專利名稱：光學(xué)掃描設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)掃描設(shè)備(掃描光學(xué)設(shè)備)，包括光源，其用于發(fā)射光；偏轉(zhuǎn)裝置，其包括利用從所述光源發(fā)射的光對(duì)待掃描表面進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的偏轉(zhuǎn)元件，以及用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件的馬達(dá)；以及支撐面，其用于支撐所述光源和所述偏轉(zhuǎn)裝置。
背景技術(shù)：
在用于電子照相成像設(shè)備的光學(xué)掃描設(shè)備中，依據(jù)圖像信號(hào)對(duì)從光源發(fā)射出的光通量(光束)進(jìn)行光學(xué)調(diào)制。隨后，隨著使偏轉(zhuǎn)元件轉(zhuǎn)動(dòng)，經(jīng)光學(xué)調(diào)制后的光束被多面反射鏡周期性地偏轉(zhuǎn)、并通過(guò)具有f θ特性的成像光學(xué)系統(tǒng)以光點(diǎn)樣形狀會(huì)聚在作為具有感光性的圖像承載部件(下文將稱為“感光鼓”)的電子照相感光元件的表面上。在成像平面 (表面)上的所述光點(diǎn)處，通過(guò)采用多面反射鏡進(jìn)行的主掃描以及由感光鼓的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行的副掃描，形成靜電潛像，從而完成圖像記錄。當(dāng)多面反射鏡轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，諸如馬達(dá)之類的用于驅(qū)動(dòng)多面反射鏡的驅(qū)動(dòng)部產(chǎn)生熱。所述熱被傳導(dǎo)至諸如f θ鏡之類的成像透鏡、諸如折疊式反射鏡之類的光學(xué)元件以及其內(nèi)容置所述透鏡和所述反射鏡的殼體，以引起所述成像透鏡、所述光學(xué)元件以及所述殼體的熱膨脹(變形)。這些部件的輕微變形將使從所述光源發(fā)射出的光束產(chǎn)生光路誤差。這種誤差導(dǎo)致畫質(zhì)降低。為了解決這種問(wèn)題，已披露了這樣一種掃描光學(xué)設(shè)備，其在所述多面反射鏡和所述成像透鏡之間設(shè)置有屏蔽部件，以防止所述熱被傳導(dǎo)至所述成像透鏡和所述折疊式反射鏡。在該設(shè)備中，在所述多面反射鏡和所述光學(xué)透鏡之間設(shè)置有具有允許激光通過(guò)的開口的垂直壁。所述垂直壁防止被加熱的空氣接觸到所述光學(xué)透鏡。由此，遏制了由所述熱引起的所述光學(xué)透鏡的變形。然而，在設(shè)置有所述垂直壁的情況下，所述熱空氣將接觸所述垂直壁，從而使所述垂直壁發(fā)生變形。在圖對(duì)中，在多面反射鏡附近設(shè)置壁。壁7a設(shè)置成與光學(xué)系統(tǒng)殼體成為一體。壁 7a設(shè)置有允許激光通過(guò)的激光通過(guò)開口 lOa(lOb)。如圖2所示，光學(xué)系統(tǒng)殼體連接有用于提供封閉內(nèi)部結(jié)構(gòu)的蓋。壁7a不接觸所述蓋。所述多面反射鏡由支撐面6d支撐。所述多面反射鏡并未示出，但設(shè)置在壁7a附近，以使所述多面反射鏡的反射面面向開口 IOa(IOb)。 當(dāng)所述多面反射鏡轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，被加熱的空氣接觸壁7a。尤其是，在開口 IOa的周邊處，由于離所述多面反射鏡的距離短，所以溫度高。結(jié)果，開口 IOa周邊處的由熱膨脹導(dǎo)致的變形量大于遠(yuǎn)離開口 IOa的區(qū)域的由熱膨脹導(dǎo)致的變形量?；谶@個(gè)原因，當(dāng)多面反射鏡開始轉(zhuǎn)動(dòng)且所述壁的溫度升高時(shí)，在開口 IOa的周邊處的壁朝著所述蓋方向變形。此外，在遠(yuǎn)離開口 IOa的區(qū)域處的壁也朝著所述蓋方向變形。然而，在開口 IOa的周邊處的壁的變形量大于遠(yuǎn)離開口 IOa的區(qū)域處的壁的變形量，從而所述光學(xué)系統(tǒng)殼體可變成如圖12所示的拱形或彎曲。存在著這樣的可能性，即所述光學(xué)系統(tǒng)殼體的所述變形不利地影響容置在所述光學(xué)系統(tǒng)殼體內(nèi)的所有光學(xué)元件，由此與單個(gè)光學(xué)元件變形過(guò)程中產(chǎn)生的光路誤差相比，導(dǎo)致產(chǎn)生更復(fù)雜的光路誤差，從而使得輸出圖像的質(zhì)量降低。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問(wèn)題，完成了本發(fā)明。本發(fā)明的主要目的在于提供一種具有這樣構(gòu)造的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，即使設(shè)置在多面反射鏡附近的壁產(chǎn)生變形，光學(xué)系統(tǒng)殼體也不太易于產(chǎn)生變形。在考慮了下面結(jié)合隨附附圖給出的本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式的說(shuō)明之后，本發(fā)明的這些或其它目的、特征以及優(yōu)點(diǎn)將變得更清楚。


圖1是實(shí)施方式1的成像設(shè)備的示意圖。圖2是圖1的局部放大圖。圖3是光學(xué)掃描設(shè)備在去掉覆蓋元件(頂蓋)后示出光學(xué)系統(tǒng)殼體內(nèi)部的狀態(tài)下的立體圖。圖4是光學(xué)掃描設(shè)備在去掉覆蓋元件后示出光學(xué)系統(tǒng)殼體內(nèi)部的狀態(tài)下的俯視圖。圖5是偏轉(zhuǎn)裝置的外觀的立體圖。圖6是激光單元的副掃描剖視圖。圖7是入射側(cè)光學(xué)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)和成像光學(xué)系統(tǒng)的展開示意圖，所述系統(tǒng)包括設(shè)置在單個(gè)光源到單個(gè)待掃描表面之間的光學(xué)元件。圖8是設(shè)置有圖4中偏轉(zhuǎn)裝置的部分的局部放大圖。圖9A和圖9B是沿圖8所示的(9)-(9)線截取的放大剖視圖。圖10(a)和圖10(b)是示意圖，分別用于說(shuō)明來(lái)自對(duì)置式掃描系統(tǒng)一側(cè)的眩光和用于擋住所述眩光的側(cè)壁。圖11是在所述光學(xué)掃描殼體未在其底部設(shè)置開口時(shí)的局部放大圖。圖12A和圖12B分別為立體圖和側(cè)視圖，示出了關(guān)于圖11所示的光學(xué)系統(tǒng)殼體在溫度升高過(guò)程中的變形狀態(tài)的模擬結(jié)果。圖13是示出了設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體底部的開口的示意圖。圖14是用于說(shuō)明設(shè)置所述開口的效果的曲線圖。圖15是在側(cè)壁7a設(shè)置有開口 9a和9b時(shí)的光學(xué)系統(tǒng)殼體的剖視圖。圖16、圖17和圖18是示出了在另一實(shí)施方式中設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體底部的開口的形狀和位置的俯視圖。圖19是在實(shí)施方式3中光學(xué)掃描設(shè)備的主要結(jié)構(gòu)部分的剖視圖。圖20是設(shè)置偏轉(zhuǎn)裝置的部分的放大立體圖。圖21是示出空氣在光學(xué)掃描設(shè)備中流動(dòng)的示意圖。圖22為曲線圖，用于確認(rèn)關(guān)于構(gòu)造在光學(xué)系統(tǒng)殼體背面的封閉空間部形成的顏色重合失調(diào)變化的效果。圖23是示出另一實(shí)施方式中設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體底部的開口的形狀和位置的俯視圖。圖M是示出了常規(guī)光學(xué)掃描系統(tǒng)的示意圖，所述常規(guī)光學(xué)掃描系統(tǒng)包括未在底部設(shè)置開口的光學(xué)系統(tǒng)殼體。
具體實(shí)施例方式[實(shí)施方式1](1)成像設(shè)備圖1是示出了一成像設(shè)備的實(shí)施方式的示意圖，在所述成像設(shè)備中安裝有依據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描設(shè)備(掃描光學(xué)設(shè)備)。圖2是圖1的局部放大圖。該成像設(shè)備為利用電子照相、激光束掃描曝光方法以及中間轉(zhuǎn)印帶方法的級(jí)聯(lián)式彩色成像設(shè)備，且該成像設(shè)備還是用作復(fù)印機(jī)、打印機(jī)和傳真機(jī)的多功能機(jī)。該成像設(shè)備包括打印站A和安裝在打印站A上的讀取站B。在復(fù)印機(jī)模式的情形下，將原始圖像的光電讀取圖像信號(hào)(圖像信息)從讀取站B 輸入到控制電路部C的圖像信號(hào)處理部。圖像信號(hào)處理部準(zhǔn)備數(shù)字圖像信號(hào)，所述數(shù)字圖像信號(hào)是通過(guò)將所輸入的圖像信號(hào)顏色轉(zhuǎn)換(分離)成黃色、品紅色、青色和黑色的分量圖像信號(hào)來(lái)獲得的?；谶@些圖像信號(hào)，打印站A如復(fù)印機(jī)一樣操作。在打印機(jī)模式的情形下，從個(gè)人計(jì)算機(jī)等外部設(shè)備D輸入到控制電路部C的圖像信號(hào)處理部中的圖像信號(hào)被進(jìn)行圖像處理，由此打印站A如打印機(jī)一樣操作。在傳真接收模式的情形下，從作為外部設(shè)備D的遠(yuǎn)程傳真機(jī)輸入到控制電路部C 的圖像信號(hào)處理部中的圖像信號(hào)被進(jìn)行圖像處理，由此打印站A如傳真接收機(jī)一樣操作。在傳真發(fā)送(傳送)模式的情形下，由讀取站B通過(guò)光電方式讀取的原始圖像信號(hào)輸入到控制電路部C，并發(fā)送到作為外部設(shè)備D的遠(yuǎn)程傳真機(jī)。由此，所述成像設(shè)備如傳真發(fā)送機(jī)一樣操作?？刂齐娐凡緾是用于依據(jù)預(yù)定程序使所述成像設(shè)備服從集中控制的控制裝置(控制器)°如圖1所示，所述打印站包括多個(gè)以預(yù)定間隔彼此平行地水平設(shè)置的成像部 (站)。