感光鼓上確保集中激光光線的性能在原理上非常困難。因此,在各激光分離后,為集中副掃描方向的光線必須增加凹面鏡34b、34e(另外,代替這些凹面鏡而在副掃描方向增加具有折射性的第3成像透鏡也可起到相同的作用)。
另一方面,圖7的斜入射光學(xué)系統(tǒng)中,由于必須在多面反射鏡的后面位置的1個掃描組內(nèi)配置共4個成像光學(xué)元件,因此作為削減光學(xué)元件的另一斜入射光學(xué)系統(tǒng),建議將2個fθ透鏡的第2成像透鏡分別配置在各激光分離后的位置。
這種結(jié)構(gòu)要求各激光分別需要1個第2成像透鏡,而不需要凹面鏡或第3成像透鏡,因此可利用3個成像光學(xué)元件將激光集中到感光鼓上,與使用如圖7所示的凹面鏡或第3成像透鏡的斜入射光學(xué)系統(tǒng)相比,結(jié)果是不需要第3成像光學(xué)元件的配置空間的裝置。
但是,圖6所示的光學(xué)系統(tǒng)中存在以下問題。分離激光之前配置成像光學(xué)元件,而為了讓激光反射到感光鼓側(cè)面,掃描光學(xué)裝置中必須有配置多個反射鏡的空間,從而導(dǎo)致裝置的大型化。
另外,即使是如圖7所示的斜入射光學(xué)系統(tǒng)中也存在如下的問題。由于激光傾向副掃描方向射入到fθ透鏡35、36,因此在各激光分離后需要使其在副掃描方向成像的凹面鏡或第3成像透鏡,同時還需要為讓激光反射到感光鼓方向而配置多個反射鏡或透鏡的空間,從而導(dǎo)致裝置的大型化。
另外,即使是各激光分離后,分別配置由fθ透鏡形成的第2成像透鏡來減少光學(xué)元件數(shù)量的第2斜入射光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu),配置第2成像透鏡時由于沒有考慮反射鏡等其它的光學(xué)元件的配置,這成為掃描光學(xué)裝置大型化的主要原因。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種將掃描光學(xué)裝置小型化的成像裝置。
本發(fā)明的另一目的是提供一種使多束激光中的感光體側(cè)的激光以與其它的激光交叉的方式遠(yuǎn)離感光體,然后分別照射各感光體的成像裝置。
本發(fā)明的其它目的提供一種成像裝置,它具有第1、第2激光,偏轉(zhuǎn)掃描上述第1、第2激光的偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),通過由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的第1激光曝光的第1感光體,設(shè)置在比上述第1感光體遠(yuǎn)離上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的位置的通過由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的第2激光曝光的第2感光體,將由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)偏轉(zhuǎn)掃描的第1激光向遠(yuǎn)離上述第1感光體方向反射的第1反射部件,將由上述第1反射部件反射的第1激光向第1感光體反射的第2反射部件,上述第1反射部件配置在比通過上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光靠近上述第1感光體的位置,上述第2反射部件配置在比通過上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光遠(yuǎn)離上述第1感光體的位置。
本發(fā)明的上述目的及其它目的、特征以及優(yōu)點(diǎn),通過以下附有圖例的本發(fā)明的最適合的實(shí)施方式的說明在技術(shù)高度的層面上更便于理解。
圖1是表示本發(fā)明第1實(shí)施方式的掃描光學(xué)裝置的示意斷面圖。
圖2是表示本發(fā)明第2實(shí)施方式的掃描光學(xué)裝置的示意斷面圖。
圖3A和圖3B表示本發(fā)明第2實(shí)施方式的多面反射鏡射出激光的不同射出狀態(tài)。
圖4說明到感光鼓的激光的光路。
圖5是表示成像裝置的示意斷面圖。
圖6是表示成像裝置的掃描光學(xué)裝置的示意斷面圖。
圖7是表示其它的掃描光學(xué)裝置的示意斷面圖。
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的最適合的實(shí)施方式。其中,對于該實(shí)施方式中記載的構(gòu)成部件的尺寸、材質(zhì)、形狀及其相應(yīng)配置等,如沒有特別的說明,則該發(fā)明的范圍不局限于這些。
第1實(shí)施方式參照圖1說明本發(fā)明的第1實(shí)施方式。圖1中表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的掃描光學(xué)裝置和感光鼓等的圖像形成部的示意圖。
第1實(shí)施方式中,多個(圖例中為4個)作為感光體的感光鼓的下部配置有掃描光學(xué)裝置,本實(shí)施方式中使用的掃描光學(xué)裝置,采用4束激光自作為偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的1個多面反射鏡4的兩側(cè)射入,即分別有1組2束激光射入多面反射鏡4的兩側(cè),各感光鼓通過多面反射鏡4分別偏轉(zhuǎn)的照射光E1~E4進(jìn)行曝光的方式。
