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轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法與流程

文檔序號:11137805閱讀:1885來源:國知局
轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法與制造工藝

本發(fā)明涉及轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法,更特定地說,涉及能夠用簡易的方法修正不平衡能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止的轉(zhuǎn)子不平衡的修正方法。



背景技術(shù):

外轉(zhuǎn)子型無刷馬達等馬達由于技術(shù)的進步而逐漸精密化以及高速化。對馬達要求有更高的性能與功能。在這樣的狀況下,馬達的振動以及伴隨該振動的噪聲成為損害馬達的性能的較大的主要因素。

馬達的振動以及噪聲在多數(shù)情況下起因于轉(zhuǎn)子的重心從旋轉(zhuǎn)軸偏移(以下,有時記為轉(zhuǎn)子的不平衡)。轉(zhuǎn)子的不平衡起因產(chǎn)生于軸的偏心、由馬達的部件的組合導致的偏心、馬達的部件的缺陷、或者異物的附著等。并且,構(gòu)成馬達的各個部件的質(zhì)量在圓周上有微妙的不同,所以即使是尺寸上高精度的精密的部件,也不能消滅局部的質(zhì)量差,從而成為轉(zhuǎn)子的不平衡的主要因素。轉(zhuǎn)子的不平衡除了產(chǎn)生馬達的振動以及噪聲之外,還降低馬達的壽命。這是因為轉(zhuǎn)子的載荷反復施加于軸承的緣故。因此,對轉(zhuǎn)子的不平衡進行修正在提高馬達的性能這一觀點上較重要。

以往的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法例如公開于下述專利文獻1以及2等。

在下述專利文獻1中公開有在旋轉(zhuǎn)多面鏡的表面的凹處粘合多個不同比重的平衡配重的技術(shù)。在該技術(shù)中,在進行第一次平衡修正時,將比重較大的粘合劑涂敷于外徑側(cè)的凹處,在進行第二次平衡修正時,將比重較小的粘合劑涂敷于內(nèi)徑側(cè)的凹處。

在下述專利文獻2中公開有在形成于轉(zhuǎn)子的外壁面的環(huán)狀槽、以及形成于旋轉(zhuǎn)多面鏡的上表面的多個環(huán)狀槽分別配置平衡配重的技術(shù)。在該技術(shù)中,在進行第一次平衡修正時,將平衡配重粘合于外徑側(cè)的環(huán)狀槽,在進行第二次平衡修正時,將平衡配重粘合于內(nèi)徑側(cè)的環(huán)狀槽。

專利文獻1:日本特開平6-208074號公報

專利文獻2:日本特開平6-208075號公報

然而,在專利文獻1以及2的技術(shù)中,需要準備不同的多種粘合劑或者平衡配重,從而存在不平衡的修正較繁瑣之類的問題。另外,在專利文獻1以及2的技術(shù)中,需要在全部的平衡修正位置預先形成用于設(shè)置粘合劑或者平衡配重的槽,而導致轉(zhuǎn)子的構(gòu)造復雜化。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明用于解決上述課題,其一個目的在于提供一種能夠用簡易的方法修正不平衡的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法。