在該實(shí)施方式中，所述多個(gè)成像部為第一至第四(四個(gè))成像站，分別為用于形成黃色⑴調(diào)色劑圖像的成像站UY、用于形成品紅色(M)調(diào)色劑圖像的成像站UM、用于形成青色(C)調(diào)色劑圖像的成像站UC、以及用于形成黑色⑷調(diào)色劑圖像的成像站UK。各個(gè)成像站為具有相同構(gòu)造的電子照相成像機(jī)構(gòu)，且在各成像站均設(shè)置有作為圖像承載部件(待掃描元件或記錄介質(zhì))的鼓式電子照相感光部件(下文中，將稱為“感光鼓”)51。感光鼓51以預(yù)定速度沿箭頭所示的順時(shí)針?lè)较虮恍D(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。在感光鼓51周圍設(shè)置有對(duì)感光鼓51進(jìn)行作用的成像處理裝置。在本實(shí)施方式中，成像處理裝置為主充電器 51、顯影裝置53、一次轉(zhuǎn)印輥54、以及鼓清潔裝置55。在第一至第四成像站的顯影裝置53 中分別容置有作為顯影劑的黃色(Y)調(diào)色劑、品紅色(M)調(diào)色劑、青色(C)調(diào)色劑和黑色 ⑷調(diào)色劑。在第一至第四成像站UY、UM、UC、及UK的下方設(shè)置有作為圖像曝光裝置的光學(xué)掃描設(shè)備E。光學(xué)掃描設(shè)備E包括光源，其用于發(fā)射光；偏轉(zhuǎn)裝置，其包括利用從所述光源發(fā)射出的光對(duì)待掃描的表面進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的偏轉(zhuǎn)元件以及用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件的馬達(dá)；以及光學(xué)系統(tǒng)殼體，其用于容置所述光源和所述偏轉(zhuǎn)裝置。光學(xué)掃描設(shè)備E將在后面給出的第( 部分中給予更具體的說(shuō)明。在第一成像站UY，利用激光通量(激光束)LY照射被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)并隨后由主充電器 52充電的感光鼓51的表面，所述激光束LY從光學(xué)掃描設(shè)備E作為掃描光發(fā)射出，并相應(yīng)地調(diào)制成用于全色圖像的Y顏色分量圖像的圖像信號(hào)。由此，通過(guò)所述激光束LY形成靜電潛像。通過(guò)顯影裝置53將所述潛像顯影為Y調(diào)色劑圖像。在第二成像站UM，利用激光通量(激光束)LM照射被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)并隨后由主充電器 52充電的感光鼓51的表面，所述激光束從光學(xué)掃描設(shè)備E作為掃描光發(fā)射出，并相應(yīng)地調(diào)制成用于全色圖像的M顏色分量圖像的圖像信號(hào)。由此，通過(guò)所述激光束LM形成靜電潛像。 通過(guò)顯影裝置53將所述潛像顯影為M調(diào)色劑圖像。在第三成像站UC，利用激光通量(激光束)LC照射被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)并隨后由主充電器 52充電的感光鼓51的表面，所述激光束從光學(xué)掃描設(shè)備E作為掃描光發(fā)射出，并相應(yīng)地調(diào)制成用于全色圖像的C顏色分量圖像的圖像信號(hào)。由此，通過(guò)所述激光束LC形成靜電潛像。 通過(guò)顯影裝置53將所述潛像顯影為C調(diào)色劑圖像。在第四成像站UK，利用激光通量(激光束)LK照射被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)并隨后由主充電器 52充電的感光鼓51的表面，所述激光束從光學(xué)掃描設(shè)備E作為掃描光發(fā)射出，并相應(yīng)地調(diào)制成用于全色圖像的K顏色分量圖像的圖像信號(hào)。由此，通過(guò)所述激光束LK形成靜電潛像。 通過(guò)顯影裝置53將所述潛像顯影為K調(diào)色劑圖像。在第一至第四成像站UY、UM、UC、UK上設(shè)置有頭尾相接的中間轉(zhuǎn)印帶56。中間轉(zhuǎn)印帶56在帶傳送輥57和58之間被拉伸，并以與感光鼓51的旋轉(zhuǎn)速度相對(duì)應(yīng)的速度沿逆時(shí)針?lè)较虮恍D(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。各成像站的感光鼓51的上部位置面向中間轉(zhuǎn)印帶56的下帶部分的下表面。各一次轉(zhuǎn)印輥M設(shè)置在中間轉(zhuǎn)印帶56的內(nèi)側(cè)，并使所述下帶部分介于各一次轉(zhuǎn)印輥M和相關(guān)感光鼓51的所述上部位置之間，且彼此接觸。在中間轉(zhuǎn)印帶56和相應(yīng)感光鼓51之間的接觸部構(gòu)成一次轉(zhuǎn)印壓區(qū)Tl。帶傳送輥57使中間轉(zhuǎn)印帶56介于帶傳送輥57和二次轉(zhuǎn)印輥59之間，且彼此接觸。在中間轉(zhuǎn)印帶56和二次轉(zhuǎn)印輥59之間的接觸部構(gòu)成二次轉(zhuǎn)印壓區(qū)T2?？刂齐娐凡緾控制各個(gè)成像站UY、UM、UC、UK,以基于成像開始信號(hào)和針對(duì)所輸入的彩色圖像的顏色分離分量圖像信號(hào)來(lái)執(zhí)行成像操作。結(jié)果，在成像站UY、UM、UC、UK,分別以預(yù)定的控制定時(shí)在相關(guān)的旋轉(zhuǎn)感光鼓51上形成黃色、品紅色、青色和黑色的調(diào)色劑圖像。用于在感光鼓51上形成調(diào)色劑圖像的電子照相成像原理和過(guò)程是眾所周知的，因此在此省略說(shuō)明。上述在所述成像站的感光鼓51表面上形成的顏色調(diào)色劑圖像以疊加的方式在相應(yīng)的一次轉(zhuǎn)印壓區(qū)Tl被相繼地轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)動(dòng)的中間轉(zhuǎn)印帶56上。在所述一次轉(zhuǎn)印過(guò)程中， 對(duì)各一次轉(zhuǎn)印輥討施加預(yù)定的轉(zhuǎn)印偏壓。結(jié)果，通過(guò)四個(gè)顏色調(diào)色劑圖像Y、M、C、以及K 的疊加，在中間轉(zhuǎn)印帶56的表面上形成未經(jīng)定影的全色調(diào)色劑圖像。在所述調(diào)色劑圖像被一次轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶56上之后，各成像站的鼓清潔裝置55將殘留在感光鼓51上的一次轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑清除?？刂齐娐凡緾以預(yù)定片材進(jìn)給時(shí)間驅(qū)動(dòng)片材進(jìn)給輥62。結(jié)果，從疊放并容置有片狀記錄材料(轉(zhuǎn)印紙)P的片材進(jìn)給盒61中分離并進(jìn)給一頁(yè)記錄材料P，該頁(yè)記錄材料P隨后經(jīng)由豎直傳送路徑63傳送到對(duì)齊輥對(duì)64。這時(shí)，使對(duì)齊輥對(duì)64停止轉(zhuǎn)動(dòng)，且由對(duì)齊輥對(duì)64的壓區(qū)來(lái)接收記錄材料P的前邊沿，以對(duì)記錄材料P的歪斜移動(dòng)進(jìn)行校正。隨后，對(duì)齊輥對(duì)64以預(yù)定的定時(shí)傳送記錄材料 P，以使記錄材料P的所述前邊沿抵達(dá)壓區(qū)T2與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶上形成的全色調(diào)色劑圖像的前端抵達(dá)壓區(qū)T2同步。結(jié)果，在二次轉(zhuǎn)印壓區(qū)T2，全色調(diào)色劑圖像的組成部分調(diào)色劑圖像同時(shí)從中間轉(zhuǎn)印帶56 二次轉(zhuǎn)印到記錄材料P的表面上。在二次轉(zhuǎn)印過(guò)程中，對(duì)二次轉(zhuǎn)印輥59 施加預(yù)定的轉(zhuǎn)印偏壓。將從二次轉(zhuǎn)印壓區(qū)T2出來(lái)的記錄材料P從中間轉(zhuǎn)印帶56的表面上剝離并導(dǎo)入到定影裝置65。通過(guò)定影裝置65，上述的多個(gè)所述顏色調(diào)色劑圖像在加熱和壓力下融合并定影，從而作為定影圖像定影在記錄材料P的表面上。從定影裝置65出來(lái)的記錄材料P作為全色成像成品經(jīng)由傳送輥對(duì)66和片材排出輥對(duì)67而被排出到片材輸出盤68上。通過(guò)設(shè)置在中間轉(zhuǎn)印帶56外側(cè)、從而隔著中間轉(zhuǎn)印帶56面向帶傳送輥58的帶清潔裝置69，將殘留在中間轉(zhuǎn)印帶56上的二次轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑殘留物清除。設(shè)置有作為顏色偏差量檢測(cè)裝置的重合檢測(cè)傳感器(以下稱為“重合傳感器”)S。 該重合傳感器S通過(guò)檢測(cè)形成于中間轉(zhuǎn)印帶56上的各個(gè)顏色的重合校正圖案來(lái)檢測(cè)顏色重合失調(diào)量，并反饋至控制電路部C?；谟芍睾蟼鞲衅鱏檢測(cè)到的顏色重合失調(diào)量，通過(guò)以電學(xué)方式校正圖像數(shù)據(jù)的寫入定時(shí)，控制電路部C校正由于上頁(yè)邊和側(cè)頁(yè)邊所導(dǎo)致的所述顏色重合失調(diào)。此外，針對(duì)可能由于放大率弓I起的顏色重合失調(diào)，可以通過(guò)精密地改變圖像時(shí)鐘頻率來(lái)實(shí)現(xiàn)一致地放大。(2)光學(xué)掃描設(shè)備E在下面的說(shuō)明中，以自定義的方式，“主掃描方向”是指鼓縱向方向(即感光鼓軸線方向或感光鼓母線方向)，或者與這個(gè)方向相對(duì)應(yīng)的方向，光學(xué)掃描設(shè)備E的掃描光學(xué)系統(tǒng)沿該方向?qū)ψ鳛榇龗呙璞砻娴母泄夤谋砻孢M(jìn)行光學(xué)掃描。“副掃描方向”指的是與鼓縱向方向(主掃描方向)相垂直的方向，或者與這個(gè)方向相對(duì)應(yīng)的方向。圖1和圖2示出了沿副掃描方向剖切的橫截面。光學(xué)掃描設(shè)備E為激光掃描儀，并包括光學(xué)系統(tǒng)殼體(箱形殼體)6，在光學(xué)系統(tǒng)殼體(箱形殼體)6中容置構(gòu)成所述掃描儀的各種光學(xué)構(gòu)件(光學(xué)元件)。如稍后具體說(shuō)明的，所述各種光學(xué)元件包括激光單元、入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)、作為偏轉(zhuǎn)掃描手段的偏轉(zhuǎn)裝置、發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)、用于確定光通量(光束)寫入定時(shí)的同步檢測(cè)元件等。通過(guò)諸如螺接、彈性壓制和粘接之類的連接固定方式，將這些不同的光學(xué)元件以預(yù)定位置和預(yù)定布局固定在光學(xué)系統(tǒng)殼體6內(nèi)。光學(xué)系統(tǒng)殼體6的上表面為敞開面(敞開部)，并從所述敞開面將上述各種光學(xué)元件結(jié)合到光學(xué)系統(tǒng)殼體6中。所述敞開面由覆蓋元件(頂蓋)6a覆蓋，從而將所述敞開面密封(封閉)。覆蓋元件6a設(shè)置有狹縫窗6b，光束LY、LM、LC、LK分別通過(guò)所述狹縫窗6b朝上述第一至第四成像站的感光鼓發(fā)射。各狹縫窗6b設(shè)置有防塵透光元件6c。光學(xué)系統(tǒng)殼體6和覆蓋元件6a由例如合成樹脂材料(諸如聚苯醚(PPE)或通過(guò)混合玻璃纖維而加強(qiáng)的聚苯乙烯(PQ)制造，而且是由金屬模制制備的模制件(玻璃纖維
