產(chǎn)生用于物體尤其是人的至少一個(gè)局部區(qū)域的手術(shù)、檢驗(yàn)或處理的消毒區(qū)域的方法
【專利說明】產(chǎn)生用于物體尤其是人的至少一個(gè)局部區(qū)域的手術(shù)、檢驗(yàn)或處理的消毒區(qū)域的方法
[0001]本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生針對(duì)物體且尤其是人的至少一個(gè)局部區(qū)域的手術(shù)、檢驗(yàn)或處理的消毒區(qū)域的方法和裝置。這種裝置和方法在本發(fā)明意義上被用在例如像醫(yī)院這樣的環(huán)境中，在這樣的環(huán)境中出于衛(wèi)生或醫(yī)學(xué)考慮而應(yīng)該產(chǎn)生盡量無菌(即沒有活的微生物包含其靜態(tài)如孢子)的條件。另外，可以想到應(yīng)用在獸醫(yī)以及物體的清潔或消毒中。
[0002]例如在DE202009000537U1以及DE202008018264U1中提出，在涂覆之前用所謂的常壓的冷的等離子體來處理工件表面或基材的孔腔，以從所述表面除去污物并且調(diào)整和活性化該表面。
[0003]近年來，越來越多地提到將等離子體尤其是冷等離子體用于(人類)醫(yī)學(xué)用途。例如在《科學(xué)圖畫》(2009.1出版，第52頁)中提到作為潛在應(yīng)用可能性的腳部真菌防治或易感染燒傷治療。
[0004]在所設(shè)想的治療及工件表面處理中提出從靜態(tài)看逐點(diǎn)使用等離子體流。
[0005]在等離子體消毒中，除了出現(xiàn)的溫度外，在(例如通過紫外射線)產(chǎn)生等離子體時(shí)出現(xiàn)臭氧是成問題的，臭氧不僅讓人員或患者感到不適，甚至還可能危害健康(刺激性氣體)。
[0006]因此，本發(fā)明基于以下任務(wù)，即提供一種用于產(chǎn)生消毒區(qū)域(即具有至少平面范圍)的方法以及一種用于該方法的裝置，該裝置通過簡(jiǎn)單可靠的方式允許物體尤其是人的至少一個(gè)局部區(qū)域的手術(shù)、檢驗(yàn)或處理，而無需使人經(jīng)歷危害健康的危險(xiǎn)或者使物體損傷。
[0007]根據(jù)本發(fā)明，該任務(wù)將通過具有權(quán)利要求1的特征的方法和具有權(quán)利要求4的特征的裝置來完成。
[0008]根據(jù)本發(fā)明，通過采用具有至少一個(gè)等離子氣體發(fā)生器的裝置來產(chǎn)生消毒區(qū)域且尤其是用于手術(shù)、檢驗(yàn)或任意處理的消毒場(chǎng)(以下稱為手術(shù)場(chǎng))。在本發(fā)明意義上，消毒區(qū)域且尤其是消毒場(chǎng)是一個(gè)超過逐點(diǎn)潤(rùn)濕的區(qū)域，其在處理時(shí)間段內(nèi)的任意時(shí)刻被靜態(tài)覆蓋或具有濃度足夠高的消毒用等離子體。
[0009]而已知的逐點(diǎn)使用所謂的等離子體斑(Plasmafackel)本身在以等離子體斑掠過或掃過一條線或小區(qū)域時(shí)從靜態(tài)來看基本上只是逐點(diǎn)潤(rùn)濕，此時(shí)尚未被掠過的其它區(qū)域或已被掠過的其它區(qū)域尚未被或不再被等離子體覆蓋。因此，無法實(shí)現(xiàn)超過基本點(diǎn)狀區(qū)的區(qū)域或場(chǎng)的處理。另外，這種等離子體流太短而無法通過擴(kuò)大至工件距離來獲得處理面的增大(代替尖頭或點(diǎn))。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的裝置為了產(chǎn)生消毒區(qū)域而例如在該區(qū)域的邊緣具有至少部分包圍的殼體，在該殼體中優(yōu)選如此設(shè)置多個(gè)等離子體發(fā)生器，即它們根據(jù)需要以脈沖形式或連續(xù)地朝向該區(qū)域內(nèi)部發(fā)射等離子氣體，從而在處理過程中的任何時(shí)刻都存在足夠高的消毒用等離子氣體濃度。所需濃度此時(shí)可以(根據(jù)待消毒區(qū)域的形狀和尺寸，以下稱為消毒區(qū)域)通過相應(yīng)預(yù)定的至所述區(qū)域的等離子體輸出(量)來獲得。