圖1中,外側(cè)的感光鼓配置在比內(nèi)側(cè)感光鼓1距離多面反射鏡遠(yuǎn)的位置。感光鼓1是在導(dǎo)電體上涂覆感光層。另外,一側(cè)的2個感光鼓1配置在多面反射鏡4的一側(cè),另外的2個感光鼓1則配置在多面反射鏡4的另一側(cè)。帶電器2鄰接各感光鼓1而設(shè)置,感光鼓1帶電,在表面形成靜電潛像的規(guī)定的電位。顯影器3也是分別鄰接各感光鼓1設(shè)置的,給相應(yīng)的感光鼓1的靜電潛像提供調(diào)色劑形成調(diào)色劑像。
旋轉(zhuǎn)多面鏡的多面反射鏡4偏轉(zhuǎn)掃描供給的激光。
成像元件第1、第2fθ透鏡5、6等速掃描激光到感光鼓1上,并在感光鼓1上點(diǎn)陣成像。本實(shí)施方式中的第1fθ透鏡5為柱面透鏡,(與主掃描方向垂直的)副掃描方向的成像僅用第2fθ透鏡6進(jìn)行。
反射部件的反射鏡7a~7c將激光分別往規(guī)定的方向反射。其中第1反射鏡7b配置在比多面反射鏡4射出的第2激光(圖1中下方所示的激光)靠近對應(yīng)內(nèi)側(cè)感光鼓1的位置,第2反射鏡7c則配置在比多面反射鏡4射出的第2激光遠(yuǎn)離對應(yīng)感光鼓1的位置。
清潔器8分別設(shè)置在靠近各感光鼓1的位置,清理殘留在對應(yīng)感光鼓1上的調(diào)色劑。光學(xué)箱9中裝有掃描光學(xué)裝置的各光學(xué)部件。
本實(shí)施方式中的掃描光學(xué)裝置的光學(xué)配置是在光學(xué)箱9的中央配置多面反射鏡,多面反射鏡4向各感光體1反射形成的多條光路如圖1所示呈明顯的左右對稱形狀。因此,這里僅對多面反射鏡4的一側(cè)的照射光E1、E2的4個中的2個掃描組進(jìn)行。
多束(圖例中為4束)激光自上下并列配置在光學(xué)箱9中的圖例中未表示的多個激光單元射出,射向這些多面反射鏡4的激光通過自光學(xué)箱9的底面沿鉛直方向2層配列偏轉(zhuǎn)面而構(gòu)成的一體型2層多面反射鏡4的各偏轉(zhuǎn)面的反射,在感光鼓1上進(jìn)行偏向掃描。2層多面反射鏡4的上下各偏轉(zhuǎn)面的面方向一致。
感光鼓1上的主掃描方向的各掃描線的同步是通過未圖示的BD傳感器分別檢測激光而相互對齊圖像端部,從多面反射鏡4射出的激光通過透過fθ透鏡5、6而在感光鼓上成像。
其中,第2fθ透鏡6為了對應(yīng)各激光的光軸,由2個透鏡組合而成。
透過第2fθ透鏡6的各激光中的偏轉(zhuǎn)掃描感光鼓1側(cè)的激光,通過配置在光路中的分離用反射鏡7b反射到下側(cè)。然后由分離用反射鏡7b分離的激光反射到下部后通過第2fθ透鏡6的正下方,由配置在光學(xué)箱9下面的反射鏡7c進(jìn)行再反射,最后通過fθ透鏡5、6之間照射到感光鼓1上。
另外,各激光中不是感光鼓1側(cè)(由多面反射鏡4下層的偏轉(zhuǎn)面進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描)而是下方的激光,通過分離用反射鏡7b的正下方后由設(shè)置在光學(xué)箱9的端部的反射鏡7a反射并照射到感光鼓1上。
另外,各激光的鉛直方向的間隔為可以在激光自多面反射鏡4射出后的后方分離激光的距離,反射鏡7a~7c被設(shè)置成使2束激光不會因各部件公差或面反射鏡的鏡面傾斜等而產(chǎn)生光束的盲區(qū)。
如上述結(jié)構(gòu)所示,由反射鏡7b將感光鼓1側(cè)的激光反射到下側(cè),即遠(yuǎn)離感光鼓1的方向,然后由反射鏡7c反射并照射到感光鼓1上,這樣可縮短反射鏡7b的較長方向的長度,同時可高密集度地沿鉛直方向配置各光學(xué)部件,從而使掃描光學(xué)裝置緊湊,并實(shí)現(xiàn)薄型化。
第2實(shí)施方式圖2~圖4表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式。圖2表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的掃描光學(xué)裝置和感光鼓等的成像部的示意圖。第2實(shí)施方式的成像部與第1實(shí)施方式的重復(fù),所以這里不再對其進(jìn)行說明。
本實(shí)施方式中,掃描光學(xué)裝置的光學(xué)配置是在光學(xué)箱的中央配置有多面反射鏡10,多面反射鏡10到各感光鼓1的光路如圖2所示呈明顯的左右對稱結(jié)構(gòu),因此只對多面反射鏡10的一側(cè)的照射光E1、E2的4組中的2組進(jìn)行說明。
第1實(shí)施方式中使用的是一體型2層多面反射鏡4,本實(shí)施方式中為了實(shí)現(xiàn)掃描光學(xué)裝置的小型化采用了使用薄型(1層)多面反射鏡的斜入射光學(xué)系統(tǒng),第2fθ透鏡(第2成像透鏡)分別被配置在分離激光后的位置。