9加強(qiáng)樹脂材料制成的注塑件)。圖3是光學(xué)系統(tǒng)殼體6的立體圖，其中覆蓋元件6a從其上拆下以示出光學(xué)系統(tǒng)殼體6的內(nèi)部；圖4是光學(xué)系統(tǒng)殼體6的俯視圖，其中覆蓋元件6a從其上拆下以示出光學(xué)系統(tǒng)殼體6的內(nèi)部。在光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部的大致中心部位設(shè)置偏轉(zhuǎn)裝置2A。圖5是偏轉(zhuǎn)裝置2A自身的外觀立體圖。偏轉(zhuǎn)裝置2A包括基板(基座)2c和固定在基板2c上的馬達(dá)(多面反射鏡馬達(dá))M。此外，偏轉(zhuǎn)裝置2A包括多面反射鏡(可旋轉(zhuǎn)多面反射鏡)2，其固定于馬達(dá)的轉(zhuǎn)軸加上部，作為利用從光源發(fā)出的光對(duì)待掃描面進(jìn)行偏轉(zhuǎn)-掃描的偏轉(zhuǎn)元件；以及馬達(dá)控制電路部2b，其設(shè)置在基板2c上，并包括集成電路(IC)等。馬達(dá)M為用于驅(qū)動(dòng)多面反射鏡2的驅(qū)動(dòng)裝置，并且例如是無(wú)刷直流馬達(dá)。在將基板2c定位在光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部的大致中央部位的預(yù)定位置處之后，通過(guò)利用螺釘15(圖8)將基板2c連接于光學(xué)系統(tǒng)殼體 6的底板6d來(lái)設(shè)置偏轉(zhuǎn)裝置2A。在該實(shí)施方式中，通過(guò)馬達(dá)M使多面反射鏡2沿如圖4中的箭頭所示的逆時(shí)針?lè)较蚋咚?一般在約20000轉(zhuǎn)/分鐘至約40000轉(zhuǎn)/分鐘的范圍內(nèi))旋轉(zhuǎn)。在該實(shí)施方式中，光學(xué)掃描設(shè)備E利用單個(gè)多面反射鏡2來(lái)執(zhí)行對(duì)多個(gè)待掃描表面(第一至第四成像站處的感光鼓表面)進(jìn)行掃描曝光。出于此目的，在多面反射鏡轉(zhuǎn)軸加的兩側(cè)(圖2和圖4中的左手側(cè)和右手側(cè))分別設(shè)置第一光學(xué)系統(tǒng)F和第二光學(xué)系統(tǒng) G，各所述光學(xué)系統(tǒng)用于在待掃描表面上形成多面反射鏡2進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描所使用的光束的圖像。在此，這種類型的光學(xué)掃描設(shè)備稱為“對(duì)置型(opposing type)光學(xué)掃描設(shè)備”(具有相對(duì)設(shè)置的掃描系統(tǒng)的光學(xué)掃描設(shè)備)。第一光學(xué)系統(tǒng)F和第二光學(xué)系統(tǒng)G為兩側(cè)(左-右)對(duì)稱的光學(xué)系統(tǒng)。第一光學(xué)系統(tǒng)F和第二光學(xué)系統(tǒng)G各包括入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(轉(zhuǎn)換光學(xué)系統(tǒng))和發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)。入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)為用于在多面反射鏡2上形成由從作為光源的半導(dǎo)體激光器發(fā)射出的激光(光束)所構(gòu)成的圖像的成像光學(xué)系統(tǒng)。該入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)由復(fù)合透鏡構(gòu)成， 所述復(fù)合透鏡具有準(zhǔn)直器透鏡(準(zhǔn)直透鏡)和柱面透鏡的功能，并用于將激光光束以在主掃描方向上呈長(zhǎng)線形狀的方式會(huì)聚在多面反射鏡上。發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)為在作為待掃描表面的感光鼓表面上形成激光(其用來(lái)通過(guò)多面反射鏡2進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描)的圖像的掃描光學(xué)系統(tǒng)，并且由用于進(jìn)行f θ校正的透鏡和折疊式反射鏡構(gòu)成。用于第一光學(xué)系統(tǒng)F的激光單元IOla (第一激光單元)包括作為用于發(fā)射光(激光)的光源的第一和第二(兩個(gè))半導(dǎo)體激光器Ia和lb。第一半導(dǎo)體激光器Ia和第二半導(dǎo)體激光器Ib設(shè)置成在豎直方向上具有合適的間隔。用于第二光學(xué)系統(tǒng)G的激光單元IOlb (第二激光單元)包括作為用于發(fā)射光(激光)的光源的第三和第四(兩個(gè))半導(dǎo)體激光器Ic和Id。第三半導(dǎo)體激光器Ic和第四半導(dǎo)體激光器Id也設(shè)置成在所述豎直方向上具有合適的間隔。第一激光單元IOla和第二激光單元IOlb分別以預(yù)定角度固定于光源固定部6g 和他。就是說(shuō)，第一激光單元IOla和第二激光單元IOlb相對(duì)于Z方向具有斜入射角，并且設(shè)置成使得各自的激光束在多面反射鏡2的偏轉(zhuǎn)面上彼此相交。第一半導(dǎo)體激光器Ia為用于第一成像站UY的光源，并發(fā)射被相應(yīng)調(diào)制成全色圖像的分離的Y顏色分量圖像的圖像信號(hào)的激光。第二半導(dǎo)體激光器Ib為用于第二成像站 UM的光源，并發(fā)射被相應(yīng)調(diào)整成全色圖像的分離的M顏色分量圖像的圖像信號(hào)的激光。第三半導(dǎo)體激光器Ic為用于第三成像站UC的光源，并發(fā)射被相應(yīng)調(diào)制成全色圖像的分離的C顏色分量圖像的圖像信號(hào)的激光。第四半導(dǎo)體激光器Id為用于第四成像站 UK的光源，并發(fā)射被相應(yīng)調(diào)制成全色圖像的分離的K顏色分量圖像的圖像信號(hào)的激光。圖6是第一激光單元IOla(或第二激光單元IOlb)的副掃描剖視圖。準(zhǔn)直透鏡 Ila(Ilc)和Ilb(Ild)將從半導(dǎo)體激光器Ia(Ic)和Ib(Id)發(fā)射出的發(fā)散光通量會(huì)聚成大體平行的光通量。光闌(孔徑光闌)12a(12c)和12b(12d)使從半導(dǎo)體激光器Ia(Ic)和 Ib(Id)發(fā)射出的所述激光通量形成為期望的最佳光通量。在該實(shí)施方式中，從所述半導(dǎo)體激光器Ia(Ic)和Ib(Id)發(fā)射出的經(jīng)光學(xué)調(diào)制的各光通量被轉(zhuǎn)換成大體平行的光通量。隨后，使所述光通量形成為期望的最佳光通量。此后，所述光通量入射到柱面透鏡上。在進(jìn)入到柱面透鏡中的大體平行的光通量中，那些在主掃描橫截面中的光通量被發(fā)射出去。此外，在副掃描橫截面上的光通量被會(huì)聚，從而將圖像以線圖像提供至多面反射鏡2的偏轉(zhuǎn)面上。上述包括準(zhǔn)直透鏡和柱面透鏡的復(fù)合透鏡構(gòu)成所述入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)(會(huì)聚光學(xué)系統(tǒng))并使從所述半導(dǎo)體激光器發(fā)射出的激光(光通量)在多面反射鏡2上提供圖像。所述復(fù)合透鏡被調(diào)整并固定在針對(duì)各激光通量均能確保照射位置和焦點(diǎn)的位置。從第一激光單元IOla和第二激光單元IOlb傾斜發(fā)出的兩束激光通量通過(guò)上述復(fù)合透鏡而在副掃描方向上被會(huì)聚，以在偏轉(zhuǎn)裝置2A的多面反射鏡2上的單個(gè)反射點(diǎn)處形成線圖像。通過(guò)相關(guān)的針對(duì)所述光通量的發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)，在多面反射鏡2上的偏轉(zhuǎn)面處被偏轉(zhuǎn)并反射的光通量被會(huì)聚到感光鼓表面，從而，通過(guò)多面反射鏡2的轉(zhuǎn)動(dòng)，利用所述光通量沿主掃描方向?qū)λ龈泄夤谋砻孢M(jìn)行恒速掃描。就是說(shuō)，所述兩束激光通量(其將由多面反射鏡的反射面反射并將進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描)被所述反射面以豎直翻轉(zhuǎn)的關(guān)系斜向反射，從而朝著所述發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的、作為f θ透鏡的成像透鏡3a和北行進(jìn)。圖7是入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)和發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的展開示意圖，包括從單個(gè)光源1至單個(gè)待掃描表面51a之間的多個(gè)光學(xué)元件。