本發(fā)明涉及帶抗菌層的基材、抗菌片、放射線攝影裝置、觸控面板。
背景技術:
大多情況會根據(jù)目的對各種制品·構(gòu)件的表面實施加工而賦予各種功能。其中,近年來,在基材表面設置抗菌層的技術受到注目。
例如,在醫(yī)療現(xiàn)場所使用的醫(yī)療裝置大多連續(xù)地接觸多個患者。另外,由于觸控面板的表面會被不確定的許多操作者直接以手指觸碰,因此若細菌等在其表面繁殖,則存在感染疾病的風險。為此,通過在醫(yī)療裝置、觸控面板等各種裝置的表面設置抗菌層,能夠降低細菌增殖、疾病感染的風險。
作為此種技術,例如在專利文獻1中公開了由包含抗菌劑的耐擦傷性皮膜和基材構(gòu)成的前面板,所述抗菌劑包括含有銀的磷酸復鹽。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2002-337277號公報
技術實現(xiàn)要素:
發(fā)明所要解決的課題
另一方面,近年來,為了進一步提高各種裝置(例如醫(yī)療裝置、觸控面板)的使用頻率,要求在更短時間內(nèi)顯示抗菌作用。
另外,具有抗菌層的基材被長時間曝露于照明光或外光中,此時要求抗菌層不發(fā)生變色。例如,若觸控面板表面的抗菌層發(fā)生變色,則存在使觸控面板的能見性降低的風險。
即,要求耐光性優(yōu)異并且在短時間內(nèi)顯示抗菌作用的抗菌層。
本發(fā)明人等對專利文獻1中記載的帶抗菌層的基材進行了研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)其并不能充分滿足上述要件,需要進一步的改良。
本發(fā)明的目的在于:鑒于上述實際情況而提供具備耐光性優(yōu)異并且在短時間內(nèi)顯示抗菌作用的抗菌層的帶抗菌層的基材。
另外,本發(fā)明的目的還在于提供抗菌片、和具備上述帶抗菌層的基材的放射線攝影裝置及觸控面板。
用于解決課題的手段
本發(fā)明人等對上述課題進行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)能夠通過以下的構(gòu)成來解決上述課題。
(1)一種帶抗菌層的基材,其具有基材和配置于基材表面的至少一部分的抗菌層,
抗菌層具有至少1種包含銀的抗菌劑,
利用后述的提取試驗測定的每單位面積的銀離子量為15~50ng/cm2。
(2)根據(jù)(1)所述的帶抗菌層的基材,其中,抗菌層表面的水接觸角為40°以下。
(3)根據(jù)(1)或(2)所述的帶抗菌層的基材,其中,抗菌劑為包含載體和負載于載體上的銀的銀負載載體。
(4)根據(jù)(1)~(3)中任一項所述的帶抗菌層的基材,其中,抗菌層包含具有親水性基的聚合物。
(5)根據(jù)(4)所述的帶抗菌層的基材,其中,親水性基包含聚氧化烯基。
(6)根據(jù)(1)~(4)中任一項所述的帶抗菌層的基材,其中,抗菌層是對至少具備具有親水性基的單體及包含銀的抗菌劑的固化性組合物實施固化處理而形成的。
(7)根據(jù)(6)所述的帶抗菌層的基材,其中,具有親水性基的單體中的親水性基包含聚氧化烯基。
(8)一種放射線攝影裝置,其在表面具有(1)~(7)中任一項所述的帶抗菌層的基材。
(9)一種觸控面板,其在表面具有(1)~(7)中任一項所述的帶抗菌層的基材。
(10)一種抗菌片,其包含抗菌劑,
抗菌劑具有至少1種包含銀的抗菌劑,
利用后述的提取試驗測定的每單位面積的銀離子量為15~50ng/cm2。
(11)根據(jù)(10)所述的抗菌片,其表面的水接觸角為40°以下。
(12)根據(jù)(10)或(11)所述的抗菌片,其中,抗菌劑為包含載體和負載于載體上的銀的銀負載載體。
(13)根據(jù)(10)~(12)中任一項所述的抗菌片,其還包含具有親水性基的聚合物。
(14)根據(jù)(13)所述的抗菌片,其中,親水性基包含聚氧化烯基。
(15)根據(jù)(10)~(14)中任一項所述的抗菌片,其是對至少具備具有親水性基的單體及包含銀的抗菌劑的固化性組合物實施固化處理而形成的。
