專利名稱：減振器和具有該減振器的光掃描單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種減振器，更具體地講，涉及一種可通過改變質(zhì)量分布來調(diào)節(jié)固有頻率的減振器和具有該減振器的光掃描單元。
背景技術(shù)：
通常，用于將機械結(jié)構(gòu)的振動響應(yīng)降低至激振力的設(shè)備包括主動減振器、被動減振器或阻尼器。當(dāng)機械結(jié)構(gòu)根據(jù)工作環(huán)境受到激振力時，機械結(jié)構(gòu)的振動可通過將減振器附著到振動部分來被消減，所述減振器的固有頻率與所述振動部分的固有頻率或者傳輸?shù)剿稣駝硬糠值募ふ耦l率相等。
美國專利第5,810,319號公開了一種用于獲得期望設(shè)備的固有頻率的傳統(tǒng)設(shè)備。該公開的發(fā)明是一種用于通過調(diào)節(jié)支撐減振體的彈簧的拉力來將減振器的固有頻率調(diào)整到結(jié)構(gòu)體頻率的設(shè)備。但是，所述設(shè)備的結(jié)構(gòu)很復(fù)雜并且需要精度處理以獲得期望設(shè)備的固有頻率，從而很難制造所述設(shè)備。
美國專利第5,947,453號公開了一種用于消減結(jié)構(gòu)體的振動的傳統(tǒng)的彈簧-質(zhì)量減振器。但是，公開的發(fā)明的結(jié)構(gòu)體復(fù)雜并且難以制造。
歐洲專利第1,023,544號公開了一種通過質(zhì)量塊的運動改變減振器的頻率的傳統(tǒng)設(shè)備。所述公開的設(shè)備通過質(zhì)量塊的運動引起支撐部分的變形，并且根據(jù)應(yīng)力的產(chǎn)生通過改變支撐剛度來改變振動的頻率。所述發(fā)明是一種主動型的減振器，其通過引起支撐部分的變形來改變支撐剛度。但是所述發(fā)明需要額外的驅(qū)動設(shè)備和控制器，從而提高成本。
韓國專利公開第2000-0026066號公開一種傳統(tǒng)的減振器、一種裝配件以及具有該減振器的打印機。所述減振器使用彈性環(huán)和旋轉(zhuǎn)反射鏡來支撐質(zhì)量塊。減振器被應(yīng)用于沿旋轉(zhuǎn)體的徑向的振動，并且不可能調(diào)節(jié)頻率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明總體構(gòu)思提供一種減振器和具有該減振器的光掃描單元，減振器被安裝在暴露于振動的機械結(jié)構(gòu)上，并且可容易地調(diào)節(jié)減振器的固有頻率。
本發(fā)明總體構(gòu)思的另外方面和優(yōu)點將在以下描述中一部分地被闡述，還有一部分通過描述將是清楚的，或者可通過本發(fā)明總體構(gòu)思的實施學(xué)習(xí)到。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和實用性可通過提供這樣一種減振器實現(xiàn)，包括支撐框架，安裝在結(jié)構(gòu)體上；擋塊部分，可移動地安裝在支撐框架上，以根據(jù)擋塊部分相對于支撐框架的位置改變所述結(jié)構(gòu)體的頻率。
支撐框架可包括沿其縱向固定到所述結(jié)構(gòu)體的多個端。
支撐框架可包括沿其縱向固定到所述結(jié)構(gòu)體的單個端。
擋塊部分可包括支架，安裝在支撐框架上，以沿著支撐框架的縱向移動；擋塊，結(jié)合到支架上，以當(dāng)支架移動時改變所述結(jié)構(gòu)體的頻率。
支撐框架可具有沿其縱向形成在其中的引導(dǎo)狹槽，所述支架具有結(jié)合孔，并且擋塊可具有形成在其一側(cè)的結(jié)合部分，所述結(jié)合部分穿過所述引導(dǎo)狹槽和結(jié)合孔結(jié)合到支架上，以將支架固定到支撐框架。
擋塊部分在支撐框架上的位置可通過手動改變。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和實用性也可通過提供一種具有減振器的光掃描單元來實現(xiàn)，所述減振器具有支撐框架，安裝在光掃描單元上；擋塊部分，可移動地安裝在支撐框架上，以根據(jù)擋塊部分在支撐框架上的位置來改變光掃描單元的頻率。
支撐框架可包括沿其縱向固定到所述光掃描單元的多個端。
支撐框架可包括沿其縱向固定到所述光掃描單元的單個端。
擋塊部分可包括支架，安裝在支撐框架上，以沿著支撐框架的縱向移動；擋塊，結(jié)合到支架上，以當(dāng)支架移動時改變所述光掃描單元的頻率。
