專利名稱：玻璃的涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及為玻璃涂層的設(shè)備，更具體地說，涉及用幾種氣體試劑給運(yùn)動中的熱玻璃帶表面上涂層的設(shè)備，這些試劑共同反應(yīng)，在玻璃表面上形成涂層。
周知可用在熱玻璃表面上分解的氣體試劑，生產(chǎn)出具有供建筑用所需性質(zhì)的涂層。例如適用作日光控制涂層的那種硅涂層，便是通過在熱玻璃表面上高溫分解含硅烷的氣體制成，同時已提出過許多見意，從其它合適的氣體試劑來生產(chǎn)其它類型的日光控制與低熱輻射率(高紅外反射率)的涂層。可惜的是，已然證明難以在大規(guī)模生產(chǎn)實踐中獲得具有所需厚度的足夠均勻的涂層。
用上述這類涂層作為玻璃涂層的一種典型的方法與設(shè)備，已在本申請人等的英國專利說明書1507996號中描述過，其中，在層流的條件下使試劑氣體平行地流過玻璃表面，來為之涂敷上均勻的涂層。在該說明書中，并未具體提出采用在到達(dá)玻璃表面之前易于共同反應(yīng)的試劑混合物。
英國專利說明書1516032號敘述了用一種流體介質(zhì)為玻璃涂層的方法，此種介質(zhì)含有一或多種可取液體或氣體形式的涂層試劑，它或它們作為一或多股氣流導(dǎo)向熱玻璃上，且其中至少有一股在玻璃帶運(yùn)動方向上有分速度，并以不大于60°的角度(或平均角度)傾斜向玻璃帶的表面。據(jù)說，采用該項發(fā)明能使涂層具備如下特征與玻璃接觸的均勻結(jié)構(gòu)層中之晶體作規(guī)則排列。當(dāng)需要有兩種或更多種的組分來同時起反應(yīng)時，它們可以通過一批相鄰的噴嘴作為獨(dú)立的流來供料，各個噴嘴配置成依一銳角朝玻璃表面上供給一般試劑流，使這些試劑在鄰近玻璃處相互接觸，或可只用一個噴嘴來供應(yīng)第一種試劑流，而通過此第一種試劑流的動量與傾角，感生出用作第二種試劑的空氣流。在涂層區(qū)的下游可設(shè)置一排氣管以從涂層區(qū)中抽出氣體，并可為玻璃表面設(shè)置一罩，以在玻璃上方界定出一條避開試劑流撞擊玻璃的流道。
英國專利說明書1524326號描述了一種方法，其中使氣體介質(zhì)成為一種基本上無紊流的層，順著部分地為玻璃表面界定的流道，沿待涂層的玻璃基片流過;此流道通向一使殘留氣體可從玻璃上抽走的排氣導(dǎo)管。氣體試劑是通過引入上述流道上游端中的入口槽而進(jìn)入流道的，此入口槽所處位置，可使這些氣體試劑一齊以銳角方向引向玻璃。
英國專利說明書2026454B特別涉及到在熱玻璃表面上形成氧化錫涂層的方法，采用了含四氯化錫與水蒸汽的氣體介質(zhì)。在一個經(jīng)特別優(yōu)選出的實施例中，使含有四氯化錫蒸汽的氮載體氣體流沿涂層中的玻璃表面通過，同時使含水蒸汽的一股空氣流在上一股氣流沿著玻璃表面流動的位置，輸入到這股氣流中去。可以將氧化氫之類的摻雜劑獨(dú)立地或與上述潮濕空氣混合送至玻璃表面。上述這些氣體流最好通過引至一由窄流道所構(gòu)成的涂層巷道或涂層室，送到玻璃表面上，而這些氣體流則作為一種基本上無穩(wěn)流的層通過此窄的流道，到達(dá)一可從玻璃處抽出剩余氣體的排氣導(dǎo)管。這些個氣流是通過進(jìn)道涂層巷道或涂層室頂部內(nèi)的供料導(dǎo)管而引入到此涂層室的，這批供料導(dǎo)管按與水平成45°銳角的方式朝前下傾至玻璃帶的行進(jìn)方向。
在熱玻璃基片上形成氧化錫涂層的另一種方法見于英國專利說明書2033374B號。該專利中所用設(shè)備類似于上述英國專利說明書2026454B號所說的設(shè)備，但它在第一涂層室的上游增設(shè)有一附加的涂層室，用來在繼后沉積氧化錫涂層之先，于玻璃基片上沉積以一種金屬氧化物的襯底涂層。
