專利名稱：真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
印刷電路板是各式電子設(shè)備的基本組件，而其制成方式則包括有干 制程與濕制程兩種，其中該干制程在壓合步驟中，主要令印刷電路板的 基材，以預(yù)貼機(jī)將預(yù)貼膜由基材外側(cè)覆蓋，再令其經(jīng)過(guò)真空壓膜機(jī)的真 空腔，在真空腔內(nèi)加熱，并由壓膜裝置將預(yù)貼膜擠壓加壓貼覆固定于基
材表面，以利后續(xù)加工作業(yè)步驟的進(jìn)行；
現(xiàn)有的壓膜裝置是以墊體做為擠壓預(yù)貼膜與基材的結(jié)構(gòu)，而為方便 墊體受氣壓控制而擠壓基材，以及擠壓后再回復(fù)至原始位置，因此現(xiàn)有 的壓膜裝置是選擇以略為硬質(zhì)的墊體來(lái)擠壓基材，當(dāng)基材為非常光滑平 整的表面時(shí)，以硬質(zhì)的墊體壓膜并不會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題，但在大多數(shù)情況下， 該基材表面皆為具有許多微小凹凸不平整的型態(tài)，或?yàn)槠渌厥庥猛镜?基材，其表面的凹凸更為明顯，如此則現(xiàn)有以硬質(zhì)的墊體壓膜，將造成 預(yù)貼膜與基材無(wú)法充分貼合的缺點(diǎn)，并使得基材成品的良率下降，令廠 商聲譽(yù)與利益蒙受損失。
再請(qǐng)參閱圖9至圖1 3所示，其是現(xiàn)有壓膜裝置，將基材9 0以墊 體9l壓膜時(shí)的示意當(dāng)墊體9 1如圖9 、圖1 0所示，與基材9 0擠壓貼合時(shí)，基材9 0表面與墊體9 1接觸面往往如圖1 1 、圖1 2所示的具有許多微小凹 凸不平整處9 2 ，該墊體9 1則無(wú)法有效深入該不平整處9 2內(nèi)部表面， 因此將造成基材9 0該不平整處9 2的預(yù)貼膜填覆性較差，出現(xiàn)容易產(chǎn) 生氣泡等質(zhì)量不良的成品。
再者，若直接將現(xiàn)有的墊體9 l更換為較軟質(zhì)的結(jié)構(gòu)，則會(huì)因墊體 9 1過(guò)軟不易通過(guò)氣壓來(lái)操作控制，如圖l 3之一至圖1 3之三的壓膜 過(guò)程連續(xù)動(dòng)作示意圖，因直接以較軟質(zhì)的墊體9l受氣壓帶動(dòng)，因此在 壓膜過(guò)程中，該墊體9 l容易向一側(cè)傾偏，造成壓膜時(shí)對(duì)于基材9 0的 施力程度不均，如此雖然也可達(dá)到壓膜的效果，但卻會(huì)造成基材9 0在 受墊體9 l壓膜后，基材9 O上膜體皺折較多的膜皺現(xiàn)象，如此亦為不 良的成品。
因此就整體而言，現(xiàn)有壓膜裝置的墊體為配合氣壓動(dòng)作而采用較硬 質(zhì)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，硬質(zhì)的墊體雖在運(yùn)作上可達(dá)到一定程度的功效，但在面 對(duì)基材表面不平整處時(shí)，則較難以深入擠壓，令預(yù)貼膜與基填覆性較差， 無(wú)法完全發(fā)揮壓膜裝置應(yīng)有的功效，而若單純更換為軟質(zhì)的墊體，則易 造成膜皺產(chǎn)生，兩方面問(wèn)題無(wú)法同時(shí)兼顧，其可說(shuō)是相當(dāng)?shù)牟痪哂袑?shí)用 性，仍有加以改良的必要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的主要技術(shù)問(wèn)題在于，克服現(xiàn)有的真空壓膜機(jī)壓膜 時(shí)對(duì)于基材不平整處填覆性較差，容易產(chǎn)生氣泡等不良品的缺點(diǎn)，而提 供一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其具有以簡(jiǎn)單的方式達(dá)到提高壓膜裝置對(duì) 基材、預(yù)貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產(chǎn)生，并可適 應(yīng)各式特殊基材，提高整體質(zhì)量以及良率，且不易產(chǎn)生膜皺，更可視其 所需而快速更換輔助墊體。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是