另外,本發(fā)明的另一個目的在于提供一種能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法。

本發(fā)明的一個方面的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法具備:第一調(diào)整工序,在將轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)軸作為法線的第一平面內(nèi)的以旋轉(zhuǎn)軸為中心的圓周上的第一調(diào)整位置中的任一位置,對轉(zhuǎn)子的不平衡進行調(diào)整;第二調(diào)整工序,在將轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)軸作為法線且為與第一平面不同的平面的第二平面內(nèi)的以旋轉(zhuǎn)軸為中心的圓周上的第二調(diào)整位置中的任一位置,對轉(zhuǎn)子的不平衡進行調(diào)整;以及第三調(diào)整工序,在第一調(diào)整工序以及第二調(diào)整工序之后,在將轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)軸作為法線的第三平面內(nèi)的以旋轉(zhuǎn)軸為中心的圓周上的第三調(diào)整位置中的任一位置,對轉(zhuǎn)子的不平衡進行調(diào)整,第三調(diào)整工序在第三調(diào)整位置的半徑比第一調(diào)整位置以及第二調(diào)整位置的半徑都小的大致平面上進行。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,在第一調(diào)整工序、第二調(diào)整工序以及第三調(diào)整工序中的至少兩個工序中,進行基于正平衡的調(diào)整,用于基于正平衡進行調(diào)整的平衡錘為相同的材質(zhì)、相同的比重。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,在第一調(diào)整工序、第二調(diào)整工序以及第三調(diào)整工序中的至少兩個工序中,進行基于負平衡的調(diào)整。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,在第三調(diào)整工序中,對轉(zhuǎn)子整體的靜態(tài)不平衡以及動態(tài)不平衡中的至少任一方進行調(diào)整。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,:第一平面以及第三平面為同一平面。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,轉(zhuǎn)子為外轉(zhuǎn)子型馬達的轉(zhuǎn)子,該馬達具備卷繞有線圈的定子鐵芯、以及包括在定子鐵芯的外徑側(cè)與定子鐵芯對置的磁鐵的轉(zhuǎn)子。

在上述轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法中,優(yōu)選,轉(zhuǎn)子包括:以旋轉(zhuǎn)軸為中心進行旋轉(zhuǎn)的軸;固定于軸的外周面的轉(zhuǎn)子框架;以及設(shè)置在轉(zhuǎn)子框架上的多面鏡,轉(zhuǎn)子框架包括:從固定于軸的外周面的內(nèi)徑側(cè)端部向外徑方向延伸的頂部;以及從頂部的外徑側(cè)端部沿旋轉(zhuǎn)軸的延伸方向延伸且在內(nèi)周面固定有磁鐵的側(cè)壁部,第一調(diào)整位置以及第三調(diào)整位置分別設(shè)置于相比多面鏡靠上部的同一平面內(nèi),第二調(diào)整位置設(shè)置于側(cè)壁部。

根據(jù)本發(fā)明,能夠用簡易的方法修正不平衡。另外,根據(jù)本發(fā)明,能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止。

附圖說明

圖1是示意性地表示本發(fā)明的一實施方式中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之前的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

圖2是對轉(zhuǎn)子的不平衡的概念進行說明的圖。

圖3是對本發(fā)明的一實施方式中的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法的第一工序進行表示的頂板15的立體圖。

圖4是對本發(fā)明的一實施方式中的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法的第二工序進行表示的轉(zhuǎn)子框架11的俯視圖。

圖5是對本發(fā)明的一實施方式中的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法的第三工序進行表示的頂板15的立體圖。

圖6是示意性地表示本發(fā)明的一實施方式中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之后的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

圖7是示意性地表示本發(fā)明的一變形例中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之后的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

附圖標記說明:

10…轉(zhuǎn)子;11…轉(zhuǎn)子框架;11a…轉(zhuǎn)子框架的轉(zhuǎn)子凸起;11b…轉(zhuǎn)子框架的轉(zhuǎn)子臺;11c…轉(zhuǎn)子框架的側(cè)壁部;11ca…轉(zhuǎn)子框架的側(cè)壁部的外周面;11cb…轉(zhuǎn)子框架的側(cè)壁部的內(nèi)周面;11d…轉(zhuǎn)子框架的凹部;11e…轉(zhuǎn)子框架的孔;12…磁鐵;13…軸;13a…軸的下端面;15…頂板;15a…頂板的嵌合孔;16…多面鏡;16a…多面鏡的嵌合孔;17…壓簧;17a…壓簧的嵌合孔;17b…壓簧的腳;20…定子;21…定子鐵芯;21a…定子鐵芯的齒部;22…定子線圈;32…定子殼體;33…固定板;34…推力承受板;35…貫通孔;40…基板;40a…基板的孔;BP1、BP2、BP3…調(diào)整位置;CO1、CO2、CO3…孔;D、d1、d2…距離;G…重心;M、m1、m2…質(zhì)量;O…旋轉(zhuǎn)中心;PL1、PL2…平面;PT1、PT2…位置;R…旋轉(zhuǎn)軸;r1、r2、r3…半徑;WT1、WT2、WT3…平衡錘。