支撐框架可具有沿其縱向形成在其中的引導(dǎo)狹槽，所述支架具有結(jié)合孔，并且擋塊可具有形成在其一側(cè)的結(jié)合部分，所述結(jié)合部分穿過所述引導(dǎo)狹槽和結(jié)合孔結(jié)合到支架上，以將支架固定到支撐框架。
擋塊部分在支撐框架上的位置可通過手動改變。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和實用性也可通過提供一種成像設(shè)備來實現(xiàn)，包括感光體；光掃描單元，具有用于發(fā)射光的光源；用于偏轉(zhuǎn)光的光束偏轉(zhuǎn)器；光學(xué)構(gòu)件，將偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至感光體上以形成潛像；減振器，具有安裝在光掃描單元上的支撐框架和可運動地安裝在支撐框架上的擋塊部分，所述擋塊部分根據(jù)其相對于支撐框架的位置而改變減振器的頻率。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和實用性也可通過提供一種在成像設(shè)備中可使用的光掃描單元來實現(xiàn)，包括結(jié)構(gòu)體，具有光源、光束偏轉(zhuǎn)器、光學(xué)構(gòu)件和感光體中的至少一個；減振器，具有安裝在所述結(jié)構(gòu)體上的支撐框架和結(jié)合到支撐框架以改變減振器的質(zhì)量分布的擋塊部分。


通過下面結(jié)合附圖對實施例進行的描述，本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和優(yōu)點將會變得清楚和更加容易理解，其中圖1表示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的光掃描單元的透視圖；圖2表示圖1的光掃描單元的減振器的透視圖；圖3表示圖2的減振器的擋塊部分的透視圖；圖4表示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的另一實施例的減振器的透視圖；圖5表示在特定條件下，圖2的減振器的數(shù)值分析仿真結(jié)果的示圖；圖6表示通過移動圖2的減振器的擋塊部分的數(shù)值分析仿真結(jié)果的示圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在，將詳細描述本發(fā)明總體構(gòu)思的實施例，其例子表示在附圖中，附圖中，相同的標(biāo)號始終指代相同的元件。以下通過參照附圖描述實施例以解釋本發(fā)明的總體構(gòu)思。
圖1是表示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實施例的光掃描單元的透視圖。參照圖1，光掃描單元將光掃描到旋轉(zhuǎn)的感光體109上，并且包括各種光學(xué)元件，例如光源101、準(zhǔn)直透鏡102、通光縫103、圓柱形透鏡104、分束器120、光束偏轉(zhuǎn)器105、驅(qū)動源106、f-θ透鏡107、成像鏡108和同步信號檢測部分115。光掃描單元可與成像設(shè)備一起使用以在打印介質(zhì)上形成圖像。
光源101通過被驅(qū)動電路(未示出)的開/關(guān)控制產(chǎn)生并發(fā)射出與圖像信號對應(yīng)的至少一束光L。即，光源101在被驅(qū)動電路控制以被開/關(guān)的同時產(chǎn)生并發(fā)射出與圖像信號對應(yīng)的至少一束光L，從而光L僅僅可掃描到感光體109的光暴露體的一部分，在所述一部分上形成靜電潛像。光源101可發(fā)射出單束光或者多束光。當(dāng)被結(jié)構(gòu)體采用以形成單掃描線時，光源101具有產(chǎn)生并發(fā)射出單束光的結(jié)構(gòu)。當(dāng)被光掃描單元采用以掃描多束光時，光源101具有用于產(chǎn)生和發(fā)射獨立地被光學(xué)調(diào)制的多束光的光源模塊。光源101可以是邊緣發(fā)光二極管、垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)、或者發(fā)光裝置(LED)。由于光源101的結(jié)構(gòu)和操作在與本發(fā)明總體構(gòu)思所屬的本技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)是公知的，所以將省略對其進行詳細描述。
