節(jié)裝置以及安裝在所述X軸調節(jié)裝置上的離子源裝置；
[0039]所述Y軸調節(jié)裝置包括Y軸底座3、Y軸導向部件5、Y軸調節(jié)部件2，所述Y軸底座3與所述Y軸導向部件5滑動聯(lián)接安裝且一側與所述Y軸調節(jié)部件2相聯(lián)；
[0040]所述Z軸調節(jié)裝置包括Z軸底座6、Z軸導向部件、Z軸調節(jié)部件1，所述Z軸底座6與所述Z軸導向部件滑動聯(lián)接安裝且一側與所述Z軸調節(jié)部件I相聯(lián)，所述Z軸導向部件與所述Y軸底座3聯(lián)接；
[0041]所述X軸調節(jié)裝置包括X軸基座、X軸升降滑槽部件15、離子源X軸斜滑槽部件13，所述X軸基座為一內有腔室結構且通過底部安裝在所述Z軸底座6上，所述X軸升降滑槽部件15為外壁具有沿外壁具縱向升降的滑槽17的圓筒結構，所述離子源X軸斜滑槽部件13為外壁具有圍繞外壁形成沿外壁縱向升降的斜滑槽18的圓筒結構，所述X軸升降滑槽部件15安裝在所述離子源X軸斜滑槽部件13內部，所述X軸升降滑槽部件15安裝在所述X軸基座的頂部，所述離子源裝置安裝在所述X軸升降滑槽部件內15并具有穿過所述滑槽17并至所述斜滑槽18的與自身固定聯(lián)接的固定部件12。
[0042]根據本實用新型的一些實施例，所述Y軸調節(jié)部件2與所述Y軸底座3的一端通過聯(lián)接機構固定聯(lián)接。
[0043]通過聯(lián)接結構進行固定聯(lián)接，可以方便的使用所述Y軸調節(jié)部件對所述Y軸底座進行位置調節(jié)，安裝更加簡便，成本更低。可使用一般的聯(lián)結器件，如聯(lián)結頭等。
[0044]可選地，所述Y軸底座3的一端與所述Y軸調節(jié)部件2聯(lián)接，另一端安裝有彈性裝置4，當所述Y軸調節(jié)部件2推動所述Y軸底座3到一定位置，彈性部件4受到擠壓，當回退所述Y軸調節(jié)部件2時，在彈性部件4的回彈作用下，所述Y軸底座3復位。
[0045]根據本實用新型的一個實施例，如圖1所示，彈性裝置4為彈簧安裝Y軸導向部件5上。
[0046]根據本實用新型的一些實施例，所述Z軸調節(jié)部件I與所述Z軸底座6的一端通過聯(lián)接機構固定聯(lián)接，具體如Y軸調節(jié)裝置的結構。
[0047]通過聯(lián)接結構進行固定聯(lián)接，可以方便的使用所述Z軸調節(jié)部件I對所述Z軸底座6進行位置調節(jié)，安裝更加簡便，成本更低。
[0048]可選地，所述Z軸底座6的一端與所述Z軸調節(jié)部件I聯(lián)接，另一端安裝有彈性裝置，當所述Z軸調節(jié)部件I推動所述Z軸底座6到一定位置，彈性部件受到擠壓，當回退所述Z軸調節(jié)部件I時，在彈性部件的回彈作用下，所述Z軸底座6復位。
[0049]根據本實用新型的一個實施例，所述彈性部件為彈簧。
[0050]根據本實用新型的一個實施例，所述Y軸調節(jié)部件2或所述Z軸調節(jié)部件I為螺旋測微器，如此可以更加精準的對位置進行測量和調節(jié)。
[0051]根據本實用新型的一些實施例，所述離子源裝置還包括固定套管11，所述離子源裝置固定安裝在所述固定套管11上，所述固定套管11安裝在所述X軸升降滑槽部件15內偵U，所述固定部件12安裝在所述固定套管11上。
[0052]分體式設計可以避免所述離子源裝置中的離子源部件設計簡化，也可以進一步降低成本。
[0053]根據本實用新型的一些實施例，安裝在所述固定套管11上的所述固定部件12穿過所述X軸升降滑槽部件15上的所述滑槽17并插入在所述離子源X軸斜滑槽部件13上的所述斜滑槽18。
[0054]所述X軸升降滑槽部件15可以是固定聯(lián)接也可以是只可做圓周運動的聯(lián)接，固定聯(lián)接時，通過旋轉所述離子源X軸斜滑槽部件13可使得所述固定部件12帶動所述離子源裝置沿著所述滑槽17進行相應位移，調節(jié)更加易控和易測量；如果是非固定聯(lián)接，依然可以進行位置調節(jié)，但運動軌跡則更加復雜，并不直觀。
[0055]根據本實用新型的一些實施例，所述Y軸導向部件5或所述Z軸導向部件為雙導軌導向裝置或單導軌導向裝置和導向壁的結合。
[0056]根據本實用新型的一些實施例，所述X軸調節(jié)裝置還包括離子源X軸調節(jié)外旋鈕14，所述離子源X軸調節(jié)外旋鈕14上安裝有大于等于I個的緊定螺釘16。
[0057]更進一步地，所述離子源X軸調節(jié)外旋鈕14外壁具有紋路或具有粗糙表面或具有可人手握持的各種結構，以方便操作。
[0058]盡管參照本實用新型的多個示意性實施例對本實用新型的【具體實施方式】進行了詳細的描述，但是必須理解，本領域技術人員可以設計出多種其他的改進和實施例，這些改進和實施例將落在本實用新型原理的精神和范圍之內。具體而言，在前述公開、附圖以及權利要求的范圍之內，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進，而不會脫離本實用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進，其范圍由所附權利要求及其等同物限定。