再有一種是英國專利申請GB2184748A號中所述的方法，這里在涂層室的上游端，將一種涂層基料與一種氧化氣體引入到玻璃上方的混合區(qū)的并中。給此混合區(qū)供熱，使涂層基料與氧化氣體在此混合區(qū)中徹底混合同時暴露向基片，但是要處在這樣一個高度，使得是從基本上均勻化的蒸汽混合物開始形成涂層。然后使這種混合物連續(xù)地流過涂層室與玻璃的上表面接觸。據(jù)認(rèn)為優(yōu)點在于室的頂部結(jié)構(gòu)在下游方向的高度降低了，節(jié)制了沿涂層室的蒸汽流量。在一些個最佳實施例中，此頂部結(jié)構(gòu)呈弧形降低到玻璃上方的下游頂部部分。看來這會促進(jìn)載基料的蒸汽在涂層室內(nèi)有平勻的全面的下游流，而據(jù)認(rèn)為這會有利于使形成的涂層均勻。有利的是，此處的涂層室至少有5米長，利用這樣長的涂層室，據(jù)說當(dāng)于快速運(yùn)動的基片上，例如在新形成的浮法玻璃帶上來形成較厚的涂層時，特別有利于提高涂層的產(chǎn)率。
當(dāng)打算采用同時起反應(yīng)的一批氣體試劑，并采用使各試劑從獨(dú)立的傾斜通道引入到涂層室內(nèi)的一種設(shè)備，例如前述英國專利說明書2026454號中所圖示的那種設(shè)備，來在玻璃表面上形成涂層時，本申請人等發(fā)現(xiàn)，在涂層作業(yè)過程中，在將第二種反應(yīng)氣體引至涂層室時所經(jīng)過的通道下端處，堆積起不希望有的涂層料沉積物。這種沉積的涂料已發(fā)現(xiàn)最普遍分布于此進(jìn)口通道的上游側(cè)壁上。這種堆積起的沉積物形成得相當(dāng)快，將立即影響到在玻璃帶表面上所形成之涂層的質(zhì)量。此玻璃帶上的涂層很快變質(zhì)并成為不均勻的，表現(xiàn)為可在玻璃表面所沉積之涂層上看見的種種條紋要是想避免使這種涂層進(jìn)一步變質(zhì)，則必須中止這樣的涂層過程，將涂層設(shè)備升高脫離開玻璃帶，然后從涂層設(shè)備除去所不需之涂層料的沉積物。這項清潔作業(yè)顯然是費(fèi)時與浪費(fèi)的。
顯然需要有這樣一種設(shè)備，其中不希望發(fā)生的涂層料之沉積問題能減到最低限度，而得以有較長時間的連續(xù)作業(yè)的涂層過程。
本發(fā)明即在于提供可達(dá)到上述目的之設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明，提出了一種設(shè)備，用來從至少兩種氣體試劑的反應(yīng)來在運(yùn)動的熱玻璃帶表面沉積上由之形成的涂層，此設(shè)備包括有一面敞開的涂層室，其中使氣體試劑沿著基本上與玻璃運(yùn)動方向相平行的方向，接觸著從待涂層的玻璃表面流過而得以在其上形成所需的涂層，此涂層室朝下敞開向并超越過待涂層玻璃表面的寬度，涂層室有第一進(jìn)口裝置，用來在此室的整個寬度上使玻璃表面上方的第一種氣體試劑通過此室，還有第二進(jìn)口裝置，它由一進(jìn)口通道組成，此通道沿涂層室寬向延伸貫穿該室的板，用來將第二種氣體試劑引至此涂層室內(nèi)第一種氣體試劑流中;
上述涂層室的頂板，它在所說進(jìn)口通道與涂層室會合處呈階梯形構(gòu)型，使此室在進(jìn)口通道上游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)的頂板，高于此室在進(jìn)口通道下游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)的頂板，通過此頂板剖取縱向截面描出的線具有階梯式構(gòu)型;
