專(zhuān)利名稱(chēng)：物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和使用該裝置的盤(pán)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及為了對(duì)記錄在光盤(pán)記錄面上的信息進(jìn)行再現(xiàn)或信息 記錄而在聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動(dòng)物鏡，使物鏡的焦點(diǎn)位置與盤(pán) 記錄面上的目標(biāo)軌道重合的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和使用該裝置的盤(pán)裝置。
背景技術(shù)：
在盤(pán)狀的信息記錄介質(zhì)上記錄信息，或者將所記錄的信息進(jìn)行再 現(xiàn)的盤(pán)裝置中，通過(guò)使光盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)來(lái)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)傳輸速度的提高。 為了跟蹤光盤(pán)上的軌道而正確地記錄或再現(xiàn)信息，在盤(pán)裝置上安裝 有沿聚焦方向和跟蹤方向驅(qū)動(dòng)物鏡的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
一般的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置由磁路、可動(dòng)部、固定部以及支撐部件構(gòu)成， 其中，磁^^由磁軛和永久磁鐵構(gòu)成，可動(dòng)部上安裝了物鏡和驅(qū)動(dòng)線(xiàn) 圏，固定部保持該可動(dòng)部，支撐部件與固定部連接且彈性支持可動(dòng) 部。在由磁輒和永久磁鐵構(gòu)成的磁路所產(chǎn)生的磁場(chǎng)中，當(dāng)聚焦線(xiàn)圏 上流過(guò)電流時(shí)，產(chǎn)生電磁力，可動(dòng)部在聚焦方向上被驅(qū)動(dòng)。同樣地， 在由磁軛和永久磁鐵構(gòu)成的磁路所產(chǎn)生的磁場(chǎng)中，當(dāng)跟蹤線(xiàn)圏流過(guò) 電流時(shí)，產(chǎn)生電》茲力，可動(dòng)部在^J宗方向上^^皮驅(qū)動(dòng)。
針對(duì)這樣的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，主要要求以下三個(gè)特性。首先，為了 抑制盤(pán)面振動(dòng)、偏心等外界干擾而引起的偏差而實(shí)現(xiàn)高精度的定位 控制，要提高驅(qū)動(dòng)靈敏度。其次，為了配合光盤(pán)轉(zhuǎn)數(shù)的高速化而提 高控制頻帶，要減小可動(dòng)部的彈性變形模式即高次共振頻率的振幅。 而且，為了抑制成為信號(hào)劣化原因的像差來(lái)應(yīng)對(duì)高密度化，要減小 動(dòng)作時(shí)的物鏡的傾斜。
其中，關(guān)于驅(qū)動(dòng)靈敏度，已知有如下的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，由沿著跟 蹤方向的中央寬度較寬的第 一 磁極和夾著該第 一 磁極的兩側(cè)的第二磁極構(gòu)成磁鐵，多個(gè)跟蹤線(xiàn)圏的內(nèi)側(cè)和外側(cè)的兩邊分別與第 一磁極 和第二磁極相對(duì)配置， 一個(gè)聚焦線(xiàn)圏沿著可動(dòng)部的周側(cè)面被纏繞， 磁鐵的磁極的邊界部配置在磁輒的兩側(cè)邊緣的外側(cè)(如下述專(zhuān)利文 獻(xiàn)1所示的例子)。由此，在聚焦方向上，能夠增加橫穿聚焦線(xiàn)圈 的磁力線(xiàn)的數(shù)量，另外在跟蹤方向上，能夠在各跟蹤線(xiàn)圏的內(nèi)側(cè)和 外側(cè)的兩邊產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，所以視為實(shí)現(xiàn)驅(qū)動(dòng)靈敏度的提高。日本特開(kāi)2005-38496號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求1，圖2)
發(fā)明內(nèi)容
關(guān)于物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的高次共振，有透鏡支撐件的彎曲振動(dòng)。如上 述現(xiàn)有技術(shù)中那樣在增加內(nèi)側(cè)磁鐵的寬度、縮窄兩外側(cè)的磁鐵寬度 的磁路中，當(dāng)透鏡支撐件上發(fā)生彎曲振動(dòng)時(shí)，由于在振動(dòng)的中央作 用聚焦方向的主電磁力，因此有可能通過(guò)激勵(lì)振動(dòng)而使得振幅變大。