(16)根據(jù)(15)所述的抗菌片,其中,具有親水性基的單體中的親水性基包含聚氧化烯基。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明,可以提供具備耐光性優(yōu)異并且在短時間內(nèi)顯示抗菌作用的抗菌層的帶抗菌層的基材。
另外,根據(jù)本發(fā)明,還可以提供抗菌片、和具備上述帶抗菌層的基材的放射線攝影裝置及觸控面板。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的帶抗菌層的基材的一個實施方式的剖視圖。
具體實施方式
以下,對本發(fā)明的帶抗菌層的基材、抗菌片、放射線攝影裝置及觸控面板進行說明。
另外,本說明書中使用“~”表示的數(shù)值范圍是指包含“~”的前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的范圍。
作為本發(fā)明的特征點之一,可列舉控制來自抗菌層的銀離子的溶出量這一點。具體而言,發(fā)現(xiàn):若來自抗菌層的銀離子向后述提取試驗中使用的規(guī)定提取液的溶出(提取)量為規(guī)定值以上,則在更短時間內(nèi)得到抗菌作用。另外還發(fā)現(xiàn):若該溶出(提取)量為規(guī)定值以下,則耐光性優(yōu)異。
以下,首先,對本發(fā)明的帶抗菌層的基材進行詳細敘述。
圖1是本發(fā)明的帶抗菌層的基材的一個實施方式的剖視圖。如圖1所示,帶抗菌層的基材10具有基材12和配置于基材12上的抗菌層14。另外,抗菌層14也可以配置于基材12的表面的至少一部分。
以下,對各構(gòu)件進行詳細敘述。
<基材>
基材發(fā)揮支撐抗菌層的作用,其種類并無特別限制。另外,如后述那樣,基材可以構(gòu)成各種裝置的一部分(例如前面板)。
基材的形狀并無特別限制,可列舉板狀、膜狀、片狀、管狀、纖維狀、粒子狀等。另外,配置后述的抗菌層的基材表面可以是平坦面,也可以是凹面,還可以是凸面。
構(gòu)成基材的材料并無特別限制,例如可列舉金屬、玻璃、陶瓷、塑料(樹脂)等。其中,從操作性的方面出發(fā),優(yōu)選塑料。換言之,優(yōu)選樹脂基材。
<抗菌層>
抗菌層是被配置于基材表面的至少一部分且具有抗菌作用的層。
抗菌層具有至少1種包含銀的抗菌劑。
作為包含銀的抗菌劑(以后,也稱作銀系抗菌劑),只要包含銀(銀原子)即可,其種類并無特別限制。另外,銀的形態(tài)也并無特別限制,例如以金屬銀、銀離子、銀鹽(包括銀絡合物)等形態(tài)包含銀。另外,在本說明書中,銀絡合物包含在銀鹽的范圍內(nèi)。
另外,作為銀鹽,例如可列舉:乙酸銀、乙酰丙酮酸銀、疊氮化銀、乙炔銀、砷酸銀、苯甲酸銀、氟氫化銀、溴酸銀、溴化銀、碳酸銀、氯化銀、氯酸銀、鉻酸銀、檸檬酸銀、氰酸銀、氰化銀、(cis,cis-1,5-環(huán)辛二烯)-1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮酸銀、二乙基二硫代氨基甲酸銀、氟化銀(I)、氟化銀(II)、7,7-二甲基-1,1,1,2,2,3,3-七氟-4,6-辛二酮酸銀、六氟銻酸銀、六氟砷酸銀、六氟磷酸銀、碘酸銀、碘化銀、異硫氰酸銀、氰化銀鉀、乳酸銀、鉬酸銀、硝酸銀、亞硝酸銀、氧化銀(I)、氧化銀(II)、草酸銀、高氯酸銀、全氟丁酸銀、全氟丙酸銀、高錳酸銀、高錸酸銀、磷酸銀、苦味酸銀一水合物、丙酸銀、硒酸銀、硒化銀、亞硒酸銀、磺胺嘧啶銀、硫酸銀、硫化銀、亞硫酸銀、碲化銀、四氟硼酸銀、四碘合鋦酸銀(テトラヨードムキュリウム酸銀)、四鎢酸銀、硫氰酸銀、對甲苯磺酸銀、三氟甲磺酸銀、三氟乙酸銀及釩酸銀等。
另外,作為銀絡合物的一例,可列舉組氨酸銀絡合物、蛋氨酸銀絡合物、半胱氨酸銀絡合物、天冬氨酸銀絡合物、吡咯烷酮羧酸銀絡合物、氧代四氫呋喃羧酸銀絡合物或咪唑銀絡合物等。
作為銀系抗菌劑,例如可列舉上述銀鹽(銀絡合物)等的有機系的抗菌劑和包含后述的載體的無機系的抗菌劑,其種類并無特別限制。
