Emi控制方法、裝置及電子設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[000。 本發(fā)明涉及通信領(lǐng)域，尤其涉及一種電磁干擾（electroma即etic interference,簡稱EMI)控制方法、裝置及電子設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子電氣產(chǎn)品在人們的生活中應(yīng)用越來越多，需要考慮到電子電氣產(chǎn)品在工 作時對其他電子電氣產(chǎn)品的影響；同時還要關(guān)注電磁福射對人身健康的影響。電子電氣設(shè) 備的電磁福射指標要求已經(jīng)成為各個國家和地區(qū)的市場準入標準之一。目前主要有兩種方 式來控制整機EMI，W抑制整機向外福射的電磁波能量。
[0003] 其一，采用單板硬件設(shè)計完成后，定制金屬屏蔽殼體，形成法拉第籠來提升整機 Effl的性能。但是，定制金屬法拉第籠成本較為昂貴；同時為了達到比較好的屏蔽效果，法 拉第籠上的開孔較少，從而影響了單板的散熱。
[0004] 其二，使用定制的吸波材料，對單板的福射源進行屏蔽衰減。但是，現(xiàn)有設(shè)計中，福 射源表面及四周由于安裝面積有限，需要吸波材料提供很強的吸波性能，也導(dǎo)致吸波材料 成本較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 提供一種Effl控制方法、裝置及電子設(shè)備，可W在不影響電子設(shè)備散熱的情況下， 控制所述電子設(shè)備的EMI。
[0006] 第一方面，提供了一種電磁干擾控制方法，用于控制電子設(shè)備的電磁干擾，所述電 子設(shè)備包括單板、至少兩個福射源及可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器，所述至少兩個福射源及所述可 調(diào)相位時鐘驅(qū)動器設(shè)置于所述單板上，所述方法包括：
[0007] 確定所述至少兩個福射源在所述單板的位置；
[0008] 確定所述至少兩個福射源的預(yù)設(shè)角度；
[0009] 根據(jù)所述至少兩個福射源在所述單板上的位置及所述至少兩個福射源的預(yù)設(shè)角 度，計算所述至少兩個福射源的位置初始相位差；
[0010] 根據(jù)所述至少兩個福射源的位置初始相位差，計算所述至少兩個福射源在遠場的 疊加場強處于極限值時的確定時鐘初始相位；
[0011] 用所述確定時鐘初始相位配置所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器。
[0012] 在第一方面的第一種可能的實現(xiàn)方式中，所述電子設(shè)備還包括吸波材料，所述吸 波材料設(shè)置于所述單板的第一側(cè)，當(dāng)所述預(yù)設(shè)角度為相對于所述吸波材料方向的角度時， 計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于最大極限值時的確定時鐘初始相位，從而 使得所述至少兩個福射源發(fā)射的超標頻率的電磁波被所述吸波材料吸收。
[0013] 在第一方面的第二種可能的實現(xiàn)方式中，所述電子設(shè)備還包括殼體，所述單板置 于所述殼體內(nèi)，所述殼體上開設(shè)有散熱孔，當(dāng)所述預(yù)設(shè)角度為相對于所述散熱孔方向的角 度時，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于最小極限值時的確定時鐘初始相 位，從而避免所述至少兩個福射源的超標頻率的電磁波從所述殼體的散熱孔福射出去。
[0014] 結(jié)合第一方面的第二種可能的實現(xiàn)方式，在第H種可能的實現(xiàn)方式中，所述殼體 包括第一側(cè)壁及第二側(cè)壁，所述第一側(cè)壁對應(yīng)所述單板的第二側(cè)，所述第二側(cè)壁對應(yīng)所述 單板的第H側(cè)，所述散熱孔包括第一側(cè)壁散熱孔及第二側(cè)壁散熱孔，所述第一側(cè)壁散熱孔 開設(shè)于所述第一側(cè)壁上，所述第二散熱孔開設(shè)于所述第二側(cè)壁上，所述預(yù)設(shè)角度包括第一 角度及第二角度，所述第一角度為相對于所述第一側(cè)壁散熱孔方向的角度，所述第二角度 為相對于所述第二側(cè)壁散熱孔方向的角度，所述遠場疊加場強公式還還包括第一權(quán)值及第 二權(quán)值，所述第一權(quán)值對應(yīng)所述第一角度，所述第二權(quán)值對應(yīng)所述第二角度，所述第一權(quán)值 及所述第二權(quán)值為常量，當(dāng)所述第一側(cè)壁散熱孔的孔徑大于所述第二側(cè)壁散熱孔的孔徑 時，所述第一權(quán)值大于所述第二權(quán)值。
[0015] 在第一方面的第四種可能的實現(xiàn)方式中，根據(jù)所述至少兩個福射源的位置初始相 位差，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于極限值時的確定時鐘初始相位之后 還包括：
[0016] 統(tǒng)計所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器到所述至少兩個福射源的延時；
[0017] 所述根據(jù)所述至少兩個福射源的位置初始相位差，計算所述至少兩個福射源在遠 場的疊加場強處于極限值時的確定時鐘初始相位，包括：