本發(fā)明的目的在于提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該裝置對(duì)于透鏡支撐 件的彎曲振動(dòng)能抑制物鏡的振動(dòng)幅度，進(jìn)而對(duì)于動(dòng)作傾斜能抑制透 鏡的傾斜，并且能實(shí)現(xiàn)對(duì)盤(pán)的信息記錄的高密度化和高速化。
上述目的通過(guò)如下裝置得以實(shí)現(xiàn)， 一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，包括物 鏡支撐部件，其用于安裝物鏡； 一個(gè)聚焦線(xiàn)圏，其圍著上述物鏡并 沿著上述物鏡支撐部件的側(cè)面而巻繞；以及三塊磁鐵，其分別相對(duì)
個(gè)方向垂直的方向上具有法線(xiàn)的兩個(gè)面而配置，其特征在于，上述 三塊磁鐵沿著跟蹤方向其極性互不相同而連續(xù)排列，且上述三塊磁 鐵中的位于外側(cè)的兩塊磁鐵的寬度大于上述三塊磁鐵中的位于內(nèi)側(cè) 的磁鐵的寬度。
另外，上述目的通過(guò)如下而實(shí)現(xiàn)，在上述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，上述 三塊磁鐵中的位于外側(cè)的兩塊磁鐵的寬度為上述三塊磁鐵中的位于 內(nèi)側(cè)的磁鐵的寬度的1.3倍以上4.3倍以下。
另外，上述目的通過(guò)如下而實(shí)現(xiàn)， 一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，包括物 鏡支撐部件，其用于安裝物鏡； 一個(gè)聚焦線(xiàn)圏，其圍著上述物鏡并
5沿著上述物鏡支撐部件的側(cè)面而巻繞；以及三塊磁鐵，其分別相對(duì) 于上述物鏡支撐部件的四個(gè)側(cè)面中的在與聚焦方向和跟蹤方向這兩 個(gè)方向垂直的方向上具有法線(xiàn)的兩個(gè)面而配置，其特征在于，上述 磁鐵沿著跟蹤方向而被磁化為三極，上述三極之中位于外側(cè)的兩極
的寬度大于上述三極之中位于內(nèi)側(cè)的一極的寬度。
另外，上述目的通過(guò)如下而實(shí)現(xiàn)，在上述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，上述 三極之中位于外側(cè)的兩個(gè)磁極的寬度為上述三極之中位于內(nèi)側(cè)的磁 極的寬度的1.3倍以上4.3倍以下。
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其對(duì)于透鏡支撐件的 彎曲振動(dòng)能抑制物鏡的振動(dòng)幅度，進(jìn)而對(duì)于動(dòng)作傾斜能抑制透鏡的 傾斜，并且能夠提供一種可實(shí)現(xiàn)對(duì)盤(pán)的信息記錄的高密度化和高速 化的盤(pán)裝置。
圖1是表示本發(fā)明一實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的立體圖。 圖2是透鏡支撐件的彎曲模式的變形圖。
圖3是本發(fā)明一實(shí)施例的物鏡的聚焦方向位移的頻率響應(yīng)線(xiàn)圖。 圖4是本發(fā)明一實(shí)施例的聚焦線(xiàn)圏和永久磁鐵的俯視圖。 圖5是表示本發(fā)明一實(shí)施例的效果的曲線(xiàn)圖。 圖6是本發(fā)明一實(shí)施例的可動(dòng)部向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)的、聚焦方向 的電磁力的作用點(diǎn)和旋轉(zhuǎn)力矩的說(shuō)明圖。
圖7是本發(fā)明 一 實(shí)施例的聚焦線(xiàn)圈和永久磁鐵的俯視圖。 圖8是本發(fā)明的安裝了物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的光學(xué)頭的立體圖。 圖9是本發(fā)明的安裝了物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的盤(pán)裝置的框圖。
標(biāo)號(hào)說(shuō)明
1盤(pán)裝置；2轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)；3盤(pán)；4進(jìn)給電動(dòng)機(jī)；5主軸電動(dòng)機(jī)； 6機(jī)械單元；7光學(xué)頭；8 PC; 9 CPU; 10進(jìn)給電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電3各； 11接口； 12信號(hào)處理電路；13高頻放大器；14物鏡驅(qū)動(dòng)電路；
615主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路；71激光二極管；72光檢測(cè)器；