第一氣體分配器，用來從一供氣導(dǎo)管將第一種氣體試劑輸送給前述第一進(jìn)口裝置，以及第二氣體分配器，用來從一第二供氣導(dǎo)管將第二種氣體試劑輸送給所說第二進(jìn)口裝置;
此外尚包括有排氣裝置，它位于該第一與第二進(jìn)口裝置的下游(相對于這些氣體試劑的流向)，從涂層室中引出，用來從涂層室中除去各種無用的氣體。
本發(fā)明的另一組成部分是提供了一種方法，將至少是兩種氣體試劑反應(yīng)形成的涂層沉積到運(yùn)動的熱玻璃帶上，此方法包括在玻璃上方的涂層室內(nèi)，沿著基本上與玻璃運(yùn)動方向相平行的方向，提供第一種氣體試劑流，同時通過跨越著此室頂板的一進(jìn)口通道構(gòu)成的進(jìn)口裝置，將第二種氣體試劑引入到第一種氣體試劑流中，并使此第一與第二種氣體試劑在大致平行于玻璃的運(yùn)動方向上，與玻璃表面相接觸地流過涂層室，以在玻璃上形成所需的涂層，此涂層室的頂板在上述進(jìn)口通道與該室的會合處呈階梯狀構(gòu)型，使得此室在此進(jìn)口通道上游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)處的頂板，高于此室在該進(jìn)口通道下游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)處的頂板，通過此頂板剖取縱向截面時描出的線具有階梯式構(gòu)型。
在本發(fā)明的一些最佳實施例中，在所述進(jìn)口通道上游側(cè)之涂層室頂板通常至少較此進(jìn)口通道下游側(cè)的涂層室頂板高出5mm，但一般不較后者高出75mm。本申請人等發(fā)現(xiàn)，采用不超過15mm的一個梯級高度來進(jìn)行作業(yè)是有利的，而在一個實施例中，進(jìn)口通道上游側(cè)的這一頂板則是較下游側(cè)上的頂板高10mm。
在一個進(jìn)一步優(yōu)選出的實施例中，前述進(jìn)口通道基本上是同氣體試劑通過此涂層室的流道成直角。
在一特別優(yōu)選出的實施例中，進(jìn)口通道下游側(cè)壁的底部在此側(cè)壁與涂層室頂板的會合處形成為凸曲面。
業(yè)已發(fā)現(xiàn)，采用這種配置形式，顯著地減少了沉積在第二進(jìn)口通道壁上的不希望有的涂層材料。因此，本發(fā)明的涂層設(shè)備比已知的涂層設(shè)備使用得更為長久，不會因清洗設(shè)備和從設(shè)備中除去不希望有的沉積物而中斷涂層過程。
供給涂層設(shè)備的第一與第二種氣體試劑分別來自相應(yīng)的供氣導(dǎo)管，并讓這樣的氣體流通過各相應(yīng)的第一與第二氣體分配器而分布到待涂層之玻璃表面的整個面寬上，此種氣體分配器可以界定在倒扇形的前后壁之間，這兩堵壁從一中央進(jìn)口起朝下岔開，終端形成一延伸過待涂層之玻璃表面寬度的槽口。在這個實施例中，上述倒扇形的前后壁則朝下相互相對地漸縮，終止于此槽口中。
此涂層設(shè)備還最好是在第一氣體分配器與第一進(jìn)口裝置間設(shè)置一氣流限制器，以在待涂層之玻璃表面的整個寬度上均勻地分布第一種氣體試劑。在第二氣體分配器與第二進(jìn)口裝置之間設(shè)置一第二氣流限制器，則也可使第二種氣體試劑獲得與上類似的均勻分布，此第二氣流限制器的結(jié)構(gòu)一般與第一氣流限制器相同。