省略了所述折疊式反射鏡。從光源1發(fā)射出的光穿過(guò)準(zhǔn)直透鏡11，并轉(zhuǎn)換成平行光通量(光束)。隨后，所述光通量通過(guò)柱面透鏡13并將圖像提供于多面反射鏡2的表面上。然后，由多面反射鏡2偏轉(zhuǎn)的所述光通量穿過(guò)第一成像透鏡(f θ透鏡)3以及第二成像透鏡(f θ透鏡)4，并在作為待掃描元件的感光鼓51的表面51a上提供所述圖像。通過(guò)第一成像透鏡3和第二成像透鏡4，對(duì)掃描光進(jìn)行f θ校正。在副掃描方向上的成像主要由第二成像透鏡4來(lái)進(jìn)行。附圖標(biāo)記14表示用于確定所述光通量的寫入定時(shí)的同步檢測(cè)元件。具體地，針對(duì)第一成像站UY處的感光鼓表面的激光掃描曝光由第一光學(xué)系統(tǒng)F 沿著以下順序的路徑來(lái)進(jìn)行，即第一半導(dǎo)體激光器la、準(zhǔn)直透鏡11、柱面透鏡13、導(dǎo)光路徑 113、多面反射鏡2、第一成像透鏡3a、第二成像透鏡如、折疊式反射鏡fe、狹縫窗6b以及防塵玻璃元件6c的順序。針對(duì)第二成像站UY處的感光鼓表面的激光掃描曝光由第一光學(xué)系統(tǒng)F沿著以下順序的路徑來(lái)進(jìn)行，即第二半導(dǎo)體激光器lb、準(zhǔn)直透鏡11、柱面透鏡13、導(dǎo)光路徑113、多面反射鏡2、折疊式反射鏡恥、折疊式反射鏡5c、第二成像透鏡4b、折疊式反射鏡5d、狹縫窗6b以及防塵玻璃元件6c的順序。針對(duì)第三成像站UC處的感光鼓表面的激光掃描曝光由第二光學(xué)系統(tǒng)G沿著以下順序的路徑來(lái)進(jìn)行，即第三半導(dǎo)體激光器lc、準(zhǔn)直透鏡11、柱面透鏡13、導(dǎo)光路徑114、多面反射鏡2、折疊式反射鏡k、折疊式反射鏡5f、第二成像透鏡如、折疊式反射鏡5g、狹縫窗 6b以及防塵玻璃元件6c的順序。針對(duì)第四成像站UK處的感光鼓表面的激光掃描曝光由第二光學(xué)系統(tǒng)G沿著以下順序的路徑來(lái)進(jìn)行，即第四半導(dǎo)體激光器Id、準(zhǔn)直透鏡11、柱面透鏡13、導(dǎo)光路徑114、多面反射鏡2、第一成像透鏡北、第二成像透鏡4d、折疊式反射鏡證、狹縫窗6b以及防塵玻璃元件6c的順序。在上述路徑中，第一及第二成像透鏡3a、3b3a和4b均為f θ透鏡系統(tǒng)。與第一成像透鏡3a和北相比，第二成像透鏡如和4b的位置更接近于所述待掃描表面。圖8是示出設(shè)置有偏轉(zhuǎn)裝置2A的部分的放大俯視圖。圖9A和圖9B是沿圖8所示的(9)-(9)線剖取的放大剖視圖。在光學(xué)系統(tǒng)殼體6中，肋7a、7b、8a和8b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d上，并位于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部并且位于偏轉(zhuǎn)裝置2A突出到光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部上的區(qū)域(突出表面)之外，以面向多面反射鏡2。就是說(shuō)，肋7a、7b、8a和8b設(shè)置在用于支撐偏轉(zhuǎn)裝置 2A的支撐面上，以面向作為偏轉(zhuǎn)元件的多面反射鏡2。這些肋7a、7b、8a和8b為突出肋，其具有確保整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體6的剛性的功能并與光學(xué)系統(tǒng)殼體6的所述底部相交(下文中稱為“側(cè)壁”)。側(cè)壁7a定位在多面反射鏡2和第一光學(xué)系統(tǒng)F側(cè)的第一成像透鏡3a之間的位置。 側(cè)壁7b定位在多面反射鏡2和第二光學(xué)系統(tǒng)G側(cè)的第一成像透鏡北之間的位置。所述側(cè)壁7a和7b設(shè)置有開口(框形部分)IOa和10b。由多面反射鏡2偏轉(zhuǎn)并反射的光通量穿過(guò)開口 IOa和10b，以進(jìn)入到第一光學(xué)系統(tǒng)F和第二光學(xué)系統(tǒng)G中。就是說(shuō)，只有穿過(guò)開口 IOa和IOb的光通量才能達(dá)到所述感光鼓表面。此外，在光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部、鄰近側(cè)壁7a和7b處設(shè)置有貫穿光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d的開口 9a和％。在圖8、圖9A和圖9B中，開口 9a和9b以具有大體直線構(gòu)型的長(zhǎng)狹縫形狀分別沿著側(cè)壁7a和7b設(shè)置在多面反射鏡2和側(cè)壁7a之間、以及多面反射鏡2和側(cè)壁7b之間，并設(shè)置成相鄰于側(cè)壁7a和7b的基部且大體平行于側(cè)壁7a和7b。此外，針對(duì)開口 9a和％，設(shè)置有用于擋住開口 9a和9b以防止諸如塵埃或細(xì)毛之類的污物從外界進(jìn)入到光學(xué)系統(tǒng)殼體6內(nèi)部的撓性防塵部件(密封部件)。防塵部件16a 和16b為例如具有撓性的密封件。側(cè)壁7a、7b、8a和8b具有如所述肋一樣地用于確保如上所述的整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體的剛性的功能，并還具有作為另一功能的防止眩光(flare light)到達(dá)感光鼓表面的功能 (作為眩光阻止壁的功能)。尤其是，側(cè)壁7a和7b防止眩光從對(duì)置掃描系統(tǒng)的一側(cè)到達(dá)對(duì)置掃描系統(tǒng)另一側(cè)的感光鼓表面。如上所述的開口 9a和9b具有這樣的功能，即在周圍溫度隨時(shí)間發(fā)生變化的情況下遏制整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體的變形。參照?qǐng)D10(a)和圖10(b)，將說(shuō)明上述從對(duì)置掃描系統(tǒng)的一側(cè)到另一側(cè)的眩光以及用于防止所述眩光的側(cè)壁。
如上所述，在第一光學(xué)系統(tǒng)F和第二光學(xué)系統(tǒng)G中，從入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)入射到多面反射鏡2上、并由多面反射鏡2的偏轉(zhuǎn)面偏轉(zhuǎn)并反射的光通量經(jīng)過(guò)發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)，抵達(dá)第一至第四成像站UY、UM、UC、和UK處的感光鼓表面。然而，進(jìn)入到第一光學(xué)系統(tǒng)F側(cè)的發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的第一成像透鏡3a的光通量中的一部分和進(jìn)入到第二光學(xué)系統(tǒng)G側(cè)的發(fā)射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的第二成像透鏡北的光通量中的一部分在成像透鏡3a和北的分界面(表面)處被反射，隨后朝多面反射鏡2側(cè)返回，從而提供光通量201a至201d。作為進(jìn)入第一成像透鏡3a和第二成像透鏡北的所述光通量的一部分的、朝多面反射鏡2側(cè)返回的這些被反射的光通量201a至201d通過(guò)多面反射鏡2再次進(jìn)入對(duì)置的成像透鏡3a或北(其設(shè)置成與另一個(gè)成像透鏡北或3a相對(duì))。這些光通量能夠到達(dá)與初始經(jīng)歷曝光的那些感光鼓表面不同的感光鼓表面。也存在著這樣的可能性，即在光通量201a 至201d由多面反射鏡2再次反射之后，光通量201a至201d到達(dá)與基于相關(guān)成像而原始確定的曝光位置不同的位置，或沿著其它光路行進(jìn)。在此，沿與用于掃描曝光的光通量的原定光路不同的光路行進(jìn)的光通量稱為“眩
V/ ”
JU O當(dāng)所述眩光到達(dá)所述感光鼓表面時(shí)，將產(chǎn)生調(diào)色劑沉積到與原定成像位置不同的位置上的不良圖像。在該實(shí)施方式中，通過(guò)設(shè)置側(cè)壁7a、7b、8a和8b，可確保光學(xué)系統(tǒng)殼體6的剛性，并且還可防止上述眩光。尤其是，通過(guò)設(shè)置側(cè)壁7a和7b，可以可靠地防止來(lái)自所述對(duì)置掃描系統(tǒng)相對(duì)側(cè)的眩光。然而，鄰近多面反射鏡2設(shè)置側(cè)壁7a、7b、8a和8b也導(dǎo)致存在著不利影響。就是說(shuō)，當(dāng)側(cè)壁7a、7b、8a和8b定位在多面反射鏡2附近時(shí)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)多面反射鏡2使偏轉(zhuǎn)裝置2A產(chǎn)生熱，由于多面反射鏡2的轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生了對(duì)流熱傳遞，使得側(cè)壁7a、7b、8a和8b的溫度快速增加。結(jié)果，溫度增加的側(cè)壁7a、7b、8a和8b局部熱膨脹，由此導(dǎo)致整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體的扭曲變形。參照?qǐng)D11、圖12A和圖12B，將說(shuō)明由于光學(xué)掃描設(shè)備的溫升導(dǎo)致的光學(xué)系統(tǒng)殼體 6的變形以及照射位置波動(dòng)。在光學(xué)掃描設(shè)備E中，當(dāng)多面反射鏡2受到旋轉(zhuǎn)控制以用于成像時(shí)，容置在光學(xué)系統(tǒng)殼體6內(nèi)的所述光學(xué)元件被偏轉(zhuǎn)裝置2A的馬達(dá)M或諸如IC等的馬達(dá)控制基板2b所產(chǎn)生的熱加熱。當(dāng)溫度隨時(shí)間變化時(shí)，光學(xué)系統(tǒng)殼體6或所述光學(xué)元件產(chǎn)生變形，從而引起光路誤差，并導(dǎo)致產(chǎn)生照射位置上或在入射上的變化，或者導(dǎo)致產(chǎn)生彎曲。