具體實施方式

以下,基于附圖對本發(fā)明的一實施方式進行說明。

[多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)]

圖1是示意性地表示本發(fā)明的一實施方式中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之前的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

圖1所示的、本實施方式中的多面鏡掃描儀馬達驅(qū)動多面鏡進行旋轉(zhuǎn)。多面鏡掃描儀馬達主要具備轉(zhuǎn)子10、以及定子20。轉(zhuǎn)子10被定子殼體32支承。轉(zhuǎn)子10以旋轉(zhuǎn)軸R為中心相對于定子20旋轉(zhuǎn)。

轉(zhuǎn)子10包括轉(zhuǎn)子框架11、磁鐵12、軸13、頂板15、多面鏡16、以及壓簧17。軸13具有圓柱形狀,在軸13或者定子殼體32的內(nèi)徑部中的任一表面形成有動壓槽。軸13設(shè)置于旋轉(zhuǎn)軸R的位置。在轉(zhuǎn)子10中,軸13以貫穿轉(zhuǎn)子框架11的中心部的方式沿圖1中的縱向延伸。轉(zhuǎn)子框架11能夠以旋轉(zhuǎn)軸R為中心與軸13一起旋轉(zhuǎn)。磁鐵12以與定子20對置的方式安裝于轉(zhuǎn)子框架11。

轉(zhuǎn)子框架11包括轉(zhuǎn)子凸起11a、轉(zhuǎn)子臺11b(頂部的一個例子)、側(cè)壁部11c、以及凹部11d。轉(zhuǎn)子凸起11a具有圓的平面形狀,固定于軸13的外周面。轉(zhuǎn)子凸起11a具有圓筒形狀,相比轉(zhuǎn)子臺11b靠上側(cè)突出。轉(zhuǎn)子凸起11a設(shè)置于轉(zhuǎn)子臺11b的內(nèi)徑側(cè)端部。轉(zhuǎn)子臺11b設(shè)置于轉(zhuǎn)子凸起11a的外徑側(cè),從轉(zhuǎn)子凸起11a向外徑方向(圖1中的橫向)延伸。側(cè)壁部11c從轉(zhuǎn)子臺11b的外徑側(cè)端部朝下方向延伸。

在轉(zhuǎn)子凸起11a的中心部設(shè)置有用于供軸13穿過的孔11e。轉(zhuǎn)子框架11通過孔11e與軸13的外周面嵌合,從而固定于軸13。轉(zhuǎn)子臺11b例如具有圓的平面形狀。側(cè)壁部11c具有圓筒形狀,具有朝向外周側(cè)的面亦即外周面11ca、以及朝向內(nèi)周側(cè)的面亦即內(nèi)周面11cb。磁鐵12固定于內(nèi)周面11cb。凹部11d具有圓周的平面形狀,設(shè)置于側(cè)壁部11c的外周面11ca。凹部11d通過將側(cè)壁部11c的下端部向外徑側(cè)彎折進而向上側(cè)彎折而形成。

頂板15例如具有圓的平面形狀,例如由鋁等金屬構(gòu)成。頂板15包括嵌合孔15a。嵌合孔15a設(shè)置于頂板15的中心部分。嵌合孔15a的內(nèi)周面與軸13的外周面上的與轉(zhuǎn)子框架11不同的位置嵌合,由此頂板15相對于轉(zhuǎn)子10被固定。

多面鏡16設(shè)置于頂板15的下部。多面鏡16具有多邊形的平面形狀。多面鏡16包括設(shè)置于中心部分的嵌合孔16a。嵌合孔16a的內(nèi)周面與轉(zhuǎn)子凸起11a的外周面嵌合。嵌合孔16a的內(nèi)徑比轉(zhuǎn)子凸起11a的外徑稍大,從而在嵌合孔16a與轉(zhuǎn)子凸起11a之間設(shè)置有間隙。由此,多面鏡16相對于轉(zhuǎn)子10的裝卸較容易。多面鏡16載置于轉(zhuǎn)子臺11b上,多面鏡16的下表面與轉(zhuǎn)子臺11b接觸。另外,多面鏡16的上表面與頂板15的下表面相互接觸。多面鏡16的上表面形成為大致平面。