準(zhǔn)直透鏡102與光源101分離并且將從光源101發(fā)射出的光L聚焦以形成關(guān)于光軸的平行光或者會聚光。透光縫103附著于準(zhǔn)直透鏡102的端表面上并且限制透過準(zhǔn)直透鏡102的光L。圓柱形透鏡104接收穿過透光縫103的光L，在光束偏轉(zhuǎn)器105上形成線形圖像。
分束器120在與光束偏轉(zhuǎn)器105和f-θ透鏡107相同的水平平面上被布置在光束偏轉(zhuǎn)器105和f-θ透鏡107之間，發(fā)送穿過圓柱形透鏡104的光L的一部分，并且反射光L的剩下的部分。能夠透射50％的入射光L的半反射透鏡(halfmirror)可用作分束器120。
光束偏轉(zhuǎn)器105安裝在框架上并且掃描被分束器120反射的光L，同時以恒定的線速度沿著水平方向移動光L。框架可以是感光鼓109、光源101和/或上述其它組件被安裝在其中的成像設(shè)備的主體或者光掃描單元。入射在光束偏轉(zhuǎn)器105上的光L的路線與從光束偏轉(zhuǎn)器105反射的光L的路線基本相反。當(dāng)光束偏轉(zhuǎn)器105沿順時針方向A旋轉(zhuǎn)時，光L沿主掃描方向B掃描，從而圖像信息被記錄在感光體109的表面上。光束偏轉(zhuǎn)器105可以是具有如圖1所示的結(jié)構(gòu)的多角鏡裝置。多角鏡裝置包括用于使多角鏡105a按照預(yù)定速率旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動源106。驅(qū)動源106安裝在框架上并且多角鏡105a可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在驅(qū)動源106上。多角鏡105a包括形成在其側(cè)表面上的多個反射表面105b。在旋轉(zhuǎn)時，多角鏡105a使入射光L偏轉(zhuǎn)并掃描入射光L。光束偏轉(zhuǎn)器105并不限于上述構(gòu)造的多角鏡裝置，而是可使用使入射光偏轉(zhuǎn)并掃描入射光的任何裝置，例如全息盤形光束偏轉(zhuǎn)器或者檢流計形掃描儀。
f-θ透鏡107被布置在光束偏轉(zhuǎn)器105和成像鏡108之間的光軸上。f-θ透鏡107由至少一個透鏡單元形成并且相對于主掃描方向B和副掃描方向按照不同的放大倍率校正被光束偏轉(zhuǎn)器105偏轉(zhuǎn)的光L。副掃描方向指感光體109的旋轉(zhuǎn)方向而主掃描方向B指圖1所示的感光體109的軸向B，即，光L被光束偏轉(zhuǎn)器105偏轉(zhuǎn)的方向。f-θ透鏡107可由塑料注模形成以提高生產(chǎn)率和降低成本。
成像鏡108反射穿過f-θ透鏡107的光L，以在感光體109的光暴露表面上形成圖像，所述表面為圖像形成表面。成像鏡108相對于入射到其的光L形成的表面傾斜，從而傳播到光暴露表面的掃描線與副掃描方向垂直，副掃描方向即為感光體109轉(zhuǎn)移的方向。
同步信號檢測部分115接收由光源101發(fā)射出的光L的一部分，并且調(diào)節(jié)掃描光的水平同步。同步信號檢測部分115包括同步信號檢測傳感器111，用于接收被光束偏轉(zhuǎn)器105偏轉(zhuǎn)的并且穿過f-θ透鏡107的光L的一部分；反射鏡110，布置在f-θ透鏡107和同步信號檢測傳感器111之間，以將入射光的傳播路徑改變使其朝向同步信號檢測部分115；會聚透鏡112，將被反射鏡110反射的光L會聚到同步信號檢測部分115中。
減振器200被安裝在具有光束偏轉(zhuǎn)器105的光掃描單元的一側(cè)。在具有光掃描單元的成像設(shè)備中，光掃描單元由于外力(或內(nèi)力)受到激振力或者受到來自打印環(huán)境的激振力，所述外力(或內(nèi)力)在打印期間通過光束偏轉(zhuǎn)器105的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生或者通過其它組成部件，例如感光體的操作而產(chǎn)生。在外力(激振力分量)作用的振動系統(tǒng)中，當(dāng)激振力的激振頻率變得等于例如光掃描單元的結(jié)構(gòu)體的固有頻率時，振動系統(tǒng)的振幅隨時間呈指數(shù)級增大。即，當(dāng)外力的激振頻率變得等于例如光掃描單元的結(jié)構(gòu)體的固有頻率時，產(chǎn)生共振從而所述結(jié)構(gòu)體嚴(yán)重搖晃。