尤其是，與采用諸如鋁之類的金屬制成的光學(xué)系統(tǒng)殼體相比，在采用由塑料制成的光學(xué)系統(tǒng)殼體的情況下，線膨脹系數(shù)大而熱傳導(dǎo)性低。由此，所述光學(xué)系統(tǒng)殼體的變形量更大。此外，由于復(fù)雜的變形， 在相應(yīng)成像站中存在著入射位置的各種變化，從而所述變化導(dǎo)致顏色重合失調(diào)以及顏色不均勻，由此降低了畫質(zhì)。當(dāng)多面反射鏡2以預(yù)定速度被轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，位于多面反射鏡2 (偏轉(zhuǎn)裝置2A)周邊處的側(cè)壁7a和7b的溫度增加尤其快速。溫度急劇上升的原因在于由于多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)空氣流導(dǎo)致的對(duì)流熱傳遞，使得側(cè)壁7a和7b被快速加熱。當(dāng)由于所述對(duì)流熱傳遞而使光學(xué)系統(tǒng)殼體6的一部分被快速加熱時(shí)，在光學(xué)系統(tǒng)殼體6中產(chǎn)生溫度上的不同分布，于是光學(xué)系統(tǒng)殼體6產(chǎn)生大的變形。就是說(shuō)，如上所述，設(shè)置用來(lái)確保所述剛性并防止眩光的側(cè)壁 7a.7b.8a和8b會(huì)引起光學(xué)系統(tǒng)殼體6大變形的不良效果。圖11是當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)殼體6在其底部未設(shè)置有開口時(shí)光學(xué)系統(tǒng)殼體6的局部放大圖。圖12A和圖12B為當(dāng)如圖11所示光學(xué)系統(tǒng)殼體6在其底部未設(shè)置有開口時(shí)針對(duì)光學(xué)系統(tǒng)殼體6的溫度升高過(guò)程中的變形狀態(tài)的模擬結(jié)果的示意圖。圖12A是示出光學(xué)系統(tǒng)殼體6變形模擬結(jié)果的立體圖，而圖12B是示出光學(xué)系統(tǒng)殼體6變形模擬結(jié)果的側(cè)視圖(如沿圖12A、圖3和圖4所示的箭頭A方向所視)。圖12A和圖12B是光學(xué)系統(tǒng)殼體6的略夸張的視圖，其中變形程度被夸張，以易于理解。所述模擬結(jié)果是這樣的結(jié)果，即基于光學(xué)掃描設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中(在激光器啟動(dòng)過(guò)程中且在多面反射鏡馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)過(guò)程中)的溫度升高量的實(shí)際測(cè)量值，通過(guò)模擬進(jìn)行熱流分析和熱變形分析。利用個(gè)人計(jì)算機(jī)來(lái)進(jìn)行所述分析，且所采用的分析軟件是采用通用有限元方法的模擬軟件。如圖12A和圖12B的模擬結(jié)果所示，當(dāng)因多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的熱導(dǎo)致光學(xué)系統(tǒng)殼體6的溫度增加時(shí)，光學(xué)系統(tǒng)殼體6產(chǎn)生向上凸的變形。結(jié)果，光學(xué)系統(tǒng)殼體6的外壁6e和6f朝著光學(xué)系統(tǒng)殼體6的外部變形。此時(shí)，由于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的外壁6e的變形，安裝于外壁6e上的激光單元IOla和IOlb也朝外發(fā)生變形。當(dāng)激光單元IOla和IOlb 發(fā)生變形時(shí)，入射在多面反射鏡2上的光的光軸產(chǎn)生傾斜，從而引起照射位置的變化和彎曲。尤其是，對(duì)于由激光單元IOla和IOlb變形造成的照射位置變化量的敏感性要大于由其它光學(xué)元件變形造成的照射位置變化量的敏感性。當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)殼體6的所述變形復(fù)雜時(shí)， 在各成像站產(chǎn)生的照射位置的變化量不同，由此引起諸如顏色重合失調(diào)或顏色不均勻之類的不良成像。在本實(shí)施方式的諸如光學(xué)掃描設(shè)備E之類的對(duì)置式掃描型設(shè)備中，在激光單元 IOla和IOlb設(shè)置在相同側(cè)(即在外壁6e上)的情形下，在所述溫度升高的過(guò)程中，各激光單元IOla和IOlb在相同的方向產(chǎn)生變形。此時(shí)，隔著多面反射鏡2彼此相對(duì)設(shè)置的所述成像站的照射位置被改變成相反方向，于是尤其是易于顯著地發(fā)生顏色重合失調(diào)等，且易于降低畫質(zhì)。接著，將參照?qǐng)D13、圖14和圖23來(lái)說(shuō)明將開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部的效果。圖23是示出了一光學(xué)掃描設(shè)備的示意圖，其中在安裝有多面反射鏡2的底部未設(shè)置有任何開口。圖13是一光學(xué)掃描設(shè)備的示意圖，其中在所述底部設(shè)置有開口 9a和％。 在圖23所示的光學(xué)掃描設(shè)備中，在側(cè)壁7a(7b)受多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所產(chǎn)生的熱的影響而產(chǎn)生熱膨脹時(shí)，具有高剛度的所述底部不太易于消除所述變形。因此，沿向上和水平方向易于產(chǎn)生一定程度的變形。結(jié)果，整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體6變成具有上凸形狀(圖12A和圖 12B)。另一方面，在具有圖13所示構(gòu)造的光學(xué)掃描設(shè)備中，在鄰近壁7a(7b)的基部設(shè)置有如圖8和圖9所示的開口 9a(9b)，以在因多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的熱而使側(cè)壁 7a(7b)產(chǎn)生熱膨脹時(shí)，可消除圖M所示的變形。就是說(shuō)，側(cè)壁7a(7b)還可在向下方向上變形，于是，在變形過(guò)程中作用在所述光學(xué)系統(tǒng)殼體上的力被分散了。結(jié)果，消除了整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的所述上凸變形。通過(guò)這種構(gòu)型，可防止在待掃描表面上產(chǎn)生照射位置變化、掃描線傾斜、彎曲等。為了調(diào)整掃描線形成位置，存在著這樣的校正方法，其中，基于所檢測(cè)到的重合失調(diào)量，對(duì)用來(lái)檢測(cè)感光鼓上各顏色之間出現(xiàn)的重合失調(diào)的調(diào)色劑圖像以及光發(fā)射定時(shí)進(jìn)行控制(自動(dòng)重合校正)。每次完成預(yù)定數(shù)量的成像時(shí)均進(jìn)行所述自動(dòng)重合校正。形成所述用來(lái)檢測(cè)顏色重合失調(diào)的調(diào)色劑圖像，并在形成所述調(diào)色劑圖像的時(shí)間段內(nèi)進(jìn)行所述成像。然而，通過(guò)采用上述方式，可將諸如自動(dòng)重合校正等之類的為了檢測(cè)掃描線形成位置而進(jìn)行的調(diào)整的頻率遏制在最低水平。因此，可避免降低生產(chǎn)率。此外，通過(guò)采用這種光學(xué)掃描設(shè)備，即使在用于進(jìn)行彩色打印等的成像設(shè)備中周圍溫度發(fā)生變化，也可容易地獲得具有極少顏色不均勻或顏色重合失調(diào)的良好圖像。由此， 可同時(shí)促進(jìn)尺寸的縮減和性能的提高。圖14是示出了當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部設(shè)置有開口(狹縫)9a和9b時(shí)和當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部未設(shè)置有開口(狹縫)時(shí)，利用安裝在光學(xué)系統(tǒng)殼體6的所述外壁上的激光單元IOla和IOlb的經(jīng)換算的變形量來(lái)表示的、整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)殼體變形量的實(shí)際測(cè)量值的曲線圖。圖14是示出了在25°C的周圍溫度下，多面反射鏡2被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)一定時(shí)間時(shí)，激光單元IOla和IOlb變形量的曲線圖?？v坐標(biāo)代表用變形角度(“)(秒)表示的激光單元 IOla(IOlb)的變形量。橫坐標(biāo)表示從光學(xué)掃描設(shè)備開始運(yùn)行起(啟動(dòng)激光器并驅(qū)動(dòng)所述多面反射鏡)所經(jīng)歷的時(shí)間(秒)。激光單元IOla(IOlb)的變形量大體等于其上安裝所述激光單元IOla(IOlb)的側(cè)壁的變形量。圖14所示的變形量的測(cè)量方法如下。在光學(xué)掃描設(shè)備運(yùn)行(啟動(dòng)激光器并驅(qū)動(dòng)所述多面反射鏡)期間，利用角位移測(cè)量計(jì)(測(cè)量裝置)測(cè)量所述激光單元的傾斜(變形) 角度。在該實(shí)施方式中，反射鏡連接于所述激光器單元且利用自準(zhǔn)直儀測(cè)量角位移量，在本說(shuō)明中省略自準(zhǔn)直儀的原理。如圖14所示，與光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部未設(shè)置有開口 9a(9b)的情形相比，當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部設(shè)置有開口 9a(9b)時(shí)，激光單元IOla(IOlb)的變形量降低了大約一半。在該實(shí)施方式中，在光學(xué)系統(tǒng)殼體6底部沿著側(cè)壁7a和7b設(shè)置開口 9a和9b的原因包括下述1)和2、兩個(gè)因素1)最靠近多面反射鏡2的壁升溫最快；以及2)側(cè)壁7a(7b)的變形方向與使激光單元IOla(IOlb)(其對(duì)于照射位置變化極為敏感)變形的方向相同。