在銀系抗菌劑中,從使抗菌層的耐光性更優(yōu)異和/或抗菌性更優(yōu)異的方面(以后,也簡稱作“使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面”)出發(fā),優(yōu)選包含載體和負載于載體上的銀的銀負載載體。
載體的種類并無特別限制,可列舉磷酸鋅鈣、磷酸鈣、磷酸鋯、磷酸鋁、硅酸鈣、活性炭、活性氧化鋁、硅膠、沸石、羥基磷灰石、磷酸鋯、磷酸鈦、鈦酸鉀、含水氧化鉍、含水氧化鋯、水滑石等。另外,作為沸石,例如可列舉:菱沸石、絲光沸石、毛沸石、斜發(fā)沸石等天然沸石;A型沸石、X型沸石、Y型沸石等合成沸石。
另外,從使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),作為載體,優(yōu)選所謂的陶瓷。
上述銀負載載體的平均粒徑并無特別限制,從使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選為0.1~10μm,更優(yōu)選為0.1~2μm。另外,上述平均粒徑是:利用顯微鏡測定至少10個任意的銀負載載體的直徑、并將這些直徑進行算術平均而得的值。
銀系抗菌劑中的銀的含量并無特別限制,例如,在上述銀負載載體的情況下,相對于銀負載載體總質(zhì)量,銀的含量優(yōu)選為0.1~10質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.3~5質(zhì)量%。
抗菌層中的上述銀系抗菌劑的含量并無特別限制,從使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選以使銀相對于抗菌層總質(zhì)量的含量達到0.001~20質(zhì)量%(優(yōu)選0.001~5質(zhì)量%)的方式使抗菌層含有銀系抗菌劑。
另外,在使用有機系的抗菌劑作為銀系抗菌劑的情況下,抗菌劑的含量并無特別限制,從使抗菌層的機械強度更優(yōu)異、本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),相對于抗菌層總質(zhì)量,優(yōu)選為1~4質(zhì)量%。
進而,在使用無機系的抗菌劑作為銀系抗菌劑的情況下,抗菌劑的含量并無特別限制,從使抗菌層的機械強度更優(yōu)異、本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),相對于抗菌層總質(zhì)量,優(yōu)選為0.001~10質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.01~5質(zhì)量%。
在抗菌層中可以包含上述銀系抗菌劑以外的成分。
例如,在抗菌層中可以包含具有親水性基的聚合物(以后,也簡稱作“親水性聚合物”)。通過在抗菌層中包含親水性聚合物,從而能夠使抗菌層顯示更佳的親水性,并且能夠通過使用水等的洗滌而更容易除去附著于抗菌層上的污染物質(zhì)。
親水性基的種類并無特別限制,例如可列舉:聚氧化烯基(例如聚氧乙烯基、聚氧丙烯基、氧亞乙基與氧亞丙基進行嵌段或無規(guī)結(jié)合而成的聚氧化烯基)、氨基、羧基、羧基的堿金屬鹽、羥基、烷氧基、酰胺基、氨基甲?;⒒酋0坊?、氨磺?;?、磺酸基、磺酸基的堿金屬鹽等。其中,從使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選聚氧化烯基。
親水性聚合物的主鏈的結(jié)構(gòu)并無特別限制,例如可列舉聚氨基甲酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚脲等。
另外,聚(甲基)丙烯酸酯為包含聚丙烯酸酯及聚甲基丙烯酸酯這兩者的概念。
作為親水性聚合物的適合形態(tài)之一,可列舉使具有上述親水性基的單體(以后,也簡稱作“親水性單體”)聚合而得的聚合物。