[0011]但當(dāng)然也可以想到的是利用相應(yīng)適當(dāng)?shù)膫鞲衅鳈z測(cè)充分的或期望的等離子體濃度并且優(yōu)選達(dá)到期望的預(yù)定濃度時(shí)放開消毒區(qū)域用于處理和/或在濃度不足時(shí)發(fā)出報(bào)警信號(hào)。還可以想到據(jù)此(例如以閾值控制或極限范圍控制形式)控制等離子體噴出量以便在處理時(shí)保證在高于閾值或在一個(gè)范圍內(nèi)的期望濃度。在此情況下，當(dāng)尤其在消毒區(qū)域的緊鄰周圍環(huán)境中因?yàn)榈入x子體場(chǎng)內(nèi)的渦流所造成的(如由外科醫(yī)生在消毒區(qū)域內(nèi)猛然運(yùn)動(dòng)而引發(fā)的)臭氧極限值超出，如超過0.1ppm時(shí)，可以規(guī)定停止等離子體產(chǎn)生。
[0012]該殼體此時(shí)可以例如呈U形、多邊形或任何曲軌或直軌的形式構(gòu)成并且至少局部(開口式或環(huán)繞地)包圍所述區(qū)域或場(chǎng)。當(dāng)然也可以想到的是，可樞轉(zhuǎn)地或可插接地構(gòu)成該殼體的局部區(qū)域，從容也允許殼體的打開和閉合。另外可以想到的是以格柵形式構(gòu)成該殼體，從而帶有等離子體發(fā)生器的橋架(Stege)也能位于該區(qū)域內(nèi)。
[0013]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，該殼體呈環(huán)狀閉合(例如呈空心環(huán)狀)，其中，除了圓環(huán)外，還可以為此考慮任何環(huán)形如多邊形、卵形等。
[0014]在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，該殼體的形狀和尺寸可以是可變地構(gòu)成的。為此可以想到的是該殼體以模塊形式構(gòu)成，這些模塊根據(jù)需要例如借助相互插合可以相互連接。當(dāng)然也可以想到，該殼體的若干元件可拔出和插入地構(gòu)成，例如伸縮式構(gòu)成，并且通過這種方式來改變?cè)摎んw的形狀和尺寸以產(chǎn)生期望的場(chǎng)。等離子體發(fā)生器為此能夠以期望的數(shù)量被應(yīng)用在設(shè)于殼體內(nèi)的凹空部中，或者已經(jīng)固定安裝設(shè)置在該殼體內(nèi)。
[0015]在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，該裝置可以包括抽吸機(jī)構(gòu)用以產(chǎn)生消毒均勻場(chǎng)或甚至層狀流動(dòng)。例如可以為此在殼體內(nèi)基本與等離子體發(fā)生器噴嘴對(duì)置地設(shè)置多個(gè)吸嘴。
[0016]為了手術(shù)、檢驗(yàn)或任何處理，根據(jù)本發(fā)明，該裝置就近安置在所述物體尤其是人之處或者也直接放置(接觸到物體表面尤其是皮膚)，從而所產(chǎn)生的消毒區(qū)域的面積整體覆蓋住所期望的手術(shù)場(chǎng)。手術(shù)場(chǎng)此時(shí)一般只在要進(jìn)行處理的和/或要通過開通至體內(nèi)來完成手術(shù)的體表面的局部區(qū)域延伸。因?yàn)橛兄辽賻缀撩谆蚶迕椎膱?chǎng)厚度，故可以由此針對(duì)期望的手術(shù)保證一個(gè)消毒場(chǎng)，或者將該區(qū)域消毒。
[0017]如果該裝置或由此產(chǎn)生的等離子體場(chǎng)優(yōu)選在平行于當(dāng)前人體表面區(qū)的一個(gè)平面內(nèi)直接接觸皮膚設(shè)置或利用相對(duì)于環(huán)境密封的消毒覆蓋物，例如薄膜、蓋布等覆蓋在所述場(chǎng)和皮膚之間的可能有的間隙，則本身在有創(chuàng)性手術(shù)過程中可以保持手術(shù)創(chuàng)口的無菌性?？梢杂纱送ㄟ^簡(jiǎn)單方式阻止臟東西尤其是細(xì)菌入侵未受保護(hù)的體內(nèi)。