在將開口 9a和9b應(yīng)用到其它光學(xué)掃描設(shè)備的情形中，與該實(shí)施方式中所描述的位置相對(duì)應(yīng)的位置可能不一定總是最佳的。最佳位置根據(jù)諸如光學(xué)系統(tǒng)殼體的形狀和溫度分布之類的參數(shù)、光學(xué)系統(tǒng)殼體的不希望的變形方向、以及周圍溫度的變化量而變化。在該實(shí)施方式中，開口 9a和9b設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部。作為另一實(shí)施方式，如圖15所示，開口 9a和9b也可設(shè)置于側(cè)壁7a和7b。通過(guò)在用于使激光通過(guò)的開口 IOa和IOb的下部設(shè)置開口 9a和％，即便側(cè)壁7a和7b產(chǎn)生熱膨脹，也可減少光學(xué)系統(tǒng)殼體6的變形量。此外，如圖9B所示，在所述底部的與側(cè)壁7a和7b的基部相鄰處設(shè)置切口 9c。在圖9B中，側(cè)壁7a側(cè)的表面和所述底部的表面彼此分離。就是說(shuō)，所述兩個(gè)表面彼此接觸且可相對(duì)移動(dòng)。因此，在側(cè)壁7a發(fā)生變形時(shí)，僅側(cè)壁7a產(chǎn)生向下的變形，于是所述底部不太容易變形。[實(shí)施方式2]圖16至圖18是三個(gè)俯視圖，各示出了在另一實(shí)施方式中設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6 的底部的開口 9a和9b的形狀和位置。1)在圖16中，開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部的與側(cè)壁7a和7b相鄰的位置處。所述開口 9a和9b以斷續(xù)的長(zhǎng)狹縫(點(diǎn)線或虛線)形狀分別設(shè)置成在多面反射鏡2和側(cè)壁7a之間以及多面反射鏡2和側(cè)壁7b之間，并鄰近于所述側(cè)壁的基部、且大體平行所述側(cè)壁并沿著所述側(cè)壁來(lái)設(shè)置。2)在圖17中，開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部的與側(cè)壁8a和8b相鄰的位置處。所述開口 9a和9b以長(zhǎng)狹縫形狀(大體直線形狀)分別設(shè)置在多面反射鏡2和側(cè)壁8a之間以及多面反射鏡2和側(cè)壁8b之間，并鄰近于所述側(cè)壁的基部、且大體平行所述側(cè)壁并沿著所述側(cè)壁來(lái)設(shè)置。3)在圖18中，開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的底部的與側(cè)壁7a和7b和側(cè)壁8a和8b相鄰的位置處。所述開口 9a和9b以非線性長(zhǎng)狹縫形狀(L形狀)設(shè)置在多面反射鏡2和相應(yīng)側(cè)壁之間，并鄰近于所述側(cè)壁的基部、且大體平行所述側(cè)壁并沿著所述側(cè)
壁來(lái)設(shè)置。4)如上所述，根據(jù)諸如光學(xué)系統(tǒng)殼體形狀、以及光學(xué)系統(tǒng)殼體的溫度分布之類的條件，可以優(yōu)選地選擇開口 9a和9b的最佳形狀和位置。除了圖8、圖9A、圖9B、圖16、圖17 和圖18所示的形狀和位置之外，也可以選用其它形狀和位置。例如，開口 9a和9b還可以設(shè)置在相關(guān)側(cè)壁的、與該相關(guān)側(cè)壁面向多面反射鏡2的一側(cè)相反的一側(cè)上，并在布局上設(shè)置成以直線形狀、以非線性形狀、以點(diǎn)線形狀等形狀、與所述側(cè)壁的基部鄰近、平行于所述側(cè)壁、并沿著所述側(cè)壁設(shè)置開口 9a和％。此外，可以以上述各種布局的合適組合來(lái)設(shè)置開口 9a和9b。順便說(shuō)明一點(diǎn)，還要考慮的是，開口 9a和9b會(huì)使光學(xué)系統(tǒng)殼體6的剛性降低，因此要求所述開口的開口形狀以及布局與光學(xué)系統(tǒng)殼體6所必須的剛性平衡。在該實(shí)施方式中，為了采用防塵手段，采用這樣的構(gòu)造，即設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體6 底部的開口 9a和9b將由防塵部件16a和16b覆蓋。然而，也可采用這樣一種構(gòu)型，即開口 9a和9b敞開，以積極地將由多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的熱與穿過(guò)所述開口 9a和9b的空氣流一起散去。通過(guò)采用這些構(gòu)型，可獲得防止進(jìn)一步溫度升高的效果。此外，出于防塵考慮，還可采用這樣一種構(gòu)型，即，諸如濾塵器之類的可過(guò)濾元件設(shè)置于開口 9a和％，以僅允許空氣通過(guò)。該實(shí)施方式中的光學(xué)掃描設(shè)備E為對(duì)置式掃描型設(shè)備，其在單個(gè)偏轉(zhuǎn)元件的旋轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)的每一側(cè)分別包括上述入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)和射出側(cè)光學(xué)系統(tǒng)，以利用所述單個(gè)偏轉(zhuǎn)元件將多個(gè)待掃描表面進(jìn)行曝光。本發(fā)明的光學(xué)掃描設(shè)備不限于所述對(duì)置式掃描型設(shè)備， 其還可是這樣的針對(duì)單個(gè)偏轉(zhuǎn)元件的光學(xué)掃描設(shè)備，其包括至少一個(gè)入射側(cè)光學(xué)系統(tǒng)和至少一個(gè)射出側(cè)光學(xué)系統(tǒng)。在該實(shí)施方式中的光學(xué)掃描設(shè)備E，即使其為對(duì)置式掃描類型，也能通過(guò)簡(jiǎn)單的構(gòu)型，將因周圍溫度變化而使光通量偏離光軸從而導(dǎo)致像面上像差的惡化處于最小水平，并由此可確保畫質(zhì)。

結(jié)果，也可將針對(duì)周圍溫度隨時(shí)間的變化所進(jìn)行的諸如自動(dòng)重合等的調(diào)整的頻率遏制在最低水平，并由此避免降低生產(chǎn)率。此外，通過(guò)采用這種光學(xué)掃描設(shè)備，即使在用于進(jìn)行彩色打印等的成像設(shè)備中周圍溫度發(fā)生變化，也不會(huì)使性能下降。[實(shí)施方式3]圖19至圖23是用于說(shuō)明該實(shí)施方式的示意圖。與實(shí)施方式1和實(shí)施方式2相同的光學(xué)掃描設(shè)備E的構(gòu)成元件或部分由相同的附圖標(biāo)記來(lái)表示，因此省略了多余的解釋。如圖19和圖20所示，與實(shí)施方式1和實(shí)施方式2類似，該實(shí)施方式中的光學(xué)掃描設(shè)備將開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d。所述光學(xué)系統(tǒng)殼體包括第一室104，其作為將多面反射鏡2容置于內(nèi)的容置部。此外，所述光學(xué)系統(tǒng)殼體包括封閉空間部(第二室)102，所述第二室通過(guò)作為用于支撐多面反射鏡2的支撐面的光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d而與第一室104隔開；且所述第二室被封閉，以與所述光學(xué)系統(tǒng)殼體的外部隔離。在支撐面6d 上形成有面向多面反射鏡2設(shè)置的肋7a和7b。在支撐面6d上的肋7a和7b的基部附近設(shè)置有用于建立第一室和第二室之間連通的開口 9a和％。光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d的外側(cè)設(shè)置有屏蔽部件103，屏蔽部件103與光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d —起構(gòu)造出所述的封閉空間部102， 開口 9a和9b在封閉空間部102處敞開。屏蔽部件103設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)殼體底部。就是說(shuō)，光學(xué)系統(tǒng)殼體6包括所述第一室，其內(nèi)至少容置有偏轉(zhuǎn)裝置2A;以及所述第二室102，其通過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置支撐面來(lái)與所述第一室隔開，且第二室102被封閉以與所述光學(xué)系統(tǒng)殼體的外界隔離。此外，所述光學(xué)系統(tǒng)殼體包括用于建立所述第一室104和所述第二室102之間的連通的所述開口 9a和％，所述開口 9a和9b位于所述支撐面上的面向偏轉(zhuǎn)裝置2A的肋7a和7b附近。為了提高組裝性能，在該實(shí)施方式中，所述光學(xué)掃描設(shè)備采用了這樣一種構(gòu)型，即從光學(xué)掃描設(shè)備E的上方將諸如成像透鏡、多面反射鏡馬達(dá)、以及折疊式反射鏡之類的各個(gè)光學(xué)部件(光學(xué)元件)組裝到光學(xué)系統(tǒng)殼體6中。因此，在光學(xué)系統(tǒng)殼體的背側(cè)上不存在任何光學(xué)部件。如圖20所示，開口 9a和9b與圖8、圖9A和圖9所示的構(gòu)造相類似地設(shè)置。就是說(shuō)，這些開口 9a和9b以長(zhǎng)狹縫形狀(大體直線形狀)分別設(shè)置在多面反射鏡2和側(cè)壁7a 之間以及多面反射鏡2和側(cè)壁7b之間，并設(shè)置成鄰近所述側(cè)壁7a和7b的底部、沿著所述側(cè)壁7a和7b且大體平行于所述側(cè)壁7a和7b。這是因?yàn)?，由多面反射鏡2的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的沿著側(cè)壁7a和7b流動(dòng)的空氣氣流易于朝著光學(xué)系統(tǒng)殼體6的背側(cè)(朝著光學(xué)系統(tǒng)殼體底板 6d的外部)流動(dòng)。圖21的示意圖通過(guò)箭頭示出了空氣在光學(xué)掃描設(shè)備E中流動(dòng)的情形。如圖所示， 通過(guò)多面反射鏡2的驅(qū)動(dòng)，由多面反射鏡2旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的空氣流(氣流)沖擊設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體6的側(cè)壁7a和7b的壁面，并隨后向下移動(dòng)并穿過(guò)開口 9a和％，并到達(dá)光學(xué)系統(tǒng)殼體6背側(cè)。已到達(dá)光學(xué)系統(tǒng)殼體6背側(cè)的熱空氣流將對(duì)形成于光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d外側(cè)的所述封閉空間部102進(jìn)行加熱。結(jié)果，從光學(xué)系統(tǒng)殼體6和遮蓋元件6a之間的空間中發(fā)散到光學(xué)殼體6中的熱量降低。對(duì)應(yīng)于所述熱量的降低，也降低了提供給組裝于光學(xué)系統(tǒng)殼體6內(nèi)的所述光學(xué)部件的熱量。