73物鏡驅(qū)動(dòng)裝置；74激光驅(qū)動(dòng)電路；75撓性布線(xiàn)基板；
76光學(xué)元件；731物鏡；732透鏡支撐件；733固定部；
734支撐部件；735磁軛；736c、 736p、 736s磁鐵；
737跟蹤線(xiàn)圈；738聚焦線(xiàn)圈；
A透鏡支撐件的彎曲振動(dòng)引起的物鏡的振幅增加量；
F在由外側(cè)磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)中聚焦線(xiàn)圈上流過(guò)電流時(shí)在聚焦線(xiàn)
圏上作用的電磁力
f在由內(nèi)側(cè)磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)中聚焦線(xiàn)圏上流過(guò)電流時(shí)在聚焦線(xiàn)圏
上作用而產(chǎn)生的電磁力
M F利用在由外側(cè)磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)中聚焦線(xiàn)圈上流過(guò)電流時(shí)在聚
焦線(xiàn)圈上作用的電磁力使可動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的力矩的不平衡
Mf利用在由內(nèi)側(cè)磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)中聚焦線(xiàn)圈上流過(guò)電流時(shí)在聚
焦線(xiàn)圏上作用的電磁力使可動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的力矩
Lp外側(cè)磁鐵的跟蹤方向的寬度；Lc內(nèi)側(cè)磁鐵的跟蹤方向的寬度；
lp外側(cè)磁極的跟蹤方向的寬度；lc內(nèi)側(cè)磁極的跟蹤方向的寬度；
C. 0. G.可動(dòng)部的重心;
Loop透鏡支撐件的彎曲振動(dòng)的模式的波腹；
Node透鏡支撐件的彎曲振動(dòng)的模式的波節(jié)。
具體實(shí)施例方式
以下，參照
用于實(shí)施本發(fā)明的最佳實(shí)施方式。 [實(shí)施例1]
圖1是本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73的立體圖。
圖1中，x軸方向表示未圖示的光盤(pán)的切線(xiàn)方向，y軸方向表示 光盤(pán)的半徑方向即跟蹤方向，z軸方向表示物鏡731的光軸方向即聚 焦方向。另外在圖1中，將相對(duì)于物鏡2靠近未圖示的光盤(pán)方向定 義為上，將遠(yuǎn)離的方向定義為下。物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73由安裝了物鏡731 的可動(dòng)部、保持該可動(dòng)部的固定部733、與固定部733連4妄且彈性支撐可動(dòng)部的支撐部件734以及》茲路構(gòu)成，其中，該/磁路由》茲軛735、 磁鐵736p、 736c構(gòu)成。
線(xiàn)狀的支撐部件734,其一端被固定在固定部733的端面附近， 其另一端使用軟釬焊等被固定在透鏡支撐件732的兩端上設(shè)置的突 部。物鏡731被安裝在透鏡支撐件732的上表面。另外，在透鏡支 撐件732的夾著物鏡732的x方向的兩個(gè)側(cè)面上整面安裝有未圖示 的跟蹤線(xiàn)圏，進(jìn)而聚焦線(xiàn)圏738沿著透鏡支撐件732的側(cè)面而被纏 繞。在這里，物鏡731、透鏡支撐件732、跟蹤線(xiàn)圏737以及聚焦線(xiàn) 圏738成為可動(dòng)部。也即是，該可動(dòng)部相對(duì)于固定部733移動(dòng)。
在這樣的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，透鏡支撐件732是下表面敞開(kāi)的長(zhǎng) 方體的箱狀。這種透鏡支撐件732的彎曲振動(dòng)是透鏡支撐件如圖2 虛線(xiàn)所示那樣發(fā)生彈性變形的振動(dòng)模式，在可動(dòng)部的聚焦線(xiàn)圈上產(chǎn) 生電磁力時(shí)容易被激勵(lì)。圖3表示在聚焦線(xiàn)圈738上產(chǎn)生電磁力時(shí) 的物鏡731的聚焦方向位移的頻率響應(yīng)線(xiàn)圖。在圖中，符號(hào)A表示 透鏡支撐件732的彎曲振動(dòng)引起的物鏡731的振幅增加量。該彎曲 振動(dòng)引起的物鏡731的振幅增加量A被表現(xiàn)為計(jì)算物鏡731的彎曲 振動(dòng)的模式成分、聚焦線(xiàn)圏738的電磁力以及在該作用點(diǎn)的彎曲振 動(dòng)的模式的成分之積，并且將這些(電磁力的作用點(diǎn)的數(shù)量)相加 的形式。因此，為了減小該彎曲振動(dòng)引起的物鏡731的振幅增加量A， 只要聚焦線(xiàn)圏738上作用的主電磁力的作用點(diǎn)與振動(dòng)的波節(jié)一致即 可。