一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，設(shè)有一本體，該本體包括有一真空腔體， 該真空腔體內(nèi)設(shè)有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空 腔體內(nèi)溫度，其特征在于該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助 墊體，該主墊體材質(zhì)較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結(jié)合，而該輔 助墊體材質(zhì)則較主墊體軟，該輔助墊體設(shè)置于主墊體表層；借此，令主 墊體可受真空腔體內(nèi)氣壓控制帶動(dòng)，再由主墊體表層的輔助墊體提供較 佳的壓膜填覆性。
前述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其中主墊體與輔助墊體是設(shè)置于真空
腔體內(nèi)上下兩側(cè)。
前述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其中主墊體與輔助墊體是設(shè)置于真空 腔體的上側(cè)或下側(cè)。
前述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其中輔助墊體可為鋪設(shè)于主墊體上、 黏著于主墊體上或直接成型于主墊體上的任一方式。
前述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其中真空腔體包括有相對(duì)應(yīng)的上工作 臺(tái)以及下工作臺(tái)，該上工作臺(tái)與下工作臺(tái)之間至少設(shè)有一氣密塊。
借此，進(jìn)行壓膜的動(dòng)作時(shí)，是由氣孔充入氣體，令主墊體受真空腔 體內(nèi)氣壓帶動(dòng)，再由主墊體表層的輔助墊體快速擠壓基材并深入基材不 平整處，提供基材與預(yù)貼膜較佳的壓膜填覆性；
再者，借由主墊體與輔助墊體的設(shè)計(jì)，因主墊體較硬有助于氣壓控 制操作，而不會(huì)因輔助墊體較軟，壓膜過(guò)程中傾偏造成施力不均，以及 產(chǎn)生過(guò)多膜皺，故可同時(shí)解決現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法兼顧的雙重問(wèn)題。
由上述可知，本發(fā)明是以簡(jiǎn)單的方式達(dá)到提高壓膜裝置對(duì)基材、預(yù) 貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產(chǎn)生，并可適應(yīng)各式特 殊基材，提高整體質(zhì)量以及良率，且不易產(chǎn)生膜皺，更可視其所需而快 速更換輔助墊體。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
圖1是本發(fā)明真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)開(kāi)啟狀態(tài)的剖視圖。
圖2是本發(fā)明真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)夾閉狀態(tài)的剖視圖。
圖3、圖4是本發(fā)明真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)壓膜過(guò)程局部示意圖。
圖5、圖6是圖4中接觸面的放大示意圖。
圖7之一至圖7之三是墊體壓膜過(guò)程連續(xù)動(dòng)作示意圖。
圖8是本發(fā)明第二實(shí)施例剖視圖。
圖9、圖l O是現(xiàn)有壓膜過(guò)程局部示意圖。
圖1 1、圖1 2是圖1 0中接觸面的放大示意圖。
圖l3之一至圖13之三是現(xiàn)有墊體壓膜過(guò)程連續(xù)動(dòng)作的示意圖。
圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明- 1 0 2
1 2 2 3 l — 9 0 —
-本體 -下工作臺(tái) -加熱裝置 -輔助墊體
-不平整處 曙基材
1 0 —
1 0 3
1 2 —
2 0 —
-真空腔體
力
密塊
-傳送裝置
1 0 1
1 0 4
1 2 1
3 0 —
-上工作臺(tái) 隱氣孔
-主墊體
湖
9 1
-墊體
9 2
-不平整處