典型的情況下，上述這類氣流限制器包括一腔室，可用來接受供給的試劑氣體和輸出一定流量的試劑氣體到待涂層的玻璃板的上方;還包括一列至少是兩個截流件，各個截流件包括一塊寬及涂層室并有一批通孔的板。
在下面的描述中以及在后附的權(quán)利要求中，“上游”與“下游”等詞是相對于試劑氣體通過涂層室的流向而言的。最好是如同以舉例方式所述之具體實施例中的情形，這種氣流對于玻璃的運(yùn)動方向為順流，但并非必須如此，當(dāng)試劑氣體的流向相對于玻璃運(yùn)動方向為逆流時，采用本發(fā)明也同樣是有益的。
下面限于以舉例方式來對照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明，在附圖中

圖1是本發(fā)明之設(shè)備的橫剖面?zhèn)纫晥D;
圖2是沿圖1中箭頭H方向的圖1所示設(shè)備的端視圖;
圖3是更詳細(xì)地示明圖1中設(shè)備所包括的那種氣流限制器的橫剖面?zhèn)纫晥D;
圖4是經(jīng)部分切除，表明第二進(jìn)口裝置下端的一種最佳構(gòu)型的橫剖面?zhèn)纫晥D;
在這些附圖中，相同的參考數(shù)號指相同的部件。
具體地參看圖1與2，一般以1表明的一種涂層設(shè)備懸架在處于滾筒(未示明)上面從左向右行進(jìn)之玻璃帶12的上向。
上述涂層設(shè)備掛在一滑架2上，后者包括一水平板3，此板的上表面上焊接有許多例如在4處所示的前向裝配架和在5處所示的后向裝配架。一般，橫跨此設(shè)備的寬度設(shè)有三個前向與三個后向裝配架;在各種情形下，一個架裝在設(shè)備的中央，另兩個架則靠近設(shè)備的邊部安裝。各裝配架4、5分別掛在相應(yīng)的水冷梁(未示明)上，后者橫延過待涂層之玻璃板帶的寬度。
此設(shè)備的下部包括許多成型的碳磚32、34、36、38、40與42，它們橫延過相當(dāng)于待涂層之玻璃表面的寬度。這些碳磚界定出一具有階梯狀構(gòu)型之頂板9a、9b的涂層室10，涂層室10在第二進(jìn)口通道15上游側(cè)的頂板9a高于此涂層室在第二進(jìn)口通道15下游側(cè)的頂板9b。這些碳磚還界定出由垂直的第一進(jìn)口通道14構(gòu)成的第一進(jìn)口裝置，用于將第一種試劑氣體導(dǎo)入涂層室;由垂直的第二進(jìn)口通道15構(gòu)成的第二進(jìn)口裝置，用來將二種試劑氣體引入此涂層室;涂層室中在第一進(jìn)口通道14與第二進(jìn)口通道15之間的流入16;用來從涂層室中除去廢氣的排氣通道18;以及涂層室中在第二進(jìn)口通道15與排氣通道18之間的流道17。
每塊碳磚都是掛在一水平板件44之下。這些磚中有供傳熱流體例如冷水用的管道(未示明)，應(yīng)用本設(shè)備時，碳磚的溫度可以讓冷水通過這些管道來控制。
涂層室10有一個超越待涂層之玻璃帶12寬度的敞開的面。在此室的上游端，碳磚32與34界定出前述垂直的第一進(jìn)口通道14，第一種氣體試劑即通過它引至涂層室內(nèi)。在此第一進(jìn)口通道的下游，碳磚34與36之間界定出一第二垂直進(jìn)口通道15，用來將第二種氣體試劑引入涂層室內(nèi)。
在涂層室的下游端，碳磚40與42界定出一用來從此室內(nèi)除去廢氣的排氣通道18。
第一種試劑氣體是從一供氣導(dǎo)管(未示明)，通過一扇尾狀的分配器19與一氣流限制器22送入第一進(jìn)口通道14的。此扇尾狀分配器是界定在倒扇形的前壁20與后壁21之間，此前壁與后壁朝下相對地相互會聚，而在此扇形尾件的底部形成一穿越待涂層玻璃帶寬度的窄槽口48。
從扇尾狀分配器19底部槽口48出來的第一種試劑氣體，通過安裝在此分配器19下方的氣流限制器22。
