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活性氣體生成裝置的制作方法

文檔序號:40613705發(fā)布日期:2025-01-07 21:00閱讀:9來源:國知局
活性氣體生成裝置的制作方法

本發(fā)明涉及一種活性氣體生成裝置,具有平行平板方式的電極構(gòu)造,利用介質(zhì)阻擋放電來生成活性氣體。


背景技術(shù):

1、在具有平行平板方式的電極構(gòu)造且利用了介質(zhì)阻擋放電的以往的活性氣體生成裝置中,相互對置的金屬電極(電極用導電膜)與介電膜(電極用介電膜)之間的空隙、或者相互對置的介電膜彼此之間的空隙成為放電空間。

2、以往的活性氣體生成裝置采用如下的平行平板方式介質(zhì)阻擋放電:使放電空間產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電,使向該放電空間中投入的原料氣體活化而生成活性氣體。

3、作為采用了平行平板方式介質(zhì)阻擋放電的活性氣體生成裝置,例如存在專利文獻1中公開的活性氣體生成裝置。

4、關(guān)于活性氣體,一般來說,作為活性氣體的壽命(活性氣體保持較高反應性的時間)較短,需要在短時間內(nèi)向使用活性氣體的空間供給。另外,活性氣體由于與其他物質(zhì)碰撞也會失活,因此不優(yōu)選經(jīng)由彎曲的管等向使用活性氣體的空間供給。

5、因此,在使用活性氣體的處理空間中,在處理對象物(噴吹活性氣體的對象)較大的情況下,在現(xiàn)有的活性氣體生成裝置中采用在離使用活性氣體的處理空間比較近的位置設(shè)置多個氣體噴出口的第一改進構(gòu)造、具有與多個氣體噴出口對應的多個放電空間的第二改進構(gòu)造等。

6、現(xiàn)有技術(shù)文獻

7、專利文獻

8、專利文獻1:國際公開第2019/138456號


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、對于上述第一改進構(gòu)造,采用針對一個介電膜設(shè)置多個氣體噴出口這樣的方法。然而,從多個氣體噴出口分別噴出的活性氣體基本上僅具有一個方向性,因此存在無法向在內(nèi)部載放了處理對象物的處理空間供給均勻的活性氣體這樣的問題點。

3、上述第二改進構(gòu)造也與第一改進構(gòu)造同樣,從多個氣體噴出口分別噴出的活性氣體基本上僅具有一個方向性,因此存在無法向處理空間供給均勻的活性氣體這樣的問題點。

