一種特征點(diǎn)處理方法及裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種特征點(diǎn)處理方法及裝置,能夠減少非視距誤差,從而提高定位精度。所述方法包括:根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,該矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù);對(duì)該矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)該矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;去除該矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。這樣,通過對(duì)特征點(diǎn)進(jìn)行分類并去除孤立點(diǎn),從而減少非視距誤差,應(yīng)用去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)進(jìn)行定位能夠提高定位精度。
【專利說明】一種特征點(diǎn)處理方法及裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及計(jì)算機(jī)領(lǐng)域,特別涉及一種特征點(diǎn)處理方法及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]通信基站覆蓋范圍廣,推廣成本低,基于通信基站實(shí)現(xiàn)定位是實(shí)現(xiàn)室內(nèi)位置服務(wù)的重要手段。在基于通信基站的室內(nèi)定位中,非視距(簡(jiǎn)稱為NL0S,英文全稱為None Lineof Sight)誤差是重要誤差來源。例如,信號(hào)受建筑物遮擋時(shí)將產(chǎn)生非視距傳播現(xiàn)象,造成定位終端測(cè)得的信號(hào)傳播距離大于定位終端與通信基站之間的真實(shí)距離,形成非視距誤差。
[0003]隨著通信基站密度的增大,NLOS誤差相對(duì)減小,但仍可造成數(shù)十米甚至上百米的誤差。故基于通信基站實(shí)現(xiàn)定位時(shí),需要對(duì)選取的特征點(diǎn)進(jìn)行處理減小非視距誤差,應(yīng)用處理后的特征點(diǎn)進(jìn)行定位計(jì)算可以有效提高定位精度。
[0004]因此,如何對(duì)特征點(diǎn)進(jìn)行處理,減小非視距誤差,以提高定位精度是當(dāng)前需要解決的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供一種特征點(diǎn)處理方法及裝置,能夠減少非視距誤差,從而提高定位精度。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]一種特征點(diǎn)處理方法,包括:
[0008]根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,所述矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)所述N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù);
[0009]對(duì)所述矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)所述矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;
[0010]去除所述矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。
[0011]一種特征點(diǎn)處理裝置,包括:
[0012]建立單元,用于根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,所述矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)所述N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù);
[0013]第一處理單元,用于對(duì)所述矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)所述矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;
[0014]第二處理單元,用于去所述除矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。
[0015]基于上述技術(shù)方案,本發(fā)明實(shí)施例的特征點(diǎn)處理方法及裝置根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù);對(duì)矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;去除矩陣31中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn)。這樣,通過對(duì)特征點(diǎn)進(jìn)行分類并去除孤立點(diǎn),從而減少非視距誤差,應(yīng)用去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)進(jìn)行定位能夠提高定位精度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1提供的一種特征點(diǎn)處理方法的流程圖;
[0018]圖2為本發(fā)明實(shí)施例1提供的一種特征點(diǎn)選取示意圖;
[0019]圖3為本發(fā)明實(shí)施例2提供的一種特征點(diǎn)處理方法的流程圖;
[0020]圖4a為本發(fā)明實(shí)施例2提供的特征點(diǎn)聚類結(jié)果示意圖之一;
[0021]圖4b為本發(fā)明實(shí)施例2提供的特征點(diǎn)聚類結(jié)果示意圖之二 ;
[0022]圖5為本發(fā)明實(shí)施例3提供的一種定位方法的流程圖;
[0023]圖6為本發(fā)明實(shí)施例4提供的一種特征點(diǎn)處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0025]實(shí)施例1
[0026]如圖1所示,本施例提供一種特征點(diǎn)處理方法,包括:
[0027]110、根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,該矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù)。
[0028]其中,特征點(diǎn)為預(yù)先選取,本發(fā)明實(shí)施例不限定特征點(diǎn)的選取方式。圖2為一個(gè)具體室內(nèi)場(chǎng)景示意圖,圖2中圓點(diǎn)即為選定的特征點(diǎn)。
[0029]120、對(duì)該矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)該矩陣S1中的元素進(jìn)行分類。
[0030]可選地,可以對(duì)矩陣S中的相同的元素進(jìn)行合并得到矩陣Sp
[0031]130、去除該矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。
[0032]其中,孤立點(diǎn)為特征點(diǎn)中誤差較大的點(diǎn),應(yīng)用孤立點(diǎn)進(jìn)行定位影響定位精度。
[0033]上述110-130的執(zhí)行主體可以為特征點(diǎn)處理裝置,如定位終端、計(jì)算機(jī)終端、通信
終端等。
[0034]本發(fā)明實(shí)施例的特征點(diǎn)處理方法根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù);對(duì)矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;去除矩陣31中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn)。這樣,通過對(duì)特征點(diǎn)進(jìn)行分類并去除孤立點(diǎn),從而減少非視距誤差,應(yīng)用去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)進(jìn)行定位能夠提高定位精度。
[0035]實(shí)施例2
[0036]如圖3所示,本施例提供一種特征點(diǎn)處理方法,包括:
[0037]210、根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,該矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)該N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù)。
[0038]本實(shí)施例中,可以根據(jù)
[0039]
【權(quán)利要求】
1.一種特征點(diǎn)處理方法,其特征在于,包括: 根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,所述矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)所述N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,其中N為大于或等于2的整數(shù); 對(duì)所述矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)所述矩陣S1中的元素進(jìn)行分類;去除所述矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,如
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述對(duì)矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1包括: 對(duì)所述矩陣S中包含相同元素的進(jìn)行合并,并對(duì)相同元素所對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)進(jìn)行處理,得到所述矩陣Si。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,所述去除矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn)包括: 每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中第一 NLOS誤差減去第二 NLOS誤差所得到的值大于預(yù)設(shè)值的特征點(diǎn)為孤立點(diǎn),將孤立點(diǎn)去除。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,根據(jù)
6.一種特征點(diǎn)處理裝置,其特征在于,包括: 建立單元,用于根據(jù)N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,建立矩陣S,所述矩陣S中的元素用于標(biāo)識(shí)所述N個(gè)特征點(diǎn)中每?jī)蓚€(gè)特征點(diǎn)能否聚為一類,O其中N為大于或等于2的整數(shù); 第一處理單元,用于對(duì)所述矩陣S中的元素進(jìn)行合并,得到矩陣S1,并對(duì)所述矩陣S1中的元素進(jìn)行分類; 第二處理單元,用于去所述除矩陣S1中每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中的除孤立點(diǎn),每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中去除孤立點(diǎn)后剩余的特征點(diǎn)用于定位。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述建立單元具體用于,如
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的裝置,其特征在于,所述第一處理單元具體用于,對(duì)所述矩陣S中包含相同元素的進(jìn)行合并,并對(duì)相同元素所對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)進(jìn)行處理,得到所述矩陣S10
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7或8所述的裝置,其特征在于,所述第二處理單元具體用于,每一類元素對(duì)應(yīng)的特征點(diǎn)中第一 NLOS誤差減去第二 NLOS誤差所得到的值大于預(yù)設(shè)值的特征點(diǎn)為孤立點(diǎn),將孤立點(diǎn)去除。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,所述第二處理單元具體用于,根據(jù)
【文檔編號(hào)】H04W64/00GK103634904SQ201310611399
【公開日】2014年3月12日 申請(qǐng)日期:2013年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月26日
【發(fā)明者】鄧中亮, 余彥培, 王克己, 安倩, 阮鳳立, 李曉陽, 馬文旭 申請(qǐng)人:北京郵電大學(xué)