氣流限制器22更詳細(xì)地示明在圖3中，包括有成對設(shè)置的相對的長壁120、122與121、123，它們界定出一細(xì)長室124。長壁120、122與121、123在橫向上跨過待涂層之玻璃帶，壁120與121為上游壁而壁122與123為下游壁。在此細(xì)長室124的各端設(shè)有相對的端壁126，各端壁126按照與玻璃帶運(yùn)動方向相平行的設(shè)置。
在氣流限制器22的進(jìn)口端設(shè)有一進(jìn)口截流件127，后者包括一跨越室124寬度的細(xì)長進(jìn)口板件128。此進(jìn)口板件128密封地裝定在相向的水平板對130、132之間，各對板130、132例如是用焊接方式接附到相應(yīng)的長壁120、122與扇尾狀分配器19之上。各對板130、132是由螺紋連接件134牢牢地連在一起的。在各對板130、132與進(jìn)口板件128之間設(shè)有墊圈(未示明)。
沿進(jìn)口板件128的長向開有一排孔136、孔136使進(jìn)口112與室124的其余部分通連?？?36呈圓形，直徑最好是2mm至10mm。在一個特別優(yōu)選出的實施例中，孔136的直徑都是4mm，相鄰兩孔的中心距為20mm。這排孔136是開設(shè)在細(xì)長室124的上游側(cè)，也就是說，這排孔136至室124上游壁120的距離小于至下游壁122的距離。
在氣流限制器22的出口110的近旁設(shè)有一出口截流件138。此出口截流件的結(jié)構(gòu)基本上與進(jìn)口截流件127相同，它包括一細(xì)長出口板件140，后者密封地裝配在兩相向成對的板142、144之間，各對這樣的板142、144中上方的板則用例如焊合的方法連接到相應(yīng)的長壁121、124之上。板142、144由墊圈(未示明)與出口板件140隔開。板142、144由螺紋連接件146緊緊地連在一起，這些連接件也使板142、144，從而還使氣流限制器22牢牢地接附到從上面掛下有碳磚32、34的板44之上。出口板件140上開有一排孔152，孔的直徑最好從2mm至10mm，而在一特別優(yōu)選出的實施例中，各孔的直徑為4mm，相鄰兩孔的中心距為10mm。這排孔152是開設(shè)在細(xì)長室124的上游側(cè)。
在出口板件140下方，于氣流限制器22的出口110處安裝一氣流偏轉(zhuǎn)器154。此氣流偏轉(zhuǎn)器154包括一與上述這對板142的下部成整體的長L形部件156，后者設(shè)在與孔152相鄰處。L形部件156的自由臂向上朝出口板件140延伸，中間限定出一間隙160，來自孔152的試劑氣體在為L形部件156的水平臂162偏轉(zhuǎn)后就必須通過此間隙。
氣流偏轉(zhuǎn)器154是用來消除可能發(fā)生的氣流的局部性增大。例如存在有這樣的傾向在板件140的下方，此板件中各個孔152緊鄰處的氣流常會較強(qiáng)。氣流偏轉(zhuǎn)器154的存在使得這些局部增強(qiáng)的氣流均勻化了。在某些情形下，可從本發(fā)明之氣流限制器中省除此氣流偏轉(zhuǎn)器154。
在進(jìn)口截流器127與出口截流器138之間有一中間截流器164，此中間截流器164的結(jié)構(gòu)與進(jìn)口截流器127相同，且包括一上面有一排孔168的細(xì)長的中間板件166。此中間板件166密封地固定在相向成對的水平板170、172之間，它們例如通過焊合分別接附到長壁120、121與122、123上。在板170、172與中間板件166之間設(shè)有墊圈(未示明)，而板170、172則是由螺紋連接件174緊固地連接在一起。中間板件166上的這排孔168，與進(jìn)、出口板件128、140的情形相反，設(shè)在細(xì)長室124的下游側(cè)，也就是說，這排孔168同室124下游壁122、123的距離要小于其同上游壁120、121的距離。這樣的安排方式使得相鄰細(xì)長板件中成排的孔相互不成一直線。