壓簧17設(shè)置于頂板15的上部。壓簧17包括嵌合孔17a、以及多個腳17b。嵌合孔17a設(shè)置于壓簧17的中心。嵌合孔17a的內(nèi)周面與軸13的外周面嵌合,由此將壓簧17固定于軸13。多個腳17b分別距離嵌合孔17a等間隔地向外徑方向以及下方向突出。多個腳17b的各個的外徑側(cè)的端部與頂板15的上表面接觸。由此,壓簧17經(jīng)由頂板15將多面鏡16相對于轉(zhuǎn)子臺11b向下方向施力。

定子20包括定子鐵芯21、卷繞于齒部21a的周圍的定子線圈22、以及基板40。定子鐵芯21固定于定子殼體32的外周面,具有以從中央向徑向外側(cè)呈放射狀地延伸的形成的多個齒部21a。定子鐵芯21以與磁鐵12隔著空間對置的方式配置于比磁鐵12靠內(nèi)周側(cè)的位置。定子線圈22卷繞于多個齒部21a的各個。定子線圈22在電流流過的情況下產(chǎn)生磁場。通過定子線圈22的磁場與磁鐵12的磁場的相互作用,產(chǎn)生驅(qū)動力(使轉(zhuǎn)子10旋轉(zhuǎn)的力)。

定子20還包括定子殼體32、固定板33、以及推力承受板34。定子殼體32包括貫通孔35,軸13插入貫通孔35內(nèi)。在由軸13的外周面、貫通孔35的內(nèi)周面以及推力承受板34構(gòu)成的空間(定子殼體32與軸13之間)填充有油(未圖示)。固定板33覆蓋貫通孔35的下端部,推力承受板34配置于固定板33與軸13的下端面13a之間。

在基板40的中心部形成有孔40a,軸13以及定子殼體32貫通孔40a。此外,雖然未圖示,但也可以在基板40形成用于驅(qū)動以及控制無刷馬達的驅(qū)動/控制集成電路、芯片型電子部件(電阻、電容器)、用于接通/斷開向各定子線圈22的電壓的施加的功率MOS陣列等。

在本實施方式的多面鏡掃描儀馬達中,頂板15的上表面成為不在槽內(nèi)的大致平面。在頂板15的上表面分別設(shè)置有調(diào)整位置BP1以及BP3。在側(cè)壁部11c(凹部11d)設(shè)置有調(diào)整位置BP2。此外,調(diào)整位置BP1、BP2、BP3分別為假想線。

[轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法]

接下來,對轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法進行說明。

圖2是對轉(zhuǎn)子的不平衡的概念進行說明的圖。

在圖2中,示意性地表示轉(zhuǎn)子10的在任意的平面中的不平衡。轉(zhuǎn)子的不平衡因轉(zhuǎn)子10的重心從旋轉(zhuǎn)中心O偏移而產(chǎn)生。例如,轉(zhuǎn)子10具有質(zhì)量M(mg),假設(shè)圖2示出的平面中的轉(zhuǎn)子10的重心G從旋轉(zhuǎn)中心O向圖2中左方向偏移距離D(cm)的情況。在這種情況下,在轉(zhuǎn)子10產(chǎn)生M×D(mg·cm)這樣的量的不平衡。

在消除該不平衡時,在圖2示出的平面中,在隔著旋轉(zhuǎn)中心O處于與重心G相反的一側(cè)的位置PT1追加具有質(zhì)量m1的平衡錘。此時,若將從旋轉(zhuǎn)中心O至位置PT1為止的距離設(shè)為距離d1,則選擇成為M×D=m1×d1那樣的平衡錘以及位置。以下,有時將對轉(zhuǎn)子追加平衡錘的不平衡的調(diào)整方法記為正平衡調(diào)整。