4、本發(fā)明的目的在于提供一種活性氣體生成裝置,解決上述那樣的問題點,能夠向處理空間供給均勻的活性氣體。

5、用于解決課題的手段

6、本發(fā)明的活性氣體生成裝置為,使供給到放電空間的原料氣體活性化而生成活性氣體,具備:電極單元;以及殼體,具有導電性,在殼體內(nèi)空間收納所述電極單元,所述殼體具有包括平坦面以及從所述平坦面向深度方向凹陷的導體收納空間的殼體底部,所述電極單元具備:第一電極構(gòu)成部;第二電極構(gòu)成部,設(shè)置在所述第一電極構(gòu)成部的下方;以及基準電位導體,設(shè)置在所述第二電極構(gòu)成部的下方,被收納在所述導體收納空間內(nèi),所述第一電極構(gòu)成部包括第一電極用介電膜以及形成在所述第一電極用介電膜的上表面上的第一電極用導電膜,所述第二電極構(gòu)成部包括第二電極用介電膜以及形成在所述第二電極用介電膜的下表面上的第二電極用導電膜,所述基準電位導體的上部具有活性氣體用緩沖空間,所述第二電極構(gòu)成部配置成堵塞所述活性氣體用緩沖空間,所述第二電極用介電膜在俯視時與所述活性氣體用緩沖空間重疊的區(qū)域中具有貫通所述第二電極用介電膜的電介質(zhì)貫通口,所述第二電極用導電膜在俯視時與所述活性氣體用緩沖空間重疊的區(qū)域中具有導電膜開口部,所述導電膜開口部在俯視時與所述電介質(zhì)貫通口重疊,所述第一電極用介電膜與所述第二電極用介電膜相對置的空間被規(guī)定為主要電介質(zhì)空間,所述放電空間在所述主要電介質(zhì)空間內(nèi)包括所述第一以及第二電極用導電膜在俯視時重疊的區(qū)域即主要放電空間,所述第一電極用導電膜被施加交流電壓,經(jīng)由所述殼體以及所述基準電位導體而所述第二電極用導電膜被設(shè)定為基準電位,所述活性氣體生成裝置還具備多個氣體噴出口,該多個氣體噴出口分別從所述活性氣體用緩沖空間的底面貫通所述基準電位導體地設(shè)置,所述多個氣體噴出口在俯視時不與所述電介質(zhì)貫通口重疊,所述放電空間除了所述主要放電空間之外,還具有包括所述電介質(zhì)貫通口、以及所述活性氣體用緩沖空間的一部分的輔助放電空間,從所述多個氣體噴出口輸出的活性氣體被規(guī)定為多個局部活性氣體,所述殼體的所述殼體底部在俯視時與所述活性氣體用緩沖空間重疊的區(qū)域中具有殼體開口部,所述多個局部活性氣體經(jīng)由所述殼體開口部被向下方引導,所述殼體開口部包括隨著朝向下方而開口面積變大的錐形狀的錐形區(qū)域,所述多個氣體噴出口以隨著朝向下方而相互接近的方式設(shè)置、以使所述多個局部活性氣體在碰撞區(qū)域中碰撞,而且,所述碰撞區(qū)域存在于所述錐形區(qū)域內(nèi)或者比所述錐形區(qū)域靠上方的位置。

7、發(fā)明的效果

8、本發(fā)明的活性氣體生成裝置中的多個氣體噴出口具有上述特征。因此,在碰撞區(qū)域中多個局部活性氣體進行碰撞,因此多個局部活性氣體各自的流動方向從一個方向分散為多個擴散方向。

9、碰撞區(qū)域存在于錐形區(qū)域內(nèi)或者比錐形區(qū)域靠上方的位置,因此分別擴散的多個局部活性氣體隨著朝向下方而流向沿著錐形區(qū)域的錐形狀的方向。

10、因而,包括多個局部活性氣體的活性氣體從錐形區(qū)域朝向下方的處理空間,在沿著錐形狀的方向上一邊擴散一邊流動。其結(jié)果,本發(fā)明的活性氣體生成裝置能夠向處理空間供給均勻的活性氣體。

11、通過以下的詳細說明以及附圖,本發(fā)明的目的、特征、方案以及優(yōu)點變得更明白。



技術(shù)特征:

1.一種活性氣體生成裝置,使供給到放電空間的原料氣體活性化而生成活性氣體,其特征在于,具備:

2.如權(quán)利要求1所述的活性氣體生成裝置,其中,

3.如權(quán)利要求1或2所述的活性氣體生成裝置,其中,

4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的活性氣體生成裝置,其中,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的目的在于提供活性氣體生成裝置,能夠向處理空間供給均勻的活性氣體。本發(fā)明的活性氣體生成裝置(75)中的電極單元(55)具備設(shè)置在接地側(cè)電極構(gòu)成部(E2)下方的接地導體(60)。殼體(1)的殼體底部(1a)具有殼體開口部(41),殼體開口部(41)包括隨著朝向下方而開口面積變大的下方錐形區(qū)域(41t)與上方區(qū)域(41a)。設(shè)置于接地導體(60)的多個氣體噴出口(70)以隨著朝向下方而相互接近的方式設(shè)置、以使多個局部活性氣體在碰撞區(qū)域(80)中碰撞,碰撞區(qū)域(80)存在于下方錐形區(qū)域(41t)內(nèi)或者比下方錐形區(qū)域(41t)靠上方的上方區(qū)域(41a)內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員:有田廉
受保護的技術(shù)使用者:東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/6
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