在開口 9a和9b的整個(gè)區(qū)域中，所述空氣并非始終朝光學(xué)系統(tǒng)殼體6的背側(cè)流動(dòng)， 而是通過(guò)所述朝著光學(xué)系統(tǒng)殼體6背側(cè)流動(dòng)的所述空氣，存在于封閉空間部102內(nèi)的所述空氣中的一部分將回流到光學(xué)系統(tǒng)殼體6中。然而，這幾乎意味著，存在于光學(xué)系統(tǒng)殼體6 的背側(cè)的封閉空間部102內(nèi)的空氣將流入到光學(xué)系統(tǒng)殼體6中。因此，可以確保所述光學(xué)部件的溫度保持適度增加的效果，直到光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d的內(nèi)外側(cè)溫差消除為止。形成于所述光學(xué)系統(tǒng)殼體背側(cè)上的所述封閉空間部102的空間越小，則所述封閉空間部102的熱容量降低得越多。因此，顯然，確保封閉空間部102盡可能地大將是有效的。此外，當(dāng)屏蔽部件103由金屬部件、尤其是由諸如鋁材料之類的金屬制部件構(gòu)成時(shí)，可有效地將所述熱散發(fā)到所述光學(xué)掃描設(shè)備的外部，于是可遏制所述光學(xué)掃描設(shè)備自身的溫度升高。
圖22是用于確認(rèn)由形成于所述光學(xué)系統(tǒng)殼體背面處的所述封閉空間部導(dǎo)致的顏色重合失調(diào)變化的效果的曲線圖。在針對(duì)這個(gè)目的所進(jìn)行的試驗(yàn)中，針對(duì)以下兩個(gè)構(gòu)造1) 和2)來(lái)評(píng)估變化率和變化量。1)構(gòu)造，在該構(gòu)造中，開口 9a和9b如圖8、圖9A和圖9B所示地形成并由開口 9a 和9b背側(cè)上的作為防塵元件的撓性密封元件16a和16b密封(遮蓋)(“開口密封”)，以及2)構(gòu)造，在該構(gòu)造中，如本實(shí)施方式一樣，開口 9a和9b設(shè)置于光學(xué)系統(tǒng)殼體底板 6d。此外，光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d的外側(cè)設(shè)置有鋁制屏蔽部件103，屏蔽部件103與光學(xué)系統(tǒng)殼體底板6d—起構(gòu)成所述的封閉空間部102，開口 9a和9b在封閉空間部102處敞開(“帶有背側(cè)空間”)。圖22中所示的數(shù)據(jù)為作為代表性數(shù)據(jù)的、在圖像中心位置處沿副掃描方向上的測(cè)量數(shù)據(jù)。在其它曝光位置，由于傾斜和彎曲的影響，顏色重合失調(diào)量不同于圖22所示的顏色重合失調(diào)量，但是顯而易見的是可獲得相類似的效果。開口 9a和9b不是必須要如圖19所示的那樣相對(duì)于多面反射鏡2以左右對(duì)稱對(duì)稱方式設(shè)置。此外，開口 9a和9b也不是必須要設(shè)置在兩個(gè)位置，而可以在單個(gè)位置處設(shè)置開口 9a和9b中的任一個(gè)開口。然而，在所述單個(gè)位置處設(shè)置所述開口的情況下，流入到位于光學(xué)系統(tǒng)殼體6背側(cè)上的封閉空間部102內(nèi)的空氣量減少，于是降低了遏制(消除)顏色重合失調(diào)的效果。此外，只要沿著位于多面反射鏡2周邊處的所述側(cè)壁來(lái)構(gòu)造開口 9a和 %，則開口 9a和9b就可設(shè)置在任何位置。例如，如圖23所示，可沿與圖19所示的開口 9a 和9b的方向相垂直的方向來(lái)設(shè)置開口 9a和％。此外，開口 9a和9b的長(zhǎng)度不必等于所述側(cè)壁的整個(gè)長(zhǎng)度，但是也可等于所述整個(gè)長(zhǎng)度的一部分。在上述說(shuō)明中，描述了其中利用單個(gè)多面反射鏡馬達(dá)(單個(gè)多面反射鏡)來(lái)進(jìn)行多個(gè)感光鼓的曝光的這種類型的光學(xué)掃描設(shè)備。然而，在本發(fā)明中，甚至其中使用多個(gè)光學(xué)掃描設(shè)備以用于相應(yīng)顏色的曝光的這樣一種方法也可遏制各光學(xué)掃描設(shè)備的升溫量，由此獲得同樣的效果。依據(jù)該實(shí)施方式的所述構(gòu)造，可遏制或消除顏色重合失調(diào)的變化率和變化量，同時(shí)還能令人滿意地保持所述光學(xué)掃描設(shè)備的組裝性能。如上文所述，在待要安裝在包括多個(gè)感光鼓的成像設(shè)備中的光學(xué)掃描設(shè)備中，采用了這樣一種構(gòu)型，即從同一方向?qū)⒍嗝娣瓷溏R馬達(dá)、折疊式反射鏡、成像透鏡等組裝到所述光學(xué)系統(tǒng)殼體內(nèi)。在所述多面反射鏡的周邊處、朝著反向于所述光學(xué)掃描設(shè)備有關(guān)的所述感光鼓的方向形成所述開口。此外，將用于對(duì)整個(gè)光學(xué)掃描設(shè)備或光學(xué)掃描設(shè)備的一部分進(jìn)行屏蔽的屏蔽元件安裝于所述開口的背側(cè)，由此在所述光學(xué)系統(tǒng)殼體和所述屏蔽元件之間形成一空間。結(jié)果，可以遏制或消除顏色重合失調(diào)的變化率和變化量，同時(shí)令人滿意地保持所述光學(xué)掃描設(shè)備的組裝性能。 本發(fā)明還可結(jié)合常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備的構(gòu)造來(lái)實(shí)施。盡管參照在此披露的結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)明本發(fā)明，但是本發(fā)明并不受限于上述細(xì)節(jié)，且本申請(qǐng)意圖覆蓋那些可落入隨附權(quán)利要求的范圍內(nèi)或處于改進(jìn)目的內(nèi)的修改或變化。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括 用于發(fā)射光的光源；偏轉(zhuǎn)裝置，包括偏轉(zhuǎn)元件，該偏轉(zhuǎn)元件用于以使得來(lái)自光源的光對(duì)感光構(gòu)件進(jìn)行掃描的方式偏轉(zhuǎn)所述光；以及馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件；光學(xué)元件，用于將由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述感光構(gòu)件；以及光學(xué)殼體，包括第一布置部分，所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在該第一布置部分處；第二布置部分，所述光學(xué)元件設(shè)置在該第二布置部分處；以及壁，其設(shè)置于所述第一布置部分與第二布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第一開口部分和設(shè)置在所述壁與所述第一布置部分之間的第二開口部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第二開口部分設(shè)置在所述第一布置部分與所述壁之間以沿著所述壁延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第二開口部分設(shè)置在光學(xué)殼體中使得所述第二開口部分的至少一部分沿著所述壁的基部延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第二開口部分包括多個(gè)開口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第二開口部分設(shè)置有防塵元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第二開口部分設(shè)置在所述壁與所述第一布置部分之間，使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述壁的變形而變形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，在所述光學(xué)殼體中，在所述第一布置部分的后表面?zhèn)忍幮纬擅芊饪臻g；以及其中所述第二開口部分能夠建立所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在其中的空間與所述密封空間之間的空氣連通。
8.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括 用于發(fā)射光的光源；偏轉(zhuǎn)裝置，包括偏轉(zhuǎn)元件，該偏轉(zhuǎn)元件用于以使得來(lái)自光源的光對(duì)感光構(gòu)件進(jìn)行掃描的方式偏轉(zhuǎn)所述光；以及馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件；光學(xué)元件，用于將由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述感光構(gòu)件；以及光學(xué)殼體，包括第一布置部分，所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在該第一布置部分處；第二布置部分，所述光學(xué)元件設(shè)置在該第二布置部分處；以及壁，其設(shè)置于所述第一布置部分與第二布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第一開口部分，其中所述壁的至少一部分與所述第一布置部分分離。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一布置部分和壁在多個(gè)部分處彼此分離。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述多個(gè)部分沿著所述壁延伸。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一布置部分的至少一部分與所述壁分離，使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述壁的變形而變形。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述壁與所述第一布置部分沿著所述壁的基部分離。