另外,在消除該不平衡時,在圖2示出的平面中,也可以在將連結(jié)重心G與旋轉(zhuǎn)中心O的直線向重心G側(cè)延長的直線上的位置PT2削除轉(zhuǎn)子10的一部分。此時,若將被削除的轉(zhuǎn)子10的部分的質(zhì)量設(shè)為質(zhì)量m2,將從旋轉(zhuǎn)中心O至位置PT2為止的距離設(shè)為距離d2,則選擇成為M×D=m2×d2那樣的質(zhì)量m2以及位置。以下,有時將削除轉(zhuǎn)子10的一部分的不平衡的調(diào)整方法記為負平衡調(diào)整。

在進行正平衡調(diào)整以及負平衡調(diào)整中的任一個的情況下,若縮小從旋轉(zhuǎn)中心O至調(diào)整位置為止的距離,則調(diào)整所需的質(zhì)量增加。在負平衡的情況下削除對象的部件,所以,任一部分的比重都相同,調(diào)整所需的質(zhì)量增加,由此消減的量增加,能夠細微地調(diào)整消減的量。另外,即使在正平衡的情況下,也通過使用相同比重的平衡錘使得調(diào)整所需的質(zhì)量增加,由此,體積增加,能夠進行微小的調(diào)整。其結(jié)果是,提高不平衡的修正精度。

圖3~圖5是按工序的順序表示本發(fā)明的一實施方式中的轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法的圖。此外,圖3以及圖5是頂板15的立體圖,圖4是轉(zhuǎn)子框架11的俯視圖。

參照圖1以及圖3進行說明,在本實施方式中的多面鏡掃描儀馬達中,在修正轉(zhuǎn)子10的不平衡時,首先,在平面PL1內(nèi)的調(diào)整位置BP1對轉(zhuǎn)子10的靜不平衡進行調(diào)整。平面PL1是以旋轉(zhuǎn)軸R為法線的平面。平面PL1優(yōu)選為比多面鏡16靠上部,在這里為頂板15的上表面。調(diào)整位置BP1是以旋轉(zhuǎn)軸R為中心的圓周上的調(diào)整位置。

具體而言,利用已知的方法測定平面PL1內(nèi)的轉(zhuǎn)子10的靜不平衡。然后,以平面PL1內(nèi)的靜不平衡成為既定值(例如1mg·cm)以下的方式來決定調(diào)整位置BP1上的去除頂板15的位置、以及所去除的頂板15的質(zhì)量。接下來,在調(diào)整位置BP1上(頂板15的上表面)的被決定好的位置形成孔(圓孔)CO1。由此,進行負平衡調(diào)整。孔CO1例如利用鉆頭等形成。在形成孔CO1時被去除的頂板15的質(zhì)量與上述的質(zhì)量m2對應??證O1距旋轉(zhuǎn)軸R的距離(換言之,調(diào)整位置BP1的半徑r1)與上述的距離d2對應??證O1可以為多個也可以為單個。

參照圖1以及圖4進行說明,接下來,在平面PL2內(nèi)的調(diào)整位置BP2對轉(zhuǎn)子10的靜不平衡進行調(diào)整。平面PL2是以旋轉(zhuǎn)軸R為法線的平面,是與平面PL1不同的平面。調(diào)整位置BP2是以旋轉(zhuǎn)軸R為中心的圓周上的調(diào)整位置。

具體而言,利用已知的方法測定平面PL2內(nèi)的轉(zhuǎn)子10的靜不平衡。然后,以平面PL2內(nèi)的靜不平衡成為既定值(例如1mg·cm)以下的方式來決定調(diào)整位置BP2上的附加平衡錘WT2的位置、以及附加的平衡錘WT2的質(zhì)量。接下來,在調(diào)整位置BP2上的被決定好的位置附加平衡錘WT2。由此,進行正平衡調(diào)整。平衡錘WT2的質(zhì)量與上述的質(zhì)量m1對應。平衡錘WT2距旋轉(zhuǎn)軸R的距離(換言之,調(diào)整位置BP2的半徑r2)與上述的距離d1對應。平衡錘WT2可以為多個也可以為單個。