第二種試劑氣體是通過另一個扇尾狀的分配器24，從第二供氣導(dǎo)管(未示明)送入第二進(jìn)口通道15的，此種分配器的結(jié)構(gòu)與扇尾狀分配器19相同，然后此氣流再通過一結(jié)構(gòu)與氣流限制22相同的氣流限制器25。
從排氣通道18排出的氣體通過一分隔器裝置52中的通道50，進(jìn)入一包括有倒扇形前壁27與后壁28的一排氣扇尾件26中，后者將廢氣、未反應(yīng)的試劑氣體與載體氣體一齊輸向一排氣導(dǎo)管(未示明)。
界定出第一與第二進(jìn)口通道14與15的碳磚32、34與36，它們各自的高度選擇成，能使涂層室10的頂板9a、9b在第二進(jìn)口通道15與此涂層室會合處呈階梯狀構(gòu)型，此涂層室在進(jìn)口通道15上游側(cè)的頂板9a，高于涂層室在進(jìn)口通道15下游側(cè)的頂板9b，正如圖1所示，通過此種頂板所截取的縱向剖面描出的線是不連續(xù)的，且有一階梯狀構(gòu)型。例如，磚36的底部一般可以選擇成較磚34之底部低10mm。結(jié)果使得此第二進(jìn)口通道上游壁54之底部可較此第二進(jìn)口通道下游壁56之底部高10mm，由此而形成一具有階梯狀構(gòu)型的進(jìn)口槽口58。已發(fā)現(xiàn)這種階梯狀的進(jìn)口槽口58所在其鄰區(qū)，使沉積到第二進(jìn)口通道15之側(cè)壁上的固體涂層料數(shù)量減至最少。確信這樣一個階梯式的級差可有效地將第一種氣體試劑引向玻璃表面，并在同時可避免此第一種氣體試劑流入第二進(jìn)口通道的口中，而導(dǎo)致局部反應(yīng)，使涂層材料沉積到上述進(jìn)料通道口中的垂直表面上。
在一特別優(yōu)選出的配置方式下，碳磚36的下部上游角隅形成為一種凸曲面57，例如圖4中所示情形，通常，對于10mm高的階梯狀進(jìn)口槽口58來說，該凸曲面的曲率半徑為10mm。這一曲率半徑應(yīng)該充分地小，以保持在階梯狀級差能有效于大大避免沉積物堆砌在第二進(jìn)口通道口中的麻煩。
使用時，本發(fā)明的涂層設(shè)備懸架在處于滾筒(未示明)上面從左朝右行進(jìn)之玻璃帶12的上方。此涂層設(shè)備懸架在玻璃帶上方的高度，要使碳磚42在此設(shè)備下游端處保持在待涂層之玻璃帶表面上方一約10mm的高度處。第一種試劑氣體一般是在一種載體氣體中稀釋，送至扇尾狀分配器19與氣流限制器22，后者能在待涂層之玻璃的整個寬度上均勻地分布此種氣體。從氣流限制器22中出來的氣體通過第一進(jìn)口通道14，進(jìn)入涂層室10，沿著室10中的流到16，依照一大致與玻璃平行的方向朝第二進(jìn)口通道15的底部行進(jìn)。第二種試劑氣體一般是在一種載體氣體中稀釋，被送向扇尾形分配器24與氣流限制器25，以保證此第二種氣體試劑在整個玻璃寬度上均勻分布。
