本實(shí)用新型涉及陶瓷加工設(shè)備，特別涉及一種用于陶瓷坯低速旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯定位設(shè)備。

背景技術(shù)：

在陶瓷坯的眾多加工工序中，成形后的陶瓷坯在去除了多余的陶瓷粘土后，會(huì)在邊緣留下一些痕跡，特別是較薄的邊緣，會(huì)產(chǎn)生切割后的平面，嚴(yán)重影響美觀以及燒制后陶瓷器具的質(zhì)量。因此還需要進(jìn)行一道拋光工藝，將這些棱角和痕跡去除，保證成品的質(zhì)量。

現(xiàn)有技術(shù)中，通常只有手工拋光的工序，拋光時(shí)間長(zhǎng)，效果不穩(wěn)定，且容易在拋光過(guò)程中碰傷陶瓷坯。為了解決這一問(wèn)題，有必要設(shè)計(jì)新的裝置來(lái)解決這一問(wèn)題。此外，在陶瓷坯的加工過(guò)程中，還需要對(duì)一些陶瓷坯進(jìn)行檢查，或者對(duì)陶瓷坯的一些局部缺陷進(jìn)行涂抹。這就需要有一款能夠在低速旋轉(zhuǎn)的情況下，滿足定位和防止位移需要的裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中尚無(wú)針對(duì)陶瓷坯低速旋轉(zhuǎn)的定位裝置的缺點(diǎn)，提供了一種用于陶瓷坯低速旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯定位設(shè)備。本裝置作為陶瓷加工工藝改善項(xiàng)目的一部分，不僅可以提供操作者對(duì)個(gè)別的陶瓷坯的檢測(cè)和修補(bǔ)，還可以結(jié)合其它機(jī)械使用，例如拋光機(jī)，對(duì)完善陶瓷坯干燥、燒制加工工序，保證最終產(chǎn)品的質(zhì)量，具有較為重要的意義。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型可采取下述技術(shù)方案：

一種用于陶瓷坯低速旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯定位設(shè)備，包括底座、以及設(shè)置在底座上的定位裝置；

所述定位裝置位于所述底座的朝向上方的一個(gè)端面；

所述定位裝置沿著所述底座的一定軸的周向方向旋轉(zhuǎn)且在定軸的徑向方向上間隔排列。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述的定位裝置的上端均位于所述定軸的軸向方向的同一高度。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述在定軸的徑向方向上間隔排列的定位裝置在定軸的徑向方向上具有均勻的間隔。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置的間隔距離為定位裝置的寬度的2-4倍。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置的高度小于或者等于定位裝置的寬度。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述底座上設(shè)置有至少5個(gè)的圍繞所述定軸的周向方向旋轉(zhuǎn)的定位裝置。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述底座包括支架、相對(duì)支架可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)座以及用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)座旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置；其中旋轉(zhuǎn)座以所述定軸為中心軸旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置為設(shè)置于底座端面的槽。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述槽由一個(gè)在所述定軸的軸向方向上呈凹形的面沿著定軸的周向方向延伸得到，所述凹形是指在定軸的軸向方向上具有向下延伸的兩側(cè)側(cè)壁的形狀。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述槽的兩側(cè)側(cè)壁在定軸的軸向方向上自上而下地朝向槽的內(nèi)側(cè)傾斜。

本實(shí)用新型具有以下的顯著技術(shù)效果：

能夠在陶瓷坯的拋光、檢查過(guò)程中得到使用，在低速旋轉(zhuǎn)的情況下，讓操作者可以定位陶瓷坯，令其盡可能地圍繞定軸或者其它需要的轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，可以穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯，能有效提高拋光質(zhì)量和陶瓷坯的質(zhì)量，保證后繼的燒制過(guò)程的穩(wěn)定，對(duì)于燒制后的陶瓷器具的質(zhì)量有較好的穩(wěn)定作用。

進(jìn)一步地，能夠和自動(dòng)陶瓷坯壓制裝置等陶瓷坯自動(dòng)加工機(jī)械相配合，有利于提高加工效率。

附圖說(shuō)明

圖1為沿著陶瓷坯定位設(shè)備的定軸自上往下觀察的陶瓷坯定位設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為沿著陶瓷坯的定軸的軸向方向?qū)Χㄎ谎b置進(jìn)行剖切后得到的截面示意圖。

圖3為圖2中A處的放大后的部分截面示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

如圖1、2、3所示，一種用于陶瓷坯低速旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯定位設(shè)備，包括底座100、以及設(shè)置在底座上的定位裝置200，本裝置是用于保持陶瓷坯的低速旋轉(zhuǎn)，以用于檢查或者配合其它機(jī)械，例如自動(dòng)拋光機(jī)對(duì)陶瓷坯進(jìn)行的操作。

所述定位裝置200位于所述底座100的朝向上方的一個(gè)端面；該端面應(yīng)當(dāng)是平整的，其外緣的形狀沒(méi)有特定要求，可以是圓形或者其它形狀，例如方形或者五邊形、六邊形。

所述定位裝置200沿著所述底座100的一定軸201的周向方向旋轉(zhuǎn)且在定軸201的徑向方向上間隔排列。本申請(qǐng)記載的陶瓷坯定位裝置適合于各種不同形狀的陶瓷坯，均勻或者不均勻間隔的定位裝置200的間隔用于放置不同大小的陶瓷坯，當(dāng)陶瓷坯在旋轉(zhuǎn)時(shí)位置偏移中心，則會(huì)收到來(lái)自定位裝置200的不均勻但是大致指向定軸201的力，從而實(shí)現(xiàn)定位。

進(jìn)一步地，所述的定位裝置200的上端均位于所述定軸201的軸向方向202的同一高度。同一高度是為了防止不同大小的陶瓷坯可能受到的不均勻受力，并且讓陶瓷坯在旋轉(zhuǎn)時(shí)，在定軸201的軸向方向202上保持均一，穩(wěn)定。

進(jìn)一步地，所述在定軸201的徑向方向上間隔排列的定位裝置200在定軸201的徑向方向203上具有均勻的間隔。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200的間隔距離為定位裝置200的寬度的2-4倍。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200的高度小于或者等于定位裝置200的寬度。

進(jìn)一步地，所述底座100上設(shè)置有至少5個(gè)的圍繞所述定軸201的周向方向旋轉(zhuǎn)的定位裝置200。圖示為了清楚起見(jiàn)，自列出有限的若干個(gè)定位裝置200，圖示中定位裝置200的數(shù)量不應(yīng)當(dāng)成為對(duì)本申請(qǐng)的技術(shù)方案的限制。

進(jìn)一步地，所述底座100包括支架101、相對(duì)支架101可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)座102以及用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)座102旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置103；其中旋轉(zhuǎn)座102以所述定軸201為中心軸旋轉(zhuǎn)。驅(qū)動(dòng)裝置103可以采用電動(dòng)機(jī)，或者其它驅(qū)動(dòng)方式。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200為設(shè)置于底座100端面的槽。

進(jìn)一步地，所述槽104由一個(gè)在所述定軸201的軸向方向202上呈凹形的面沿著定軸201的周向方向延伸得到，所述凹形是指在定軸201的軸向方向上具有向下延伸的兩側(cè)側(cè)壁的形狀。

進(jìn)一步地，為了能夠更好地清理定位裝置200中的陶瓷粘土，所述槽104的兩側(cè)側(cè)壁在定軸201的軸向方向上自上而下地朝向槽104的內(nèi)側(cè)傾斜。所述的槽的內(nèi)側(cè)是指指向槽的方向。

總之，以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型專利的涵蓋范圍。