親水性單體是指具有上述親水性基和聚合性基的化合物。親水性基的定義如上所述。
親水性單體中的親水性基的數(shù)量并無特別限制,從使抗菌層顯示更佳的親水性的方面出發(fā),優(yōu)選為2個以上,更優(yōu)選為2~6個,進一步優(yōu)選為2~3個。
聚合性基的種類并無特別限制,例如可列舉自由基聚合性基、陽離子聚合性基、陰離子聚合性基等。作為自由基聚合性基,可列舉(甲基)丙烯?;?、丙烯酰胺基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。作為陽離子聚合性基,可列舉乙烯基醚基、環(huán)氧乙基、氧雜環(huán)丁基等。其中,優(yōu)選(甲基)丙烯酰基。
另外,(甲基)丙烯?;鶠榘;凹谆;@兩者的概念。
親水性單體中的聚合性基的數(shù)量并無特別限制,從使所得的抗菌層的機械強度更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選為2個以上,更優(yōu)選為2~6個,進一步優(yōu)選為2~3個。
作為親水性單體的適合形態(tài)之一,可列舉以下的式(1)所示的化合物。
【化1】
式(1)中,R1表示取代基。取代基的種類并無特別限制,可列舉公知的取代基,例如可列舉:可具有雜原子的烴基(例如烷基、芳基)、上述親水性基等。
R2表示聚合性基。聚合性基的定義如上所述。
L1表示單鍵或2價的連結(jié)基。2價的連結(jié)基的種類并無特別限制,例如可列舉-O-、-CO-、-NH-、-CO-NH-、-COO-、-O-COO-、亞烷基、亞芳基、雜芳基及它們的組合。
L2表示聚氧化烯基。聚氧化烯基是指以下的式(2)所示的基團。
式(2)*-(OR3)m-*
式(2)中,R3表示亞烷基(例如亞乙基、亞丙基)。m表示2以上的整數(shù),優(yōu)選為2~10,更優(yōu)選為2~6。另外,*表示結(jié)合位置。
n表示1~4的整數(shù)。
作為親水性單體的具體例,可列舉聚氧化烯改性季戊四醇三丙烯酸酯、聚氧化烯改性雙酚A二丙烯酸酯。
在得到親水性聚合物時,可以并用上述親水性單體和其他單體(不包含親水性基的單體)。即,可以使用使親水性單體與其他單體(親水性單體以外的單體)共聚而得的親水性聚合物。
其他單體的種類并無特別限制,只要是具有聚合性基的公知的單體,即可適宜使用。聚合性基的定義如上所述。
其中,從使抗菌層的機械強度更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選具有2個以上聚合性基的多官能單體。多官能單體作為所謂的交聯(lián)劑發(fā)揮作用。
多官能單體中所包含的聚合性基的數(shù)量并無特別限制,從使抗菌層的機械強度更優(yōu)異的方面及操作性的方面出發(fā),優(yōu)選為2~10個,更優(yōu)選為2~6個。
作為多官能單體,例如可列舉三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯。
親水性單體與其他單體(尤其多官能單體)的混合比(親水性單體的質(zhì)量/其他單體的質(zhì)量)并無特別限制,從容易控制抗菌層的親水性的方面出發(fā),優(yōu)選為0.01~10,更優(yōu)選為0.1~10。
另外,抗菌層中的上述親水性聚合物的含量并無特別限制,從使通過洗滌除去抗菌層上的污染物質(zhì)的除去性更優(yōu)異的方面出發(fā),相對于抗菌層總質(zhì)量,優(yōu)選為50質(zhì)量%以上,更優(yōu)選為70質(zhì)量%以上,進一步優(yōu)選為90質(zhì)量%以上。
(抗菌層的制造方法)
抗菌層的制造方法并無特別限制,可以采用公知的方法。例如可列舉:將包含上述的銀系抗菌劑的組合物涂布于基材上而形成抗菌層的方法;將另外制作的包含銀系抗菌劑的抗菌片貼附于基材上的規(guī)定位置的方法等。