13.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括 用于發(fā)射光的第一光源；用于發(fā)射光的第二光源；偏轉(zhuǎn)裝置，包括偏轉(zhuǎn)元件，該偏轉(zhuǎn)元件用于以使得來(lái)自第一光源的光對(duì)第一感光構(gòu)件進(jìn)行掃描以及使得來(lái)自第二光源的光對(duì)第二感光構(gòu)件進(jìn)行掃描的方式偏轉(zhuǎn)所述光，相對(duì)于所述偏轉(zhuǎn)元件，來(lái)自第一光源的光被偏轉(zhuǎn)到的一側(cè)與來(lái)自第二光源的光被偏轉(zhuǎn)到的一側(cè)相反；以及馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件；第一光學(xué)元件，用于將從第一光源發(fā)射并且由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述第一感光構(gòu)件；第二光學(xué)元件，用于將從第二光源發(fā)射并且由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述第二感光構(gòu)件；以及光學(xué)殼體，包括第一布置部分，所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在該第一布置部分處；第二布置部分，所述第一光學(xué)元件設(shè)置在該第二布置部分處；第三布置部分，所述第二光學(xué)元件設(shè)置在該第三布置部分處；第一壁，其設(shè)置于所述第一布置部分與第二布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第一開口部分；第二壁，其設(shè)置在所述第一布置部分與所述第三布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第二開口部分；設(shè)置在所述第一壁與所述第一布置部分之間的第三開口部分；以及設(shè)置在所述第二壁與所述第一布置部分之間的第四開口部分。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第三開口部分設(shè)置在所述第一壁與第一布置部分之間以便沿著所述第一壁延伸，第四開口部分設(shè)置在所述第二壁與第一布置部分之間以便沿著所述第二壁延伸。
15.根據(jù)權(quán)利要求13的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第三開口部分設(shè)置在光學(xué)殼體中使得所述第三開口部分的至少一部分沿著所述第一壁的基部延伸；以及所述第四開口部分設(shè)置在光學(xué)殼體中使得所述第四開口部分的至少一部分沿著所述第二壁的基部延伸。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第三開口部分和第四開口部分均包括多個(gè)開口。
17.根據(jù)權(quán)利要求13的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第三開口部分和第四開口部分設(shè)置有防塵元件。
18.根據(jù)權(quán)利要求13的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，在所述光學(xué)殼體中，在所述第一布置部分的后表面?zhèn)忍幮纬擅芊饪臻g；以及所述第二開口部分能夠建立所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在其中的空間與所述密封空間之間的空氣連通。
19.根據(jù)權(quán)利要求13的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第三開口部分形成在所述第一壁與所述第一布置部分之間，使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述第一壁的變形而變形；以及所述第四開口部分形成在所述第二壁與所述第一布置部分之間，使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述第二壁的變形而變形。
20.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括用于發(fā)射光的第一光源；用于發(fā)射光的第二光源；偏轉(zhuǎn)裝置，包括偏轉(zhuǎn)元件，該偏轉(zhuǎn)元件用于以使得來(lái)自第一光源的光對(duì)第一感光構(gòu)件進(jìn)行掃描以及使得來(lái)自第二光源的光對(duì)第二感光構(gòu)件進(jìn)行掃描的方式偏轉(zhuǎn)所述光，相對(duì)于所述偏轉(zhuǎn)元件，來(lái)自第一光源的光被偏轉(zhuǎn)到的一側(cè)與來(lái)自第二光源的光被偏轉(zhuǎn)到的一側(cè)相反；以及馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件；第一光學(xué)元件，用于將從第一光源發(fā)射并且由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述第一感光構(gòu)件；第二光學(xué)元件，用于將從第二光源發(fā)射并且由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述第二感光構(gòu)件；以及光學(xué)殼體，包括第一布置部分，所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在該第一布置部分處；第二布置部分，所述第一光學(xué)元件設(shè)置在該第二布置部分處；第一壁，其設(shè)置于所述第一布置部分與第二布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第一開口部分，其中所述第一壁的至少一部分與所述第一布置部分分離；以及第二壁，其包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第二開口部分，其中所述第二壁的至少一部分與所述第一布置部分分離。
21.根據(jù)權(quán)利要求20的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一布置部分和所述第一壁在多個(gè)部分處彼此分離。
22.根據(jù)權(quán)利要求21的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述多個(gè)部分沿著所述第一壁延伸。
23.根據(jù)權(quán)利要求20的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一布置部分和所述第二壁在多個(gè)部分處彼此分離。
24.根據(jù)權(quán)利要求23的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述多個(gè)部分沿著所述第二壁延伸。
25.根據(jù)權(quán)利要求20的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一布置部分的至少一部分與所述第一壁分離使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述第一壁的變形而變形，并且與所述第二壁分離使得所述第一布置部分不會(huì)由于所述第二壁的變形而變形。
26.根據(jù)權(quán)利要求25的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述第一壁與所述第一布置部分沿著所述第一壁的基部分離，以及所述第二壁與所述第一布置部分沿著所述第二壁的基部分離。
全文摘要
一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括用于發(fā)射光的光源；偏轉(zhuǎn)裝置，包括偏轉(zhuǎn)元件，該偏轉(zhuǎn)元件用于以使得來(lái)自光源的光對(duì)感光構(gòu)件進(jìn)行掃描的方式偏轉(zhuǎn)所述光；以及馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述偏轉(zhuǎn)元件；光學(xué)元件，用于將由所述偏轉(zhuǎn)元件偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至所述感光構(gòu)件；以及光學(xué)殼體，包括第一布置部分，所述偏轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在該第一布置部分處；第二布置部分，所述光學(xué)元件設(shè)置在該第二布置部分處；以及壁，其設(shè)置于所述第一布置部分與第二布置部分之間并包括準(zhǔn)許由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光通過(guò)的第一開口部分和設(shè)置在所述壁與所述第一布置部分之間的第二開口部分。
文檔編號(hào)H04N1/00GK102253488SQ20111021464
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2009年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月22日
發(fā)明者中畑浩志, 佐藤健吾 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社