針對(duì)上述主旨，本實(shí)施例的特征如圖4所示，將三塊磁鐵沿著 跟蹤方向即y方向以極性互不相同的方式連續(xù)排列，該三塊;茲鐵中 的兩外側(cè)的磁鐵736p的寬度Lp比內(nèi)側(cè)的磁鐵736c的寬度Lc寬。 此時(shí)，當(dāng)聚焦線(xiàn)圏738上流過(guò)電流時(shí)，在聚焦線(xiàn)圈738上產(chǎn)生的電 磁力除了具有在分別與兩外側(cè)的寬度較寬的磁鐵736p相對(duì)的位置上 作用的z方向的正成分F以外，還具有在與內(nèi)側(cè)的寬度較窄的磁鐵 736c相對(duì)的位置上作用的z方向的負(fù)的成分f。在磁鐵的磁束密度相 同的情況下，與寬度較寬的磁鐵相對(duì)的位置的電磁力變大。所以，在本實(shí)施例的情況下，兩外側(cè)的兩個(gè)電》茲力F比內(nèi)側(cè)的z方向的負(fù) 的成分f大，該兩外側(cè)的兩個(gè)電磁力F成為用于沿聚焦方向驅(qū)動(dòng)可 動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)力。
這樣，在聚焦線(xiàn)圈738的兩外側(cè)的位置上作用聚焦方向的主電 磁力，減小在內(nèi)側(cè)的位置上作用的聚焦方向的電磁力。這樣的效果 如圖5所示。圖5是通過(guò)使磁鐵736p的跟蹤方向的寬度Lp與磁鐵 736c的跟蹤方向的寬度Lc之比發(fā)生變化來(lái)計(jì)算彎曲振動(dòng)引起的物 鏡731的振動(dòng)增加量A的結(jié)果。即，橫軸的值比1大的范圍相當(dāng)于 本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)。圖中一并表示出相對(duì)于在高次共振頻率的振幅增 加量A的上限值A(chǔ)lim.。
上限值A(chǔ)lim.是起因于為了提高控制頻帶而需要將在高次共振頻 率的振幅抑制到10kHz的振幅以下的值。如圖示那樣，Lp和Lc的 比值比1大的情況與Lp和Lc的比值比1小的情況相比，能夠減小 彎曲振動(dòng)引起的物鏡731的振動(dòng)增加量A。進(jìn)而，Lp和Lc的比值在 大約為2時(shí)，能夠使聚焦線(xiàn)圈738上作用的主電磁力F的作用點(diǎn)與 彎曲振動(dòng)的波節(jié)的位置一致，能夠使彎曲振動(dòng)引起的物鏡731的振 幅增加量A大致為0。在這里，振幅增加量A不超過(guò)上限值A(chǔ)lim. 的范圍為L(zhǎng)p和Lc的比值在1.3到4.3之間。
接著，說(shuō)明作為本發(fā)明另一效果的動(dòng)作傾斜的降低。圖6表示 本實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73的可動(dòng)部在從中立狀態(tài)沿y方向動(dòng)作了 Ay后的狀態(tài)下，在聚焦線(xiàn)圏738上流過(guò)電流時(shí)，聚焦線(xiàn)圈738上產(chǎn) 生的z方向的電磁力。如圖示那樣，當(dāng)使物鏡731沿y方向動(dòng)作Ay 時(shí)，可動(dòng)部的重心C. 0. G.從由磁鐵736c、磁鐵736p以及》茲軛735 構(gòu)成的磁路的中心位置發(fā)生偏移。在該狀態(tài)下，當(dāng)在聚焦線(xiàn)圈738 上流過(guò)電流時(shí)，在聚焦線(xiàn)圈738上產(chǎn)生的電磁力也非對(duì)稱(chēng)地作用于 可動(dòng)部的重心C. 0. G.。
但是，在本實(shí)施例中，除了分別在與聚焦線(xiàn)圏738兩外側(cè)的寬 度較寬的磁鐵736p相對(duì)的位置上作用的z方向的正的成分F之外， 還在與內(nèi)側(cè)的寬度較窄的磁鐵736c相對(duì)的位置上作用z方向的負(fù)的成分f。因此，由作用在聚焦線(xiàn)圈738內(nèi)側(cè)的z方向的副電磁力f產(chǎn) 生的旋轉(zhuǎn)力矩Mf抵消了由作用在聚焦線(xiàn)圈738兩外側(cè)的z方向的正 的主電磁力F產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)力矩的不平衡的MF，所以幾乎不會(huì)產(chǎn)生使 可動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的力矩。這樣，根據(jù)本實(shí)施例的特征，即使在物鏡工作
的情況下，也能降低聚焦線(xiàn)圏738上產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)力矩，所以還能減 小物4竟731的傾斜。