當(dāng)結(jié)構(gòu)體由于共振而嚴(yán)重搖晃時，光不能掃描到準(zhǔn)確的位置上。因此，打印質(zhì)量變差并且光掃描單元的壽命縮短。當(dāng)例如光掃描單元的結(jié)構(gòu)體受到激振力時，減振器200通過改變結(jié)構(gòu)體的固有頻率來減振。即，附著到例如光掃描單元的結(jié)構(gòu)體上的根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的減振器200減小了結(jié)構(gòu)體的振動響應(yīng)。減振器200可設(shè)置在框架的第一位置上，并且光束偏轉(zhuǎn)器105可設(shè)置在框架的第二位置上?？蚣芸砂惭b到光掃描單元上。振動或力產(chǎn)生自光束偏轉(zhuǎn)器105或者成像設(shè)備的其它組件。將在以下描述在減振器200附著到的結(jié)構(gòu)體為光掃描單元的情況下，減振器200的結(jié)構(gòu)和操作。
圖2是表示圖1的減振器200的透視圖。圖3是表示圖2的減振器200的擋塊部分250的透視圖。圖4是表示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的另一示例性實施例的減振器300的透視圖。
參照圖2，根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實施例的減振器200包括支撐框架210，安裝在結(jié)構(gòu)體上，例如成像設(shè)備的主體或圖1的光掃描單元的框架上；擋塊部分250，可移動地安裝在支撐框架210上并且在相對于支撐框架210運動的同時改變結(jié)構(gòu)體的頻率。頻率指結(jié)構(gòu)體的固有頻率。
在本發(fā)明總體構(gòu)思的本實施例中，支撐框架210的兩端被安裝在結(jié)構(gòu)體上，并且支撐框架210的中部與所述結(jié)構(gòu)體分開，從而當(dāng)支撐框架210被安裝在結(jié)構(gòu)體上時，擋塊部分250可自由運動。即，支撐框架210具有帽子截面的形狀。支撐框架210包括沿著經(jīng)向(縱向)設(shè)置的主要部分、從主要部分的相對兩端向下延伸的端部和結(jié)合到結(jié)構(gòu)體上的兩個端部。因此，帽子形狀具有水平頂表面，水平頂表面通過垂直表面將每一端連接到水平底表面。結(jié)合孔220和225沿縱向設(shè)置在支撐框架210的兩端，從而支撐框架210用例如螺栓222和227的結(jié)合構(gòu)件固定到結(jié)構(gòu)體上。另外，在支撐框架210的主要部分上形成用于將擋塊部分250固定到支撐框架210上的引導(dǎo)狹槽230。引導(dǎo)狹槽230沿支撐框架210的主要部分的縱向形成，從而擋塊部分250沿著引導(dǎo)狹槽230移動。
參照圖2和圖3，擋塊部分250包括支架257，安裝在支撐框架210上，用于沿著支撐框架210的縱向運動；擋塊255，結(jié)合到支架257，以在支架257的運動期間通過改變減振器200的固有頻率而改變結(jié)構(gòu)體的固有頻率。擋塊部分250被安裝在支撐框架210上，以根據(jù)使用擋塊部分250的環(huán)境或者光掃描單元的其它打印環(huán)境相對于支撐框架210運動。隨著擋塊部分250的運動，減振器200的質(zhì)量分布被改變，從而減振器200的固有頻率被改變。
當(dāng)施加到結(jié)構(gòu)體上的激振頻率與結(jié)構(gòu)體的固有頻率相近時，結(jié)構(gòu)體的振動逐漸增大。因此，當(dāng)激振頻率變得等于結(jié)構(gòu)體的固有頻率時，需要改變結(jié)構(gòu)體的固有頻率以防止結(jié)構(gòu)體的振動增大。當(dāng)擋塊部分250移動時，減振器200的質(zhì)量分布改變，從而結(jié)構(gòu)體的固有頻率被改變。因此，在預(yù)定頻率范圍內(nèi)存在的特定頻率分量被消減，從而傳遞到結(jié)構(gòu)體的振動被消減。即，當(dāng)擋塊部分250運動時，安裝了減振器200的結(jié)構(gòu)體的固有頻率改變，從而可防止由于激振產(chǎn)生的振動。例如，當(dāng)減振器200的固有頻率被調(diào)節(jié)到結(jié)構(gòu)體的固有頻率時，傳遞到結(jié)構(gòu)體的振動通過減振器200被消減。隨著擋塊部分250的運動而改變減振器200的質(zhì)量分布，減振器200的固有頻率被調(diào)節(jié)至結(jié)構(gòu)體的固有頻率，并且消減了在預(yù)定頻率范圍內(nèi)存在的特定頻率分量，從而安裝了減振器200的結(jié)構(gòu)體的振動被消減了。