作為用于不平衡的調(diào)整的平衡錘,例如使用膩子。另外,作為平衡錘,也可以使用含有珠子、陶瓷、或者金屬等固體材料的粘合劑。

此外,對于在調(diào)整位置BP1以及BP2分別進行的不平衡的調(diào)整而言,也可以代替上述的靜不平衡,而為動不平衡的調(diào)整,也可以為偶不平衡的調(diào)整。動不平衡以及偶不平衡的調(diào)整分別利用已知的方法進行。另外,在調(diào)整位置設(shè)置平衡錘的情況下,如上述那樣未設(shè)置凹部,所以能夠在徑向以及圓周方向的任意的位置進行調(diào)整。

參照圖1以及圖5進行說明,在調(diào)整位置BP1以及調(diào)整位置BP2處的不平衡的調(diào)整之后,在平面PL1內(nèi)的調(diào)整位置BP3,向?qū)⑥D(zhuǎn)子10整體(旋轉(zhuǎn)體整體)的靜態(tài)不平衡或者動態(tài)不平衡中的至少任一方縮小的方向(接近零的方向)進行調(diào)整。調(diào)整位置BP3是以旋轉(zhuǎn)軸R為中心的圓周上的調(diào)整位置。調(diào)整位置BP3的半徑r3比調(diào)整位置BP1的半徑r1以及調(diào)整位置BP2的半徑r2的各個都小。

具體而言,利用已知的方法測定轉(zhuǎn)子10整體的靜態(tài)不平衡以及動態(tài)不平衡中的至少任一方。而且,以靜態(tài)不平衡以及動態(tài)不平衡中的至少任一方成為既定值(例如0.1mg·cm)以下的方式來決定調(diào)整位置BP3上的去除頂板15的一部分的位置、以及所去除的頂板15的質(zhì)量。接下來,在調(diào)整位置BP3上(頂板15的上表面)的被決定好的位置形成孔(圓孔)CO3。由此,進行負平衡調(diào)整??證O3例如利用鉆頭等形成。在形成孔CO3時被去除的頂板15的質(zhì)量與上述的質(zhì)量m2對應??證O3距旋轉(zhuǎn)軸R的距離(換言之,調(diào)整位置BP3的半徑r3)與上述的距離d2對應??證O3可以為多個也可以為單個。另外,為了進行微小的調(diào)整,也可以使鉆頭的直徑為更小的直徑來進行作業(yè)。

上述的“靜態(tài)不平衡的調(diào)整”是指偶不平衡的調(diào)整,即對轉(zhuǎn)子的靜不平衡進行調(diào)整,以在左右相反方向(180度反向)具有相同的量的方式對剩余的不平衡進行調(diào)整。上述的“動態(tài)不平衡的調(diào)整”是指合成不平衡的調(diào)整,即在動不平衡中對將左右面兩面的不平衡矢量合成后的不平衡進行調(diào)整。

調(diào)整位置BP3的半徑r3比調(diào)整位置BP1的半徑r1以及調(diào)整位置BP2的半徑r2的各個都小。因此,當假設(shè)在調(diào)整位置BP1、BP2以及BP3的各處調(diào)整相同量的不平衡的情況下,調(diào)整位置BP3處的不平衡的調(diào)整所需的質(zhì)量比調(diào)整位置BP1以及BP2各處的不平衡的調(diào)整所需的質(zhì)量大。換句話說,在外徑側(cè)(調(diào)整位置BP1)進行了不平衡的調(diào)整的情況下,由于慣性較大,所以轉(zhuǎn)子的平衡通過少量的質(zhì)量而較大地變化。另一方面,在內(nèi)徑側(cè)(調(diào)整位置BP3)進行不平衡的調(diào)整的情況下,由于慣性較小,所以為了改變轉(zhuǎn)子的平衡而需要較多的質(zhì)量。換言之,在負平衡的情況下削除對象的部件,所以,任一部分的比重都相同,調(diào)整所需的質(zhì)量增加,由此消減的量增加,能夠細微地調(diào)整消減的量。另外,即使在正平衡的情況下,也通過使用相同比重的平衡錘使得調(diào)整所需的質(zhì)量增加,由此,體積增加,能夠進行微小的調(diào)整。調(diào)整位置BP3處的不平衡的調(diào)整與調(diào)整位置BP1以及BP2各處的不平衡的調(diào)整相比,能夠進行更微小的調(diào)整。其結(jié)果是,在進行了調(diào)整位置BP1以及BP2處的不平衡的調(diào)整之后,進行調(diào)整位置BP3處的不平衡的調(diào)整,由此,能夠容易地進行不平衡的微修正,能夠提高不平衡的修正精度。