從限制器25底部出來的氣體通過第二進(jìn)口通道15，進(jìn)入此涂層室內(nèi)第一種氣體試劑流中，而得以沿著流到17在玻璃表面上方提供一種相結(jié)合的氣體試劑流，在此流道上，這兩種氣體試劑起反應(yīng)，于熱的玻璃表面上的沉積上一涂層。在某種作業(yè)方式中，例如更詳細(xì)地描述在本申請人在同一日期的共同未決申請內(nèi)的那種作業(yè)方式(該項未決申請中的內(nèi)容已綜合于此作為參考)中，可對玻璃的流動狀況加以控制，以提供通過第二進(jìn)口通道15的第二種試劑氣體的紊流，和沿著流道17的相結(jié)合的氣體試劑紊流，同時避免第二種試劑在第一種氣體試劑中有沿著流道16的上游氣體。來自這種反應(yīng)中用過的氣體(載體氣體、未反應(yīng)的試劑氣體和廢氣)，通過扇尾形排氣件26施加減壓「例如由一排氣扇(未示明)進(jìn)行吸氣」，便從此涂層區(qū)中經(jīng)排氣導(dǎo)管18抽出，而這一扇尾形排氣件則是由向上開口的倒扇形的前壁27與后壁28構(gòu)成。此種減壓不僅從涂層區(qū)中抽出了氣體，而且還在涂層設(shè)備上游與下游盡頭29、30之下感生出一外部大氣流。
上述設(shè)備可以常時間的運(yùn)轉(zhuǎn)，不會因涂層材料沉積于第二進(jìn)口通道內(nèi)而發(fā)生堵塞此通道的問題，因而便有利于以高產(chǎn)率在玻璃帶上制配出均勻的涂層。
本發(fā)明特別適用于，例如以二氧化錫作第一種氣體試劑而以水蒸汽為第二種氣體試劑，來生產(chǎn)紅外反射的氧化錫涂層。為了提高紅外反射率，可采用銻源或氟源之類的摻雜劑加入到上述反應(yīng)氣體中。借助本發(fā)明的設(shè)備，也可應(yīng)用二氧化鈦或一氮化鈦之類的其它涂層。在涂敷二氧化鈦涂層時，可用四氯化鈦作第一種氣體試劑而以水蒸汽為第二種氣體試劑。要獲得一氮化鈦涂層時，則可用四氯化鈦為第一種氣體試劑而以氨為第二種氣體試劑。
權(quán)利要求
1.用來通過至少兩種氣體試劑的反應(yīng)以在運(yùn)動的熱玻璃帶表面沉積上由之形成的涂層的一種設(shè)備，特征在于此設(shè)備包括有一面敞開的涂層室，其中使氣體試劑沿著基本上與玻璃運(yùn)動方向相平行的方向，接觸著待涂層的玻璃表面流過，而得以在此玻璃表面上形成所需的涂層，此涂層室朝下敞開并延伸穿越過待涂層玻璃表面的寬度，涂層室有第一進(jìn)口裝置，用來在此室的整個寬度上使玻璃表面上方的第一種氣體試劑通過此室，還有第二進(jìn)口裝置，它由一進(jìn)口通道組成，此通道延貫穿沿涂層室寬向的該室的頂板，用來將第二種氣體試劑引至此涂層室內(nèi)第一種氣體試劑流中；上述涂層室的頂板，它在所說進(jìn)口通道與涂層室會合處呈階梯形構(gòu)型，使此室在進(jìn)口通道上游側(cè)(相對于第一種氣體試劑流向)的頂板，高于此室在該進(jìn)口通道下游側(cè)(相對于第一種氣體試劑流向)的頂板，通過此頂板剖取縱向截面描出的線具有階梯形構(gòu)型；第一氣體分配器，用來從一供氣導(dǎo)管將第一種氣體試劑輸送給所說第一進(jìn)口裝置，以及第二氣體分配器，用來從一第二供氣導(dǎo)管將第二種氣體試劑輸送給所說第二進(jìn)口裝置；此外尚包括有排氣裝置，它位于該第一與第二進(jìn)口裝置的下游(相對于這些氣體試劑的流向)，從涂層室中引出，用來從涂層室中除去各種無用的氣體。
2.如權(quán)利要求1中所述的設(shè)備，特征在于此涂層室在前述進(jìn)口通道上游側(cè)上的頂板，較此涂層室在該進(jìn)口通道下游側(cè)上的頂板至少高5mm。
3.如權(quán)利要求1或2中所述的設(shè)備，特征在于此涂層室在所說進(jìn)口通道上游側(cè)上的頂板較此涂層室在該進(jìn)口通道下游側(cè)上的頂板最多可高出75mm。