另外，在本實(shí)施例中，如圖4所示，三塊》茲鐵736c、 736b沿著 跟蹤方向以極性互不相同的方式連續(xù)排列，該三塊磁鐵之中兩外側(cè) 的磁鐵736p的寬度Lp比內(nèi)側(cè)的磁鐵736c的寬度Lc寬，但即使如 圖7所示那樣一塊磁鐵736s沿著跟蹤方向三極被磁化，三個(gè)極性之 中的兩外側(cè)的磁極的寬度lp比內(nèi)側(cè)的磁極的寬度lc寬，也能取得同 樣的效果。
圖8是應(yīng)用了本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73的光學(xué)頭7的立體圖。 光學(xué)頭7是在盤(pán)上記錄或者再現(xiàn)信息的裝置，主要由物鏡驅(qū)動(dòng)裝置 73、光學(xué)系統(tǒng)以及撓性布線(xiàn)基板75這三個(gè)要素構(gòu)成。光學(xué)系統(tǒng)由成 為光源的激光二極管71 、用于使出射光會(huì)聚到盤(pán)的記錄面上的物鏡、 用于生成/檢測(cè)控制用的誤差信號(hào)的光學(xué)元件、將來(lái)自盤(pán)的反射光的 變化轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的光檢測(cè)器72等構(gòu)成。撓性布線(xiàn)基板75通過(guò)多 條布線(xiàn)圖案將物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73和光學(xué)系統(tǒng)與控制電路和信號(hào)處理電 路電連接。如本實(shí)施例那樣，通過(guò)安裝本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73， 光學(xué)頭7在可動(dòng)部的寬度較寬的動(dòng)作范圍甚至在較高的頻率區(qū)域都 能得到良好的光學(xué)特性和信號(hào)特性。
圖9是應(yīng)用了本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置73的盤(pán)裝置1的框圖。盤(pán) 裝置1由機(jī)械單元(unit maker) 6和控制電路構(gòu)成，通過(guò)接口 11與 PC8等互相通信。機(jī)械單元6由主軸電動(dòng)機(jī)5、光學(xué)頭7、進(jìn)給電動(dòng) 機(jī)4、以及機(jī)械底盤(pán)(maker chassis )構(gòu)成，是用于精度較高地保持 光學(xué)頭7和盤(pán)3的距離、角度的機(jī)構(gòu)。控制電路主要由CPU16、ROM以及RAM構(gòu)成，根據(jù)從光檢測(cè)器72和主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路15輸出的 信號(hào)進(jìn)行各部分的控制。
首先，說(shuō)明機(jī)械單元6的構(gòu)成部件。主軸電動(dòng)機(jī)5是用于使盤(pán)3 旋轉(zhuǎn)的電動(dòng)機(jī)，為減少盤(pán)3的盤(pán)面晃動(dòng)或偏心而設(shè)置有載置盤(pán)3的 轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)2。進(jìn)給電動(dòng)機(jī)4是用于沿著成為基準(zhǔn)的導(dǎo)向桿(guide bar) 使該光學(xué)頭7移動(dòng)到盤(pán)3的半徑方向的預(yù)定位置的電動(dòng)機(jī)。機(jī)械底 盤(pán)保持上述部件，并通過(guò)由彈性體構(gòu)成的絕緣體而被安裝在盤(pán)裝置1 的主體上。接著，說(shuō)明控制電路。物鏡驅(qū)動(dòng)電路14在記錄/再現(xiàn)信息 時(shí)，接收與來(lái)自該光檢測(cè)器72的受光信號(hào)相對(duì)應(yīng)的聚焦錯(cuò)誤信號(hào)和 跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)，控制向聚焦線(xiàn)圏738和跟蹤線(xiàn)圏737輸出的電流。
進(jìn)給電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路10根據(jù)上述信號(hào)進(jìn)行光學(xué)頭7的進(jìn)給控 制，控制成光學(xué)頭7始終位于適當(dāng)?shù)奈恢?。主軸電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路15 進(jìn)行主軸電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)控制。激光驅(qū)動(dòng)電路74將信息作為激光的照 射圖案而接收，控制激光二極管71照射的激光的功率。該盤(pán)裝置使 用安裝了本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的光學(xué)頭7,因此能高速進(jìn)行對(duì)高密 度盤(pán)的信息記錄或者盤(pán)3的信息再現(xiàn)。