由此,在通過調(diào)整位置BP1以及BP2處的不平衡的調(diào)整而調(diào)整至平衡機的調(diào)整精度的極限點之后,通過調(diào)整位置BP3處的平衡調(diào)整,能夠調(diào)整至超過平衡機的極限、所謂的零平衡。通過調(diào)整位置BP3處的不平衡的調(diào)整,以較多的質(zhì)量進行調(diào)整,由此能夠進行微小的調(diào)整。

圖6是示意性地表示本發(fā)明的一實施方式中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之后的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

參照圖6進行說明,在頂板15的上表面的調(diào)整位置BP1以及BP3各自所需的位置分別形成有所需大小的孔CO1以及CO3。在凹部11d內(nèi)的調(diào)整位置BP2的所需的位置設(shè)置有具有所需的質(zhì)量的平衡錘WT2。

根據(jù)本實施方式,在第三調(diào)整工序中,在不在槽內(nèi)的大致平面上調(diào)整轉(zhuǎn)子的不平衡。由此,能夠省略用于固定平衡錘的槽等結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是,能夠用簡易的方法修正不平衡,能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止。進而,能夠減少成本。除此之外,在調(diào)整位置BP1以及BP3通過負平衡調(diào)整來調(diào)整轉(zhuǎn)子的不平衡。由此,能夠省略正平衡調(diào)整所需的平衡錘、用于固定平衡錘的槽等結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是,能夠用簡易的方法修正不平衡,能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止。進而,能夠減少成本。

此外,在本實施方式中,轉(zhuǎn)子10也可以不包括頂板15,調(diào)整位置BP1以及BP3也可以分別設(shè)置于多面鏡16的上表面。

[變形例]

圖7是示意性地表示本發(fā)明的一變形例中的、修正轉(zhuǎn)子的不平衡之后的多面鏡掃描儀馬達的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

參照圖7進行說明,在本變形例中,未設(shè)置有頂板,在多面鏡16的上表面設(shè)置調(diào)整位置BP1以及BP3。多面鏡16的上表面成為大致平面。在調(diào)整位置BP1以及BP3分別進行正平衡調(diào)整,在調(diào)整位置BP2進行負平衡調(diào)整。在多面鏡16的上表面的調(diào)整位置BP1以及BP3各自所需的位置分別設(shè)置有所需的大小的平衡錘WT1以及WT3。多面鏡16的上表面為大致平面,未形成用于固定平衡錘的槽。平衡錘WT1以及WT3分別相比多面鏡16的上表面靠上方突出。平衡錘WT1以及WT3由相同的材料構(gòu)成。換句話說,使用的平衡錘為相同的材質(zhì)、相同的比重。平衡錘WT1以及WT3分別可以為多個也可以為單個。

在轉(zhuǎn)子框架11未設(shè)置有凹部11d。調(diào)整位置BP2設(shè)置于側(cè)壁部11c的外周面11ca的平面PL2內(nèi)的位置。在側(cè)壁部11c的外周面11ca的調(diào)整位置BP2的所需的位置形成有所需的大小的孔CO2??證O2可以為多個也可以為單個。

如本變形例這樣,在調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3中的至少兩個位置(這里為調(diào)整位置BP1以及BP3)進行正平衡調(diào)整的情況下,使用相同材質(zhì)、相同比重的平衡錘(這里為平衡錘WT1以及WT3)。

此外,在本變形例中,轉(zhuǎn)子10也可以包括頂板,調(diào)整位置BP1以及BP3也可以分別設(shè)置于頂板的上表面。頂板用于正平衡調(diào)整,在用于正平衡調(diào)整的平衡錘由膩子構(gòu)成的情況下,頂板優(yōu)選由與膩子的相容性較好的銅系金屬、鋁不銹鋼等構(gòu)成。