如上所述，通過調(diào)節(jié)擋塊部分250的位置，減振器200和結(jié)構(gòu)體的固有頻率可在預(yù)定范圍內(nèi)被調(diào)節(jié)。即，當(dāng)擋塊部分250沿著支撐框架210運動時，改變了減振器200的質(zhì)量特性，從而改變了減振器200的固有頻率。因此，可使用上述方法防止施加到結(jié)構(gòu)體的振動。
結(jié)合臺階258設(shè)置在支架257上，以可滑動地結(jié)合到支撐框架210上。支架257通過結(jié)合臺階258結(jié)合到支撐框架210。結(jié)合臺階258設(shè)置在支架257的主板的兩側(cè)，以限制支架257沿著除縱向以外的方向運動。即，支撐框架210插入支架257的主板和結(jié)合臺階258之間。結(jié)合部分256通過引導(dǎo)狹槽230和結(jié)合孔259結(jié)合到支架257，以將支架257固定到支撐框架210上，并且結(jié)合部分256被設(shè)置在擋塊255的一側(cè)。結(jié)合部分256從擋塊255的一側(cè)向結(jié)合孔259延伸。例如，如圖3所示，螺紋256a形成在結(jié)合部分256的一部分上，以被插入到結(jié)合孔259中。螺紋256a可結(jié)合到形成在結(jié)合孔259中的螺紋259a上，從而將支架257固定到支撐框架210。
為了將結(jié)構(gòu)體的固有頻率改變至期望頻率，擋塊部分250可以被手動控制。即，減振器200可以是被動減振器。
如圖2所示，減振器200從其兩端沿著縱向被安裝在結(jié)構(gòu)體上。當(dāng)例如光束偏轉(zhuǎn)器105的結(jié)構(gòu)體的兩端被安裝在機械裝備上時，根據(jù)質(zhì)量塊運動的力的改變小于在一端安裝的情況下的力的改變。即，在一端支撐的情況下根據(jù)長度改變的力的改變率大于在兩端被支撐的情況下的力的改變率。因此，與一端被支撐的情況相比，當(dāng)減振器200兩端被安裝在結(jié)構(gòu)體上時，可以更加準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)頻率。
參照圖4，根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思另一實施例的減振器300可以沿著縱向一端安裝在結(jié)構(gòu)體上。減振器300包括支撐框架310、結(jié)合孔320、螺栓322、引導(dǎo)狹槽330、包括擋塊355和支架357的擋塊部分350。由于圖4的減振器300的結(jié)構(gòu)和操作與圖2和圖3所示的實施例的減振器300的結(jié)構(gòu)和操作相似，所以省略對它們進行詳細描述。
為了看到減振器300的效果，使用計算機仿真工具，例如ABAQUS工具(使用ABAQUS有限公司開發(fā)的針對有限元分析的商業(yè)軟件包的工具)或其它有限元分析軟件通過改變擋塊部分的位置執(zhí)行仿真，即數(shù)值分析。為了方便解釋，在仿真中使用圖2的減振器200。
圖5表示在特定條件下，對圖2的減振器200的數(shù)值分析的仿真結(jié)果。圖6表示通過移動圖5的擋塊部分250的數(shù)值分析仿真結(jié)果。在圖5中，數(shù)值分析的結(jié)果基于擋塊255位于支撐框架210的跨度中間的情況下，其中，支撐框架210的跨度、厚度和寬度分別為100mm、0.5mm和5mm，并且擋塊255的質(zhì)量為10g。在圖6中，數(shù)值分析的結(jié)果基于擋塊255從支撐框架210的跨度中間偏離25mm的情況下，其中，支撐框架210的跨度、厚度和寬度分別為100mm、0.5mm和5mm，并且擋塊255的質(zhì)量為10g。如圖5所示，當(dāng)擋塊255位于跨度中間時，減振器200顯示出266.17Hz的頻率。如圖6所示，當(dāng)擋塊255偏離跨度的中間25mm時，減振器200顯示出309.43Hz的頻率。即，如仿真所示，當(dāng)減振器200被安裝在結(jié)構(gòu)體上，并且擋塊部分250被移動時，減振器200的固有頻率被改變。但是，仿真的這些各種條件是被任意設(shè)置以解釋本發(fā)明總體構(gòu)思的效果的，并且本發(fā)明總體構(gòu)思的技術(shù)范圍不應(yīng)該被仿真結(jié)果所限制。