4.如權(quán)利要求2或3中所述的設(shè)備，特征在于此涂層室在所說進(jìn)口通道上游側(cè)上頂板較此涂層室在該進(jìn)口通道下游側(cè)上的頂板高10mm
5.如前述權(quán)利要求任何一項中所述的設(shè)備，特征在于此第二進(jìn)口通道配置成基本上是同試劑氣體通過涂層室中的流道成直角關(guān)系。
6.如前述權(quán)利要求任何一項中所述的設(shè)備，所述進(jìn)口通道下游側(cè)壁的底部在此側(cè)壁與涂層頂板會合處形成為凸曲面。
7.如前述權(quán)利要求任何一項中所述的設(shè)備，特征在于所說第一與第二氣體分配器中的每一個都是界定在倒扇形的前壁與后壁之間，這兩堵壁從一中央進(jìn)口朝下岔開，終結(jié)成一跨越待涂層之玻璃表面寬度的槽口。
8.如權(quán)利要求7所述設(shè)備，特征在于上述倒扇形的前壁與后壁朝下相互相對漸縮，終結(jié)于前述槽口。
9.如上述權(quán)利要求任何一項中所述的設(shè)備，特征在于此設(shè)備還在第一氣體分配器與第一進(jìn)口裝置間設(shè)有一氣流限制器，用來使第一種氣體試劑在待涂層玻璃表面的整個寬度上均勻分布。
10.如上述權(quán)利要求任何一項中所述的設(shè)備，特征在于此設(shè)備還在前述第二氣體分配器與第二進(jìn)口裝置間設(shè)有一氣流限制器，用來使第二種氣體試劑在待涂層玻璃表面的整個寬度上均勻分布。
11.將至少是兩種氣體試劑的反應(yīng)形成的涂層沉積到運(yùn)動的熱玻璃帶上的一種方法，特征在于，此方法包括在玻璃上方的涂層室內(nèi)，沿著基本上與玻璃運(yùn)動方向相平行的方向，提供第一種氣體試劑流，同時通過貫穿此室頂板的一進(jìn)口通道構(gòu)成的進(jìn)口裝置，將第二種氣體試劑引入到第一種氣體試劑流中，并使此第一與第二種氣體試劑在大致平行于玻璃的運(yùn)動方向上，與玻璃表面相接觸地流過涂層室，以在玻璃上形成所需的涂層，此涂層室的頂板在上述進(jìn)口通道與該室的會合處呈階梯狀構(gòu)型，使得此室在此進(jìn)口通道上游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)處的頂板，高于此室在該進(jìn)口通道下游側(cè)(相對于第一種氣體試劑的流向)處的頂板，通過此頂板剖取縱向截面時描出的線具有階梯狀構(gòu)型。
12.如權(quán)利要求11中所述的方法，特征在于第二種氣體試劑是按如下的一個方向引入到第一種氣體試劑流中的，此方向與這兩種試劑氣體通過涂層室的流道大致成直角。
13.按照權(quán)利要求11或12所述方法，或采用權(quán)利要求1至10中任何一項所述設(shè)備生產(chǎn)出的有涂層的玻璃。
全文摘要
從至少兩種氣體試劑的反應(yīng)于運(yùn)動的熱玻璃帶表面沉積上涂層的設(shè)備，它包括一涂層室，后者有第一與第二進(jìn)口通道分別用來引入第一與第二種試劑，此室的頂板在通道與室會合處呈階梯狀，即相對于第一種氣體試劑的流向，在進(jìn)口通道上游側(cè)上的頂板高于下游側(cè)上的頂板。還包括有第一與第二氣體分配器，分別用來經(jīng)兩種供氣導(dǎo)管將第一種與第二種氣體試劑輸入第一與第二進(jìn)口通道。此外有用來從涂層室中除去各種無用氣體的排氣裝置。
文檔編號C03C17/245GK1042138SQ8910793
公開日1990年5月16日 申請日期1989年10月14日 優(yōu)先權(quán)日1988年10月14日
發(fā)明者柏瑞·瑟瑪斯·哥雷德, 艾德華·哈哥云斯, 彼特·杰姆斯·威弗德 申請人:彼爾金頓公共有限公司