本變形例的上述以外的馬達的結(jié)構(gòu)以及轉(zhuǎn)子的不平衡的修正方法與上述的實施方式的情況相同,由此,對相同的部件標注相同的附圖標記,不重復其說明。

根據(jù)本變形例,在調(diào)整位置BP1以及BP3,通過使用了由相同的材料構(gòu)成的平衡錘的正平衡調(diào)整來調(diào)整轉(zhuǎn)子的不平衡。由此,無需準備多個由不同的比重的材料構(gòu)成的平衡錘。另外,在調(diào)整位置BP2通過負平衡調(diào)整來調(diào)整轉(zhuǎn)子的不平衡。由此,在調(diào)整位置BP2,能夠省略正平衡調(diào)整所需的平衡錘、用于固定平衡錘的槽等結(jié)構(gòu)。并且,能夠省略頂板。其結(jié)果是,能夠用簡易的方法修正不平衡,能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止。進而,能夠減少成本。

除此之外,由于未形成有用于固定各個平衡錘WT1以及WT3的槽,所以能夠用簡易的方法修正不平衡,能夠?qū)D(zhuǎn)子的構(gòu)造的復雜化進行抑止。

這里,在專利文獻2中,需要在設(shè)置平衡錘的所有位置預先形成槽。因此,需要根據(jù)槽的直徑進行平衡調(diào)整,不能實施在不同的直徑下的調(diào)整。另外,為了彌補由槽的形成導致的頂板等的強度的降低,需要增加其他部分的材料厚度或者在槽內(nèi)設(shè)置間隔件來加強的構(gòu)造。其結(jié)果是,導致質(zhì)量的增加、構(gòu)造的復雜化。另外,在形成了間隔件的情況下,存在調(diào)整位置到間隔件之上的情況,這種情況并不優(yōu)選。在本變形例中,無需在調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3的任一處預先設(shè)置槽。由此,能夠在徑向與周向的任何位置進行調(diào)整,能夠進行更可靠的平衡調(diào)整。此外,關(guān)于位置以及平衡調(diào)整,在由平衡機檢測出的調(diào)整位置,能夠采用用于正平衡的涂敷機自動地移動的結(jié)構(gòu)。另外,也可以采用用于負平衡的切除用機床自動地移動的結(jié)構(gòu)。

此外,在調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3中的至少一處,通過在不在槽內(nèi)的大致平面上附加平衡錘來調(diào)整轉(zhuǎn)子的不平衡即可。由此,能夠獲得因不預先形成槽而得到的上述效果。

[其他]

調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3各自的位置是任意的,調(diào)整位置BP3是以旋轉(zhuǎn)軸R為法線的平面,可以設(shè)置于與平面PL1以及PL2都不同的平面。

調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3各自的不平衡的調(diào)整的方法可以為正平衡調(diào)整,可以為負平衡調(diào)整,也可以為正平衡調(diào)整與負平衡調(diào)整的組合。作為調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3各處的不平衡的調(diào)整的方法,能夠采取適于各個調(diào)整位置的方法。在進行負平衡調(diào)整的情況下,削除轉(zhuǎn)子10的一部分即可。并且,除了調(diào)整位置BP1、BP2、以及BP3之外,也可以在其它調(diào)整位置進行不平衡的調(diào)整。

本發(fā)明的成為修正對象的轉(zhuǎn)子除了為多面鏡掃描儀馬達的轉(zhuǎn)子的情況之外,也可以是風扇馬達的葉輪等的外轉(zhuǎn)子型馬達的轉(zhuǎn)子。另外,也可以是內(nèi)轉(zhuǎn)子型馬達、面對置馬達的轉(zhuǎn)子。

應該認為上述實施方式的全部內(nèi)容僅為例示而并非用于限制。本發(fā)明的范圍并非上述說明而是由權(quán)利要求書示出,應該包括在與權(quán)利要求書均等的意義和范圍內(nèi)的所有改變。

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