雖然在本發(fā)明總體構(gòu)思的本實施例中，基于假設(shè)結(jié)構(gòu)體是光掃描單元來描述減振器的操作和結(jié)構(gòu)，但是安裝減振器的結(jié)構(gòu)體不限于此。例如，減振器可安裝在各種機械結(jié)構(gòu)上，例如，硬盤驅(qū)動器或成像設(shè)備。即，本發(fā)明總體構(gòu)思的技術(shù)范圍不限于附圖中顯示的實施例。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思，不改變減振器的強度，減振器及其結(jié)構(gòu)體的固有頻率可通過移動安裝在減振器上的擋塊部分來改變。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的減振器和具有該減振器的光掃描單元可不用精密的工藝來制造，這是因為其固有頻率可通過質(zhì)量塊的運動來調(diào)節(jié)，而不用通過改變其強度來調(diào)節(jié)，與傳統(tǒng)技術(shù)所要求的不同。另外，由于根據(jù)本發(fā)明，減振器的頻率可通過移動擋塊部分來手動地調(diào)節(jié)，所以減振器可在各種工作環(huán)境下操作的機械結(jié)構(gòu)中使用。
如上所述，當(dāng)擋塊部分被移動時，根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實施例的減振器具有多種頻率。因此，減振器可被安裝在多種機械結(jié)構(gòu)中，其可在大頻率范圍內(nèi)操作。另外，通過手動移動擋塊部分可改變減振器的頻率，因為允許機械結(jié)構(gòu)或工藝偏差的設(shè)計，所以固有頻率可施加到不同的產(chǎn)品上。即，由于減振器的頻率可被改變，因此，可允許由于工藝錯誤產(chǎn)生的每個產(chǎn)品的固有頻率的差異。
雖然已經(jīng)顯示并描述了本發(fā)明總體構(gòu)思的一些實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，在不脫離本發(fā)明總體構(gòu)思的原理和精神的情況下，可對這些實施例進行改變，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1.一種減振器，包括支撐框架，安裝在結(jié)構(gòu)體上；擋塊部分，可運動地安裝在支撐框架上，根據(jù)擋塊部分相對于支撐框架的位置改變結(jié)構(gòu)體的頻率。
2.如權(quán)利要求1所述的減振器，其中，支撐框架包括沿著其縱向固定到所述結(jié)構(gòu)體的多個端。
3.如權(quán)利要求1所述的減振器，其中，支撐框架包括沿支撐框架的縱向固定到所述結(jié)構(gòu)體的單個端。
4.如權(quán)利要求1所述的減振器，其中，擋塊部分包括支架，安裝在支撐框架上，以沿著支撐框架的縱向運動；擋塊，結(jié)合到支架以當(dāng)支架移動時改變所述結(jié)構(gòu)體的頻率。
5.如權(quán)利要求4所述的減振器，其中支撐框架包括沿其縱向形成在其中的引導(dǎo)狹槽；支架包括結(jié)合孔；擋塊包括形成在其一側(cè)的并且穿過引導(dǎo)狹槽和結(jié)合孔結(jié)合到支架的結(jié)合部分，以將支架固定到支撐框架上。
6.如權(quán)利要求1所述的減振器，其中，擋塊部分在支撐框架上的位置被手動改變。
7.一種具有減振器的光掃描單元，所述減振器包括支撐框架，安裝在光掃描單元上；擋塊部分，可移動地安裝在支撐框架上，用以根據(jù)擋塊部分在支撐框架上的位置來改變光掃描單元的頻率。
8.如權(quán)利要求7所述的光掃描單元，其中，支撐框架包括沿著其縱向固定到光掃描單元的多個端。
9.如權(quán)利要求7所述的光掃描單元，其中，支撐框架包括沿其縱向固定到光掃描單元的單個端。
10.如權(quán)利要求7所述的光掃描單元，其中，擋塊部分包括支架，安裝在支撐框架上，以沿支撐框架的縱向運動；擋塊，結(jié)合到支架，以當(dāng)支架運動時改變光掃描單元的頻率。
11.如權(quán)利要求10所述的光掃描單元，其中支撐框架包括沿其縱向形成在其中的引導(dǎo)狹槽；支架包括結(jié)合孔；擋塊包括形成在其一側(cè)的并且穿過引導(dǎo)狹槽和結(jié)合孔結(jié)合到支架的結(jié)合部分，以將支架固定到支撐框架上。