另外,本實(shí)施方式的斜入射光學(xué)系統(tǒng),若為了在激光射出多面反射鏡10的后分離上下的各光路,將如圖3A所示的多面反射鏡面的線與多面旋轉(zhuǎn)方向定義的平面視為基平面(圖4的X-Y平面),則是一種相對圖中的基平面以相反的角度相互射入的光學(xué)系統(tǒng)。
一般基平面與偏轉(zhuǎn)掃描光的相對角度在圖像性能上的3度以內(nèi)為合格,本實(shí)施方式的說明以此作為前提。
本實(shí)施方式中,由于多面反射鏡10掃描的激光具備光學(xué)特性,因此將斜入射角(射入多面反射鏡10的激光的斜入射角)對應(yīng)基平面為相反且同一的角度。
這里,射入多面反射鏡10的偏轉(zhuǎn)面的激光的反射位置與如圖3A所示的相同,或與如圖3B所示多面反射鏡10的偏轉(zhuǎn)面(鏡面)的高度方向有所偏斜都可以,由于射入多面反射鏡10的激光的反射位置有如圖3B所示的偏斜,則可將反射鏡12b的位置配置在比圖3A中更靠近多面反射鏡10的位置。
多面反射鏡10射出的2束激光透過第1fθ透鏡13,通過感光鼓側(cè)的一部分激光通過反射鏡12b反射到下部。
第1fθ透鏡13由于激光以互為不同的角度射入而由柱面透鏡構(gòu)成,多面反射鏡10射出的激光通過相對副掃描方向的各光路配置的第2fθ透鏡14在感光鼓上成像。
通過反射鏡12b反射到下部方向的激光與另一方的激光交叉而射向下方,透過設(shè)置在光路中途的第2fθ透鏡14后再通過配置在光學(xué)箱下面的反射鏡12c再次反射,最后通過第1fθ透鏡13側(cè)面照射到內(nèi)側(cè)的感光鼓上。
多面反射鏡10射出的通過遠(yuǎn)離感光鼓的方向而照射兩端側(cè)的感光鼓的激光,通過反射鏡12b的正下方,然后透過配置在多面反射鏡10和外側(cè)的反射鏡12a之間的光路部的第2fθ透鏡14,最后利用外側(cè)的反射鏡12a反射到外側(cè)的感光鼓上。
反射鏡12a~12c配置在上下分離的2束激光不會由于各部件的公差或多面反射鏡10傾斜等而引起光束的盲區(qū)。
另外,光路長度比本實(shí)施方式中的長的光學(xué)系統(tǒng)的情況,即使對于照射外側(cè)(兩端側(cè))的感光鼓的光路也同照射配置在中央側(cè)的內(nèi)側(cè)感光鼓的情況一樣配置2個反射鏡,通過反射鏡反射的照射光E1即使是與多面反射鏡10偏轉(zhuǎn)掃描的自身的激光交叉的構(gòu)成也可以,這種情況下不僅在多面反射鏡10到第1反射鏡的光路,在第1反射鏡到第2反射鏡的光路中也可配置第2fθ透鏡14。
第2fθ透鏡14的光學(xué)配置位置可以是將第2fθ透鏡14配置在反射鏡12c之后的光路,如果考慮通過反射鏡12c調(diào)整在內(nèi)側(cè)感光鼓上的激光E2的照射位置,則射入第2fθ透鏡14的激光的射入位置改變,光學(xué)性能也可能發(fā)生變化。
因此本構(gòu)成中,將第2fθ透鏡14配置在反射鏡12b和調(diào)整位置用的反射鏡12c之間的光路,則可在沒有光學(xué)變化的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)小型化。
在由現(xiàn)有技術(shù)表示的圖7中的光學(xué)系統(tǒng)中,由于將激光反射到感光鼓方向,所以從緊湊性的觀點(diǎn)來看是不利的。與此相對,本發(fā)明的本實(shí)施方式采用將感光鼓側(cè)的激光向下側(cè),即向遠(yuǎn)離感光鼓的方向反射,而且利用反射鏡12c截?cái)鄰亩嗝娣瓷溏R10射出后的多束激光,并使其反射到感光鼓的方式,這樣可使光學(xué)系統(tǒng)緊湊。
另外,通過在反射鏡12b、12c之間配置第2fθ透鏡14,可縮短反射鏡12b的較長方向的長度,同時可在配置第2fθ透鏡14后有效利用空間,能使掃描光學(xué)裝置緊湊從而實(shí)現(xiàn)薄型化。
另外,第1、第2實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中,多面反射鏡和感光鼓之間的各激光光路的長度全部相等。另外,即使作為光源的一個激光二極管片發(fā)出多束激光的情況下,上述掃描光學(xué)裝置和成像裝置的構(gòu)成或配置都不需要改變,很明顯地也可得到相同的效果。
如上所述,本發(fā)明是將感光體側(cè)的激光反射到遠(yuǎn)離感光體的方向,使其與其它激光交叉,然后照射感光體,這樣,通過導(dǎo)向感光體側(cè)的激光可實(shí)現(xiàn)掃描光學(xué)裝置的緊湊化。
另外,通過在如第1反射鏡的第1反射部件到如第2反射鏡的第2反射部件的光路中配置如fθ透鏡的成像元件,能夠有效地利用第1、第2反射部件間的空間,從而使掃描光學(xué)裝置緊湊。
以上說明了本發(fā)明的實(shí)施方式,但本發(fā)明并不局限于這些實(shí)施方式,可以是在本發(fā)明的技術(shù)思想內(nèi)的所有變形。
權(quán)利要求