【主權項】
1.一種離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，包括: Y軸調節(jié)裝置、安裝在所述Y軸調節(jié)裝置上的Z軸調節(jié)裝置、傾斜安裝在所述Z軸調節(jié)裝置上的X軸調節(jié)裝置以及安裝在所述X軸調節(jié)裝置上的離子源裝置； 所述Y軸調節(jié)裝置包括Y軸底座、Y軸導向部件、Y軸調節(jié)部件，所述Y軸底座與所述Y軸導向部件滑動聯(lián)接安裝且一側與所述Y軸調節(jié)部件相聯(lián)； 所述Z軸調節(jié)裝置包括Z軸底座、Z軸導向部件、Z軸調節(jié)部件，所述Z軸底座與所述Z軸導向部件滑動聯(lián)接安裝且一側與所述Z軸調節(jié)部件相聯(lián)，所述Z軸導向部件與所述Y軸底座聯(lián)接； 所述X軸調節(jié)裝置包括X軸基座、X軸升降滑槽部件、離子源X軸斜滑槽部件，所述X軸基座為一內有腔室結構且通過底部安裝在所述Z軸底座上，所述X軸升降滑槽部件為外壁具有沿外壁具縱向升降的滑槽的圓筒結構，所述離子源X軸斜滑槽部件為外壁具有圍繞外壁形成沿外壁縱向升降的斜滑槽的圓筒結構，所述X軸升降滑槽部件安裝在所述離子源X軸斜滑槽部件內部，所述X軸升降滑槽部件安裝在所述X軸基座的頂部，所述離子源裝置安裝在所述X軸升降滑槽部件內并具有穿過所述滑槽并至所述斜滑槽的與自身固定聯(lián)接的固定部件。
2.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述Y軸調節(jié)部件與所述Y軸底座的一端通過聯(lián)接機構固定聯(lián)接。
3.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述Y軸底座的一端與所述Y軸調節(jié)部件聯(lián)接，另一端安裝有彈性裝置。
4.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述Z軸調節(jié)部件與所述Z軸底座的一端通過聯(lián)接機構固定聯(lián)接。
5.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述Z軸底座的一端與所述Z軸調節(jié)部件聯(lián)接，另一端安裝有彈性裝置。
6.根據權利要求3或5中所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述彈性部件為彈黃。
7.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述離子源裝置還包括固定套管，所述離子源裝置固定安裝在所述固定套管上，所述固定套管安裝在所述X軸升降滑槽部件內側，所述固定部件安裝在所述固定套管上。
8.根據權利要求7所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，安裝在所述固定套管上的所述固定部件穿過所述X軸升降滑槽部件上的所述滑槽并插入在所述離子源X軸斜滑槽部件上的所述斜滑槽。
9.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述Y軸導向部件或所述Z軸導向部件為雙導軌導向裝置或單導軌導向裝置和導向壁的結合。
10.根據權利要求1所述的離子源三維聯(lián)動機構，其特征在于，所述X軸調節(jié)裝置還包括離子源X軸調節(jié)外旋鈕，所述離子源X軸調節(jié)外旋鈕上安裝有大于等于I個的緊定螺釘。
【專利摘要】本實用新型公開了一種離子源三維聯(lián)動機構，包括：Y軸調節(jié)裝置、安裝在所述Y軸調節(jié)裝置上的Z軸調節(jié)裝置、傾斜安裝在所述Z軸調節(jié)裝置上的X軸調節(jié)裝置以及安裝在所述X軸調節(jié)裝置上的離子源裝置；所述X軸調節(jié)裝置包括X軸基座、X軸升降滑槽部件、離子源X軸斜滑槽部件，通過安裝在所述X軸升降滑槽部件內的離子源裝置上的固定部件穿過滑槽并至斜滑槽并隨著斜滑槽圍繞離子源X軸斜滑槽部件中心的轉動，帶動離子源裝置的運動。本實用新型可以通過調節(jié)Y軸調節(jié)裝置、Z軸調節(jié)裝置以及X軸調節(jié)裝置來調節(jié)離子源與錐口的相對位置，達到使數(shù)量更多的離子化效果更理想的離子進入錐口的目的，以獲得更強的信號。
【IPC分類】H01J49-04, H01J49-10
【公開號】CN204391041
【申請?zhí)枴緾N201520112688
【發(fā)明人】應剛, 張軼鳴, 謝文沛, 周立
【申請人】江蘇天瑞儀器股份有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請日】2015年2月16日