12.如權(quán)利要求7所述的光掃描單元，其中，擋塊部分在支撐框架上的位置被手動改變。
13.一種成像設(shè)備，包括感光體；光掃描單元，具有用于發(fā)射光的光源；用于偏轉(zhuǎn)光的光束偏轉(zhuǎn)器；光學(xué)構(gòu)件，將偏轉(zhuǎn)的光導(dǎo)向至感光體上以形成潛像；減振器，具有安裝在光掃描單元上的支撐框架和可運動地安裝在支撐框架上的擋塊部分，所述擋塊部分根據(jù)其相對于支撐框架的位置而改變減振器的頻率。
14.一種在成像設(shè)備中可使用的光掃描單元，包括結(jié)構(gòu)體，具有光源、光束偏轉(zhuǎn)器、光學(xué)構(gòu)件和感光體中的至少一個；減振器，具有安裝在所述結(jié)構(gòu)體上的支撐框架和結(jié)合到支撐框架以改變減振器的質(zhì)量分布的擋塊部分。
15.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，所述結(jié)構(gòu)體具有頻率，并且根據(jù)擋塊部分相對于支撐框架的位置，減振器將所述結(jié)構(gòu)體的所述頻率改變至第二頻率。
16.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，當(dāng)擋塊部分的位置改變時，減振器的強度并不改變。
17.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，根據(jù)擋塊部分相對于支撐框架的位置，減振器消減施加到結(jié)構(gòu)體上的力，并與頻率范圍對應(yīng)。
18.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中所述結(jié)構(gòu)體包括框架；所述光束偏轉(zhuǎn)器被設(shè)置在框架的第一部分上；所述支撐框架被設(shè)置在框架的第二部分上。
19.如權(quán)利要求18所述的光掃描單元，其中，所述第一部分和所述第二部分設(shè)置在框架的同一平面上。
20.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，所述光束偏轉(zhuǎn)器在相對于光學(xué)構(gòu)件偏轉(zhuǎn)光源的光的同時產(chǎn)生激振力分量，并且減振器消減所述激振力。
21.如權(quán)利要求20所述的光掃描單元，其中，所述激振力分量與所述結(jié)構(gòu)體的至少一部分的頻率對應(yīng)。
22.如權(quán)利要求21所述的光掃描單元，其中，所述結(jié)構(gòu)體的至少一部分包括光束偏轉(zhuǎn)器。
23.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，所述結(jié)構(gòu)體包括用于產(chǎn)生與其固有頻率相應(yīng)的頻率的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，并且減振器根據(jù)改變的質(zhì)量分布改變所述頻率。
24.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，光束偏轉(zhuǎn)器沿著第一光路接收來自光源的光束，并且將所述光束沿著第二光路偏轉(zhuǎn)，減振器設(shè)置在除第一光路和第二光路之外的結(jié)構(gòu)體的一部分上。
25.如權(quán)利要求14所述的光掃描單元，其中，減振器根據(jù)所述結(jié)構(gòu)體的一部分產(chǎn)生的頻率防止振動。
全文摘要
一種減振器，包括支撐框架，安裝在結(jié)構(gòu)體上；擋塊部分，可移動地安裝在所述支撐框架上，以在支撐框架上運動的同時改變結(jié)構(gòu)體的頻率。所述減振器和具有所述減振器的光掃描單元不用經(jīng)過精密工藝即可被制造，這是因為不用改變強度，通過質(zhì)量塊的運動即可改變頻率。另外，由于減振器的頻率可通過手動移動擋塊部分來被調(diào)節(jié)，所以減振器可在各種工作環(huán)境下操作的機械結(jié)構(gòu)中使用。
文檔編號H04N1/04GK1920326SQ20061012652
公開日2007年2月28日 申請日期2006年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月25日
發(fā)明者金然奎 申請人:三星電子株式會社