[0018]作為這個(gè)或這些等離子體發(fā)生器，此時(shí)可以采用這樣的發(fā)生器，其產(chǎn)生等離子體或等離子氣體(以下稱等離子氣體)的等離子體流，其(在產(chǎn)生且從等離子體發(fā)生器噴嘴流出后)具有小于或等于40°C的溫度(所謂的冷等離子氣體)。對(duì)于人類處理而言太熱的等離子體或等離子體流此時(shí)通過適當(dāng)?shù)睦鋮s措施(冷卻盤管、散熱片、添加冷氣體等)在從噴嘴流出之前被相應(yīng)冷卻。
[0019]因?yàn)樵谠搮^(qū)域靠近或甚至直接使用和相應(yīng)布置等離子體發(fā)生器，故可以將這樣的標(biāo)準(zhǔn)等離子體發(fā)生器用于產(chǎn)生冷等離子體，其優(yōu)選可以同樣具有大氣壓(大氣壓等離子體)或較高的壓力(高壓等離子體)。
[0020]優(yōu)選由空氣尤其是環(huán)境空氣或許在添加惰性氣體(如氬氣)以增大作用范圍情況下產(chǎn)生的等離子體氣流或等離子氣體流動(dòng)可以在一個(gè)(與消毒場(chǎng)相比小的)區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生抗菌狀態(tài)(優(yōu)選是最高品級(jí))，在這里，因?yàn)樗枰膰姵鏊俣鹊秃?或?qū)恿?伴隨抽吸)，故出現(xiàn)充其量少量的無害健康的臭氧(貧臭氧的等離子氣體)。通過這種方式產(chǎn)生的消毒場(chǎng)因此對(duì)于人類、動(dòng)物或物體敏感表面既無危險(xiǎn)，也無害(無害健康)。
[0021]另外，由于將消毒場(chǎng)限制到比人的身體側(cè)面小許多的區(qū)域而也可以采用這樣的等離子氣體，其可以擴(kuò)散較開且因而濃度較高地在封閉空間中起到危害健康的作用(臭氧濃度、壓力、溫度等)。
[0022]因此，關(guān)于等離子氣體發(fā)生器的類型，可以考慮所有的等離子體發(fā)生形式，尤其是非熱等離子體，此時(shí)至少在如此空間有限的應(yīng)用場(chǎng)合中可以避免對(duì)人員或患者的健康威脅(過高臭氧濃度、過大熱量、過高壓力等)。
[0023]另外，為了避免健康危害而可以想到的是，減小或甚至避免在等離子體或等離子體流中因使用合適的過濾器如HEPA過濾器(高效顆?？諝膺^濾器)、ULPA過濾器(超低滲透空氣)和SULPA過濾器(超級(jí)ULPA)等而引起的不希望有的高臭氧濃度。該過濾器也能被加入至等離子體發(fā)生器的氣流供應(yīng)(尤其空氣)中(在產(chǎn)生等離子體之前)，以阻止吸入灰塵、顆?；蛭⑸?。
[0024]由于使用多個(gè)等離子體發(fā)生器，也可以有利地采用以下發(fā)生器，其只產(chǎn)生一個(gè)等離子體流或深度較淺的等離子體區(qū)域，因?yàn)閳?chǎng)直徑可以用等于等離子體場(chǎng)深度一半(直徑/2)的兩個(gè)對(duì)置發(fā)生器來覆蓋。
[0025]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，該消毒區(qū)域通過使用多個(gè)(至少2、3、4、5、6個(gè)或更多)尤其是等離子體發(fā)生器來產(chǎn)生，所述等離子體發(fā)生器如此安置在至少部分包圍該場(chǎng)或區(qū)域的敞開或封閉的殼體中，即等離子體或者說等離子氣體被發(fā)射入場(chǎng)內(nèi)，優(yōu)選基本在同一平面(共平面)內(nèi)。顯然，因?yàn)橄拗扑鍪中g(shù)場(chǎng)向下有邊界，故可以想到的是，若干個(gè)或所有的等離子體發(fā)生器或其流出噴嘴略向下傾斜布置或可轉(zhuǎn)動(dòng)地構(gòu)成，從而簡(jiǎn)單快速地遍及到手術(shù)場(chǎng)內(nèi)可能有的深陷處。
[0026]通過使用多個(gè)等離子體發(fā)生器，可以通過簡(jiǎn)單且廉價(jià)的方式來產(chǎn)生一個(gè)具有消毒作用且尤其是醫(yī)用(長(zhǎng)期)消毒作用的區(qū)域或場(chǎng)。作為等離子體發(fā)生器，也可以有利地采