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明有關(guān)于一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，請(qǐng)參閱圖1及圖2所示， 這種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)其本體1主要包括一真空腔體1 0 ，以及一通 過(guò)該真空腔體l 0的傳送裝置2 0;該真空腔體l O是由一組相對(duì)應(yīng)的 上工作臺(tái)1 0 1以及下工作臺(tái)1 0 2組成，該上、下工作臺(tái)1 0 1、 1 0 2是概呈n字型與U字型，該上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2并可做相 對(duì)的運(yùn)動(dòng)而開(kāi)啟或夾閉真空腔體l 0，且該上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2之間設(shè)有一氣密塊1 0 3，以增強(qiáng)該真空腔體l O在上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2夾閉時(shí)的氣密性，該上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2上各設(shè) 有一氣孔l 0 4，據(jù)以抽出、充入空氣來(lái)控制真空腔體l O內(nèi)的氣壓； 該傳送裝置2 O則可為膜體狀，該傳送裝置2 O是用以運(yùn)送附有預(yù)貼膜 (圖中未示)的基材3 0至真空腔體1 O內(nèi)進(jìn)行壓膜的步驟，令基材與 預(yù)貼膜結(jié)合；其中有關(guān)于真空壓膜機(jī)的其它部分結(jié)構(gòu)，以及傳送裝置2 O的細(xì)部型態(tài)為現(xiàn)有技術(shù)，非本發(fā)明所欲保護(hù)的結(jié)構(gòu)，在此不再贅述； 該真空腔體1 0內(nèi)設(shè)有一加熱裝置1 1以及一壓膜裝置1 2 ，其中 該加熱裝置l l分別設(shè)置于真空腔體l 0上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2相對(duì)應(yīng)的內(nèi)側(cè)，用以對(duì)真空腔體l O內(nèi)基材上下兩側(cè)加熱； 該壓膜裝置l 2則是設(shè)置于加熱裝置1 l內(nèi)側(cè)，該壓膜裝置l 2包括有 一外緣與上工作臺(tái)1 0 1或下工作臺(tái)1 0 2固定的主墊體1 2 1 ,其中 在下工作臺(tái)1 0 2的主墊體1 2 1內(nèi)側(cè)表層再鋪設(shè)有一輔助墊體1 2 2，該主墊體l 2 l的材質(zhì)較輔助墊體l 2 2硬，而該輔助墊體l 2 2 的材質(zhì)則較主墊體l 2 l軟，并較具塑性，該主墊體l 2 l是可受真空
腔體1 0內(nèi)氣壓的控制，如降低氣壓至真空時(shí)，則主墊體1 2 1緊縮附 于上、下工作臺(tái)10 1、 10 2內(nèi)側(cè)，而充入空氣時(shí)則主墊體1 2 1受 氣壓帶動(dòng)，并通過(guò)輔助墊體l 2 2擠壓基材，以達(dá)到壓膜并提高填覆性 的效果，且該輔助墊體l 2 2是可視基材的種類而更換不同軟硬、塑性 的材質(zhì)。
本發(fā)明在使用時(shí)，該真空腔體l 0初始如圖1所示，是呈上、下工 作臺(tái)l 0 1、 10 2開(kāi)啟的狀態(tài)，待傳送裝置2 0將基材搬移至真空腔 體l 0內(nèi)時(shí)，則該上、下工作臺(tái)l 0 1、 1 0 2夾閉而令真空腔體1 0 內(nèi)形成隔絕的真空狀態(tài)，再由氣孔l 0 4充入空氣，令壓膜裝置l 2如 圖2所示與受氣壓的控制而快速拍擊擠壓基材表面，令基材與預(yù)貼膜受 加熱裝置1 1加熱以及壓膜裝置1 2的擠壓而貼合固定。
其中該壓膜裝置l 2在擠壓基材與預(yù)貼膜時(shí)的細(xì)部狀態(tài)，則請(qǐng)參閱 圖3至圖6所示，該圖3、圖4僅繪制出下工作臺(tái)1 0 2的壓膜裝置1 2以及基材做說(shuō)明，而圖5、圖6則為壓膜裝置1 2與基材的接觸面放 大示意圖。
當(dāng)真空腔體1 0內(nèi)充入空氣前，則壓膜裝置1 2如圖3所示，仍與 基材保持一定距離，而當(dāng)真空腔體l 0充入空氣后，則壓膜裝置l 2如 圖4所示，該壓膜裝置l 2受到氣壓帶動(dòng)，而快速拍擊擠壓該基材；
如圖5以及圖6所示，該基材表面是具有凹凸不平整處3 1，而該 壓膜裝置l 2的輔助墊體1 2 2則因材質(zhì)較軟，塑性較佳而可略為配合 不平整處3 1的形狀而變形，并伸入該基材不平整處3 1內(nèi)，借由輔助 墊體l 2 2來(lái)壓膜可提高預(yù)貼膜與基材的填覆效果，令預(yù)貼膜亦可隨輔 助墊體l 2 2的擠壓而伸入到基材不平整處3 1內(nèi)部與其貼合，減少氣 泡產(chǎn)生，提高產(chǎn)品的良率。