關(guān)于物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的高次共振，即使在透鏡支撐件發(fā)生彎曲振 動(dòng)的情況下，聚焦方向的主電磁力作用于振動(dòng)的波節(jié)的附近，因而 振動(dòng)被潛化。因此，能減小物鏡振動(dòng)的振幅。
進(jìn)而，關(guān)于動(dòng)作傾斜，即使在可動(dòng)部動(dòng)作的情況下，作用在聚 焦線(xiàn)圏上的三個(gè)電磁力之中的、作用在聚焦線(xiàn)圏兩外側(cè)的主電磁力 所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)力矩的不平衡由作用在聚焦線(xiàn)圏內(nèi)側(cè)的副電磁力所產(chǎn) 生的力矩所抵消，因此作用在聚焦線(xiàn)圏整體上的旋轉(zhuǎn)力矩變小。因 此，能提供一種物鏡的傾斜小的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，能提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，對(duì)于物鏡 支撐件的彎曲振動(dòng)，能抑制物鏡的位置上的振幅，進(jìn)而對(duì)于動(dòng)作傾 斜，能抑制物鏡的傾斜，而且在使用該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的盤(pán)裝置中， 能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)盤(pán)進(jìn)行信息記錄的高密度化和高速化。
權(quán)利要求
1.一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其包括物鏡支撐部件，其用于安裝物鏡；一個(gè)聚焦線(xiàn)圈，其圍著上述物鏡并沿著上述物鏡支撐部件的側(cè)面而卷繞；以及三塊磁鐵，其分別相對(duì)于上述物鏡支撐部件的四個(gè)側(cè)面中的在與聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向垂直的方向上具有法線(xiàn)的兩個(gè)面而配置，其特征在于，上述三塊磁鐵沿著跟蹤方向其極性互不相同而連續(xù)排列，且上述三塊磁鐵中的位于外側(cè)的兩塊磁鐵的寬度大于上述三塊磁鐵中的位于內(nèi)側(cè)的磁鐵的寬度。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，上述三塊磁鐵中的位于外側(cè)的兩塊磁鐵的寬度為上述三塊磁鐵 中的位于內(nèi)側(cè)的磁鐵的寬度的1.3倍以上4.3倍以下。
3. —種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其包括 物鏡支撐部件，其用于安裝物鏡；一個(gè)聚焦線(xiàn)圏，其圍著上述物鏡并沿著上述物鏡支撐部件的側(cè)面 而巻繞；以及三塊磁鐵，其分別相對(duì)于上述物鏡支撐部件的四個(gè)側(cè)面中的在與 聚焦方向和跟蹤方向這兩個(gè)方向垂直的方向上具有法線(xiàn)的兩個(gè)面而 配置，其特征在于，上述磁鐵沿著跟蹤方向而被磁化為三極，上述三極之中位于外側(cè) 的兩極的寬度大于上述三極之中位于內(nèi)側(cè)的 一極的寬度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 上述三極之中位于外側(cè)的兩個(gè)磁極的寬度為上述三極之中位于內(nèi)側(cè)的i茲極的寬度的1.3倍以上4.3倍以下。
5. —種盤(pán)裝置，其特征在于，其使用了權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和使用該裝置的盤(pán)裝置。該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置沿跟蹤方向交替地連續(xù)配置三塊極性互不相同的磁鐵，使該三塊磁鐵之中的兩外側(cè)的磁鐵的寬度比內(nèi)側(cè)的磁鐵的寬度寬。由此，對(duì)于透鏡支撐件的彎曲振動(dòng)能抑制物鏡的振動(dòng)幅度，對(duì)于動(dòng)作傾斜能抑制透鏡的傾斜，并且在使用該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，能實(shí)現(xiàn)對(duì)盤(pán)的信息記錄的高密度化和高速化。
文檔編號(hào)H02K33/18GK101676759SQ200910168448
公開(kāi)日2010年3月24日 申請(qǐng)日期2009年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月16日
發(fā)明者山口高廣, 木村勝?gòu)? 越智學(xué) 申請(qǐng)人:日立視聽(tīng)媒體股份有限公司