其中,從更容易調(diào)整抗菌層的厚度、表面凹凸的方面出發(fā),優(yōu)選:將包含上述的親水性單體和銀系抗菌劑的組合物(固化性組合物)涂布于基材上的規(guī)定位置而形成涂膜,并對涂膜實施固化處理,由此形成抗菌層的方法(涂布法)。
在組合物中包含例如上述的親水性單體及銀系抗菌劑,但是也可以包含其他成分(上述其他單體、潤滑劑、溶劑(水或有機溶劑))。
另外,在組合物中可以包含聚合引發(fā)劑。通過包含聚合引發(fā)劑,從而使涂膜中的聚合更高效地進行,形成機械強度優(yōu)異的抗菌層。聚合引發(fā)劑的種類并無特別限制,可以利用固化處理的方法選擇最佳的種類,例如可以選擇熱聚合引發(fā)劑、光聚合引發(fā)劑。更具體而言,可列舉二苯甲酮、苯基氧化膦等芳香族酮類、α-羥基烷基苯酮系化合物(BASF IRGACURE184、127、2959、DAROCUR1173等)、苯基氧化膦系化合物(MAPO:BASF LUCIRIN TPO、BAPO:BASF IRGACURE 819)等。
組合物中所包含的聚合引發(fā)劑的含量并無特別限制,相對于親水性單體及其他單體的總質(zhì)量100質(zhì)量份,優(yōu)選為0.1~15質(zhì)量份,更優(yōu)選為1~6質(zhì)量份。
涂布組合物的方法并無特別限制,可以采用公知的涂布方法。
另外,固化處理的方法并無特別限制,可列舉加熱處理或光照射處理。
(抗菌層的特性)
抗菌層的平均厚度并無特別限制,從機械特性及抗菌性的方面出發(fā),優(yōu)選為0.5~20μm,更優(yōu)選為1~10μm。
另外,作為抗菌層的平均厚度的測定方法,將抗菌層的樣品片包埋于樹脂中,利用切片機切出剖面,利用掃描電子顯微鏡對切出的剖面進行觀察和測定。測定抗菌層的任意10點位置的厚度,將這些厚度進行算術平均。
抗菌層表面的水接觸角并無特別限制,從使利用洗滌等除去抗菌層上的污染物質(zhì)的除去性更優(yōu)異、抗菌性更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選為40°以下,更優(yōu)選為30°以下,進一步優(yōu)選為25°以下。下限并無特別限制,從所使用的材料特性的方面出發(fā),5°以上的情況較多。
另外,本說明書中,水接觸角基于JIS R 3257:1999的靜滴法來進行測定。測定使用NIC株式會社制LSE-ME1(軟件2win mini)。更具體而言,使用純水,在室溫20℃下于保持水平的抗菌層表面上滴加液滴2μl,并測定在滴加后20秒的時刻的接觸角。
<帶抗菌層的基材>
對于具備上述所述的基材和抗菌層的帶抗菌層的基材,利用后述的提取試驗測定的每單位面積的銀離子量顯示為15~50ng/cm2,從使本發(fā)明的效果更優(yōu)異的方面出發(fā),優(yōu)選為15~40ng/cm2,更優(yōu)選為15~30ng/cm2。
在上述銀離子量小于15ng/cm2的情況下,抗菌性變差。在銀離子量超過50ng/cm2的情況下,耐光性變差。
以下,對提取試驗的方法進行詳細敘述。
在提取試驗中,使用JIS Z 2801:2010中所規(guī)定的1/500普通肉湯培養(yǎng)基作為提取液。將該提取液的溫度控制在35±1℃,使帶抗菌層的基材中的抗菌層(例1、抗菌層的面積:4cm2(2cm×2cm))與提取液(在上述例1的情況下,液量:9mL)接觸1小時。另外,作為使抗菌層與提取液接觸的方法,可以實施將帶抗菌層的基材浸漬于提取液中的方法。
接著,在1小時結(jié)束后,從提取液回收帶抗菌層的基材,測定被提取至提取液中的銀離子量(ng)。關于提取液中的銀離子量的測定,使用原子吸收光譜(IENA制contrAA700)來實施,并根據(jù)預先制作好的標準曲線來求出銀離子量。
另外,在測定銀離子量時,為了提高測定的穩(wěn)定性,優(yōu)選根據(jù)需要在提取液中添加硝酸(約1mL)。