[0018] 根據(jù)所述至少兩個福射源的位置初始相位差，和所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器到所述 至少兩個福射源的延時，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于極限值時的確定 時鐘初始相位。
[0019] 第二方面，提供一種電磁干擾控制裝置，用于控制電子設(shè)備的電磁干擾，所述電子 設(shè)備包括單板、至少兩個福射源及可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器，所述至少兩個福射源及所述可調(diào) 相位時鐘驅(qū)動器設(shè)置于所述單板上，所述裝置包括：
[0020] 確定模塊，用于確定所述至少兩個福射源在所述單板上的位置、確定所述至少兩 個福射源的預(yù)設(shè)角度；
[0021] 計算模塊，用于根據(jù)所述至少兩個福射源在所述單板上的位置及所述至少兩個福 射源的預(yù)設(shè)角度，計算所述至少兩個福射源的位置初始相位差，及根據(jù)所述至少兩個福射 源的位置初始相位差，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于極限值時的確定時 鐘初始相位；
[0022] 配置模塊，用于用所述確定時鐘初始相位配置所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器。
[0023] 在第二方面的第一種可能的實現(xiàn)方式中，所述電子設(shè)備還包括吸波材料，所述吸 波材料設(shè)置于所述單板的第一側(cè)，所述預(yù)設(shè)角度為相對于所述吸波材料方向的角度，所述 計算單元還用于計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于最大值時的確定時鐘初 始相位，從而使得所述至少兩個福射源的超標頻率的電磁波被所述吸波材料吸收。
[0024] 在第二方面的第二種可能的實現(xiàn)方式中，所述電子設(shè)備還包括殼體，所述單板置 于所述殼體內(nèi)，所述殼體上開設(shè)有散熱孔，所述預(yù)設(shè)角度為相對于所述散熱孔方向的角 度；
[0025] 所述計算模塊具體用于計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于最小值 時的確定時鐘初始相位，從而避免所述至少兩個福射源的超標頻率的電磁波從所述散熱孔 福射出所述殼體。
[0026] 在第二方面的第H種可能的實現(xiàn)方式中，所述裝置還包括：
[0027] 統(tǒng)計模塊，用于統(tǒng)計所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器到所述至少兩個福射源的延時；所 述計算模塊還用于根據(jù)所述至少兩個福射源的位置初始相位差，和所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動 器到所述至少兩個福射源的延時，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于極限值 時的確定時鐘初始相位。
[0028] 第H方面，提供一種電子設(shè)備，包括殼體、單板、至少兩個福射源、可調(diào)相位時鐘驅(qū) 動器、吸波材料及第二方面的各種實現(xiàn)方式中的電磁干擾控制裝置；
[0029] 所述單板、所述至少兩個福射源、所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器、吸波材料及所述電磁 干擾控制裝置均設(shè)置于所述殼體內(nèi)；
[0030] 所述至少兩個福射源、所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器及所述電磁干擾控制裝置設(shè)置于 所述單板上，所述殼體上設(shè)置散熱孔；
[0031] 所述吸波材料位于所述殼體的無散熱孔面與所述單板的第一側(cè)之間，W吸收所述 至少兩個福射源福射出的電磁波；
[0032] 所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器與所述至少兩個福射源連接，用于調(diào)整所述至少兩個福 射源的時鐘初始相位。
[0033] 本發(fā)明實施例提供的電磁干擾控制方法，通過確定至少兩個福射源在所述單板上 的位置；確定至少兩個福射源的預(yù)設(shè)角度；根據(jù)所述至少兩個福射源在所述單板上的位置 及所述至少兩個福射源的預(yù)設(shè)角度，計算所述至少兩個福射源的位置初始相位差；根據(jù)所 述至少兩個福射源的位置初始相位差，計算所述至少兩個福射源在遠場的疊加場強處于極 限值時的確定時鐘初始相位；用所述確定時鐘初始相位配置所述可調(diào)相位時鐘驅(qū)動器，W 將所述至少兩個福射源的時鐘初始相位調(diào)整為確定時鐘初始相位，從而實現(xiàn)了對福射源的 時鐘初始相位的調(diào)整，進而完成了對所述電子設(shè)備的Effl的控制。
【附圖說明】
[0034]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可W 根據(jù)該些附圖獲得其他的附圖。
[00巧]圖1是本發(fā)明實施例提供的一種EMI控制方法的流程圖；
[0036] 圖2是本發(fā)明實施例提供的單板上設(shè)置第一福射