1.一種成像裝置,具有第1、第2激光,偏轉(zhuǎn)掃描上述第1、第2激光的偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),通過由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的第1激光曝光的第1感光體,設(shè)置在比上述第1感光體遠(yuǎn)離上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的位置的通過由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的第2激光曝光的第2感光體,將由上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)偏轉(zhuǎn)掃描的第1激光向遠(yuǎn)離上述第1感光體方向反射的第1反射部件,將由上述第1反射部件反射的第1激光向第1感光體反射的第2反射部件,其特征為上述第1反射部件配置在比通過上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光靠近上述第1感光體的位置,上述第2反射部件配置在比通過上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光遠(yuǎn)離上述第1感光體的位置。
2.如權(quán)利要求1記載的成像裝置,其特征為它具有將自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光向上述第2感光體的方向反射的第3反射部件。
3.如權(quán)利要求1記載的成像裝置,其特征為自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)延伸到上述第1、第2感光體的第1、第2激光的光路具有相同的長度。
4.如權(quán)利要求1記載的成像裝置,其特征為上述第1、第2感光體以上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)為基準(zhǔn)配置在同一側(cè),上述裝置還具有配置在上述第1、第2感光體相反側(cè)的第3、第4感光體。
5.如權(quán)利要求4記載的成像裝置,其特征為上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)偏轉(zhuǎn)掃描對上述第3感光體進(jìn)行曝光的第3激光和對上述第4感光體進(jìn)行曝光的第4激光。
6.如權(quán)利要求5記載的成像裝置,其特征為上述第3感光體配置在比上述第4感光體靠近上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的位置,上述裝置還具有反射自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第3激光的第4、第5反射部件和向第4感光體反射自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第4激光的第6反射部件。
7.如權(quán)利要求6記載的成像裝置,其特征為上述第4反射部件配置在比自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第4激光靠近上述第3感光體的位置,而上述第5反射部件配置在比自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第4激光遠(yuǎn)離上述第3感光體的位置。
8.如權(quán)利要求7記載的成像裝置,其特征為曝光光路長度與第1~第4的感光體的一致,自上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)延伸到上述第1~第4感光體的第1~第4激光的各光路的長度都相等。
9.如權(quán)利要求1記載的成像裝置,其特征為射入上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的第1激光的角度與射入上述偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的第2激光的角度不同。
全文摘要
一種成像裝置,具有偏轉(zhuǎn)掃描第1、第2激光的偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),由偏轉(zhuǎn)的第1激光曝光的第1感光體,設(shè)置在比上述第1感光體遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)位置的由第2激光曝光的第2感光體,其中,第1反射部件將由偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)偏轉(zhuǎn)掃描的第1激光向遠(yuǎn)離第1感光體方向反射,第2反射部件將第1反射部件反射的第1激光向第1感光體反射,第1反射部件配置在比偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光更靠近第1感光體的位置,第2反射部件配置在比偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)射出的第2激光遠(yuǎn)離第1感光體的位置。
文檔編號B41J2/44GK1480793SQ0313738
公開日2004年3月10日 申請日期2003年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2002年6月20日
發(fā)明者中畑浩志, 中 浩志 申請人:佳能株式會社