接著,將所得的銀離子量除以抗菌層與提取液的接觸面積(在上述例1的情況下,為4cm2),算出每單位面積的銀離子量(ng/cm2)。抗菌層與提取液的接觸面積是指在使抗菌層與提取液接觸時抗菌層表面與提取液接觸的面積,例如是指圖1中抗菌層14的與基材12側(cè)相反一側(cè)的主面14a的面積。
此處所得的銀離子量表示銀離子自抗菌層溶出(提取)的程度。
上述帶抗菌層的基材可以應用于各種用途,并且可以配置于各種裝置的表面。表面配置有該帶抗菌層的基材的裝置可以得到優(yōu)異的耐光性及短時間內(nèi)的抗菌性。
作為應用帶抗菌層的基材的裝置,例如可列舉放射線攝影裝置、觸控面板等。另外,在應用于這些裝置的情況下,支撐抗菌層的各種裝置的一部分(前面板)可以充當基材。
另外,上述的抗菌層其自身也可以作為抗菌片使用。抗菌片的構(gòu)成與上述的抗菌層相同,也可以使用抗菌片代替抗菌層來實施上述提取試驗。即,使上述的規(guī)定提取液與抗菌片接觸,并測定被提取至提取液中的銀離子量,將所得的值除以抗菌片與提取液的接觸面積,只要使所得的每單位面積的銀離子量在上述的規(guī)定范圍即可。
實施例
以下,利用實施例對本發(fā)明進行更詳細地說明,但本發(fā)明并不受這些實施例的限定。
(固化性組合物的制備)
將以下所示的各成分混合,制備成固化性組合物。
親水性單體:Miramer M4004(TOYO CHEMICALS CO.,LTD.制)76質(zhì)量份
交聯(lián)劑:A-DPH(新中村化學工業(yè)株式會社制)21質(zhì)量份
聚合引發(fā)劑:IRGACURE(BASF公司制)3質(zhì)量份
溶劑成分(1):甲醇15質(zhì)量份
溶劑成分(2):丙二醇單甲基醚35質(zhì)量份
<實施例及比較例>
按照表1所示的比例在上述制備出的固化性組合物中添加銀陶瓷粒子分散液(富士化學公司制、平均粒徑0.8μm)并進行混合,制備成抗菌層形成用的固化性組合物。
按照得到表1所示厚度的抗菌層的方式將所得的抗菌層形成用的固化性組合物涂布于聚碳酸酯片(旭硝子制CARBOGLASS CFR110C)上,使其在60℃干燥30分鐘后,利用UV照射使單體固化,由此形成抗菌層,制作成評價樣品(帶抗菌層的基材)。
另外,在實施例6中,控制親水性單體與交聯(lián)劑的質(zhì)量比,以便成為規(guī)定的水接觸角。
<評價>
使用所得的實施例及比較例的評價樣品,進行了以下的評價。結(jié)果歸納示于表1。
(抗菌性評價方法)
關于抗菌性評價,依據(jù)JIS Z 2801:2010中記載的評價方法,將在菌液中的接觸時間24小時變更為1小時,實施了試驗。測定各個試驗后的菌數(shù)(個/cm2),按照以下的基準進行了評價。菌種使用大腸菌。在實際使用上,優(yōu)選“A”或“B”。
“A”:菌數(shù)小于5個/cm2
“B”:菌數(shù)為5個/cm2以上且小于10個/cm2
“C”:菌數(shù)為10個/cm2以上
(耐光性試驗)
通過目視按照以下的觀點評價利用氙燈實驗箱(Xenon Weather-o-Meter)(SUGATEST制)以輸出60W/m2照射10小時后的評價樣品中的抗菌層的變色。在實際使用上,優(yōu)選“A”。
“A”:無變色
“B”:有變色
另外,使用各實施例及比較例中得到的評價樣品,實施了上述的提取試驗。
另外,按照上述的方法測定了各實施例及比較例中得到的評價樣品中的抗菌層的水接觸角。將結(jié)果示于表1。
表1中,“抗菌劑的質(zhì)量(質(zhì)量%)”是指抗菌層中的抗菌劑相對于固化物成分的質(zhì)量(固化性組合物中的全部固體成分質(zhì)量)的含量(質(zhì)量%)。
表1中,“Ag離子量”一欄是指利用提取試驗測定的每單位面積的銀離子量。
【表1】
如表1所示,本發(fā)明的帶抗菌層的基材在短時間內(nèi)的抗菌性優(yōu)異,并且耐光性也優(yōu)異。
另一方面,在銀離子量少于規(guī)定范圍的比較例1~2中,無法得到所需的抗菌性,在銀離子量多于規(guī)定范圍的比較例3中,耐光性變差。
符號說明
10 帶抗菌層的基材
12 基材
14 抗菌層