請(qǐng)參閱圖7之一至圖7之三所示，其是本發(fā)明壓膜裝置1 2的壓膜 過(guò)程連續(xù)動(dòng)作示意圖，該壓膜裝置l 2因設(shè)有較硬質(zhì)的主墊體1 2 l可 配合氣壓控制，因此在壓膜的過(guò)程中不易傾偏，如此可確保設(shè)置于主墊 體l 2 l上輔助墊體l 2 2與基材3 O的接觸點(diǎn)適當(dāng)，以及施力更為均
勻，減少膜皺的產(chǎn)生，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
再請(qǐng)參閱圖8所示，其是本發(fā)明真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)第二實(shí)施例， 其中主要組件與第一實(shí)施例相同，在此不再贅述，如下僅就不同結(jié)構(gòu)敘 述之
本發(fā)明的壓膜裝置l 2除可在下工作臺(tái)1 0 2設(shè)置有主墊體1 2 1 與輔助墊體l 2 2，其同樣亦可在上工作臺(tái)l 0 l設(shè)置有主墊體l 2 1 與輔助墊體l 2 2，或如圖8所示，本發(fā)明的壓膜裝置l 2亦可在上、 下工作臺(tái)10 1、 10 2同時(shí)鋪設(shè)有主墊體1 2 1與輔助墊體12 2， 其中該上工作臺(tái)l 0 l的輔助墊體l 2 2則可以黏合或直接成型于主墊 體l 2 l表層的方式將其定位，如此可提供上下雙層的良好壓膜效果。
權(quán)利要求
1.一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，設(shè)有一本體，該本體包括有一真空腔體，該真空腔體內(nèi)設(shè)有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空腔體內(nèi)溫度，其特征在于該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助墊體，該主墊體材質(zhì)較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結(jié)合，而該輔助墊體材質(zhì)則較主墊體軟，該輔助墊體設(shè)置于主墊體表層；借此，令主墊體可受真空腔體內(nèi)氣壓控制帶動(dòng)，再由主墊體表層的輔助墊體提供較佳的壓膜填覆性。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 主墊體與輔助墊體是設(shè)置于真空腔體內(nèi)上下兩側(cè)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 主墊體與輔助墊體是設(shè)置于真空腔體的上側(cè)或下側(cè)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 輔助墊體可為鋪設(shè)于主墊體上、黏著于主墊體上或直接成型于主墊體上 的任一方式。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 真空腔體包括有相對(duì)應(yīng)的上工作臺(tái)以及下工作臺(tái)，該上工作臺(tái)與下工作 臺(tái)之間至少設(shè)有一氣密塊。
全文摘要
一種真空壓膜機(jī)壓膜結(jié)構(gòu)，設(shè)有一本體，該本體包括有一真空腔體，該真空腔體內(nèi)設(shè)有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空腔體內(nèi)溫度，該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助墊體，該主墊體材質(zhì)較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結(jié)合，而該輔助墊體材質(zhì)則較主墊體軟，該輔助墊體設(shè)置于主墊體表層；借此，令主墊體可受真空腔體內(nèi)氣壓控制帶動(dòng)，再由主墊體表層的輔助墊體提供較佳的壓膜填覆性。本發(fā)明具有以簡(jiǎn)單的方式達(dá)到提高壓膜裝置對(duì)基材、預(yù)貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產(chǎn)生，并可適應(yīng)各式特殊基材，提高整體質(zhì)量以及良率，且不易產(chǎn)生膜皺，更可視其所需而快速更換輔助墊體。
文檔編號(hào)H05K3/02GK101188908SQ200610145430
公開(kāi)日2008年5月28日 申請(qǐng)日期2006年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月17日
發(fā)明者李燕昌, 林英菘, 賴金森 申請(qǐng)人:志圣工業(yè)股份有限公司