結果的處理方案，變更在第二處理單元MPC的基板處理條件。也就是說，對無論是怎樣的檢查結果，基板W都由第二處理單元MPC處理的情況進行了說明。但是，也可以不進行處理方案的替換，利用起初指定的處理方案處理基板W。另夕卜，第二控制裝置24也可以基于第一檢查單元9的檢查結果(從主計算機HC發(fā)送來的檢查信息)，以基板W避開第二處理單元MPC從中間裝置3搬送到第二加載口 LP2的方式作成第二計劃。
[0197]具體地說，第二控制裝置24以經(jīng)由直接搬入口25a搬入第二基板處理裝置4的基板W由第二搬送單元(第二分度器機械手IR2、第二中央機械手CR2、臨時保持單元27)避開多個第二處理單元MPC從第二基板處理裝置4的外部搬送到第二加載口 LP2的方式作成第二計劃，使第二基板處理裝置4的資源執(zhí)行所作成的第二計劃?；蛘?，第二控制裝置24以經(jīng)由直接搬入口 25a向第二基板處理裝置4的基板W由第二分度器機械手IR2從中間裝置3搬送到退避單元29的方式作成第二計劃，使第二基板處理裝置4的資源執(zhí)行所作成的第二計劃。
[0198]另外，在前述的實施方式中，對第一檢查單元9測定在處理后的基板W(干蝕刻后的基板W)的表面形成的圖案的線寬的情況進行了說明，也可以由第一檢查單元9進行線寬的測定以外的檢查。例如在第一基板處理裝置2為成膜裝置的情況下，可以由第一檢查單元9測定在第一基板處理裝置2形成的薄膜的厚度。
[0199]另外，在前述的實施方式中，對檢測基板W的品質的檢查單元(第一檢查單元9)設置在第一基板處理裝置2的情況進行了說明，但是檢查單元也可以設置在中間裝置3。另外，第一檢查單元9也可以從基板處理系統(tǒng)1省略。
[0200]另外，在前述的實施方式中，對第一檢查單元9檢查由第一基板處理裝置2處理的所有的基板W的情況進行了說明，但是，也可以利用第一檢查單元9僅對由第一基板處理裝置2處理的一部分的基板W進行檢查。
[0201]另外，在前述的實施方式中，對第一基板處理裝置2、中間裝置3、以及第二基板處理裝置4依次沿水平的運送器C的排列方向D1排列的情況進行了說明，但是，也可以在與運送器C的排列方向D1垂直的水平的垂直方向D2依次排列第一基板處理裝置2、中間裝置3、以及第二基板處理裝置4。
[0202]另外，在前述的實施方式中，對退避單元29的退避箱32具有在第二分度器機械手IR2側打開的開口和在第二中央機械手CR2側打開的開口的情況進行了說明，但是也可以以第二分度器機械手IR2以及第二中央機械手CR2中的僅一方僅訪問退避單元29內的方式而省略2個開口中的一個。即，退避箱32構成為，第二分度器機械手IR2以及第二中央機械手CR2中的至少一個手部Η能夠進入退避箱32的內部即可。
[0203]另外，在前述的實施方式中，對如下情況進行了說明，S卩，第二處理模塊23具有臨時保持單元27，第二分度器機械手IR2、第二中央機械手CR2、臨時保持單元27構成第二搬送單元，也可以省略臨時保持單元27，第二分度器機械手IR2以及第二中央機械手CR2直接進行基板W的交接。
[0204]另外，在前述的實施方式中，對如下情況進行了說明，S卩，由對下游閘門19進行開閉的第二開閉裝置由中間控制裝置13控制，該下游閘門19對直接搬入口 25a進行開閉，但是，第二開閉裝置也可以由第二控制裝置24控制。
[0205]另外，也可以組合前述的所有的實施方式中的2個以上。
[0206]對本發(fā)明的實施方式進行了詳細說明，但這些只不過是用于使本發(fā)明的技術的內容更加清楚的具體例，本發(fā)明并不應該限定于這些具體例來解釋，本發(fā)明的精神以及范圍僅由權利要求書限定。
[0207]本申請對應于2013年8月15日向日本國特許廳提出的特愿2013-168952號，該申請的全部內容通過引用而編入于此。
[0208]附圖標記的說明
[0209]1:基板處理系統(tǒng)
[0210]2:第一基板處理裝置
[0211]3:中間裝置
[0212]4:第二基板處理裝置
[0213]9:第一檢查單元
[0214]11:上游支撐構件
[0215]12:下游支撐構件
[0216]13:中間控制裝置
[0217]14:中間箱
[0218]15:上游箱
[0219]16:箱主體
[0220]17:下游箱
[0221]18:上游閘門
[0222]19:下游閘門
[0223]20:排氣管
[0224]22:第二分度器模塊
[0225]23:第二處理模塊
[0226]24:第二控制裝置
[0227]25:第二分度器箱
[0228]25a:直接搬入口
[0229]27:臨時保持單元
[0230]28:中繼單元
[0231]29:退避單元
[0232]41:調度部
[0233]42:任務管理列表
[0234]43:任務管理部
[0235]44:調度引擎
[0236]45:處理執(zhí)行指示部
[0237]C:運送器
[0238]CR2:第二中央機械手
[0239]HC:主計算機
[0240]IR1:第一分度器機械手
[0241]IR2:第二分度器機械手
[0242]LP1:第一加載口
[0243]LP2:第二加載口
[0244]MPC:第二處理單元
[0245]R3:中間搬送機械手
[0246]W:基板
【主權項】
1.一種基板處理裝置，與中間裝置連接，該中間裝置在對基板進行處理的第一基板處理裝置的外部直接支撐由所述第一基板處理裝置處理過的基板的狀態(tài)下，搬送該基板，其特征在于， 該基板處理裝置包括: 多個第二加載口，分別保持能夠容納多張基板的多個運送器， 直接搬入口，接受從所述中間裝置搬入的基板， 多個第二處理單元，對從所述多個第二加載口以及所述直接搬入口中的至少一方搬送來的基板進行處理， 第二搬送單元，在所述多個第二加載口、所述直接搬入口和所述多個第二處理單元之間搬送基板， 第二控制裝置，對所述基板處理裝置進行控制； 所述第二控制裝置執(zhí)行: 第一步驟，作成第一計劃，該第一計劃包括第一搬入工序、第一處理工序和第一搬出工序，在所述第一搬入工序中，使所述第二搬送單元將基板從所述多個第二加載口向所述多個第二處理單元搬送，在所述第一處理工序中，使所述多個第二處理單元對搬送到所述多個第二處理單元的基板進行處理，在所述第一搬出工序中，使所述第二搬送單元將由所述多個第二處理單元處理過的基板從所述多個第二處理單元向所述多個第二加載口搬送；第二步驟，作成第二計劃，該第二計劃包括第二搬入工序、第二處理工序、以及第二搬出工序，所述第二搬入工序、所述第二處理工序、以及所述第二搬出工序中的至少一個與所述第一搬入工序、第一處理工序、以及第一搬出工序中的至少一個同時執(zhí)行，在所述第二搬入工序中，使所述第二搬送單元將由所述第一基板處理裝置處理過的基板從所述直接搬入口向所述多個第二處理單元搬送，在所述第二處理工序，使所述多個第二處理單元對搬送到所述多個第二處理單元的基板進行處理，在所述第二搬出工序中，使所述第二搬送單元將由所述多個第二處理單元處理過的基板從所述多個第二處理單元向所述多個第二加載口搬送； 第三步驟，判斷所述第二計劃所計劃的基板的處理開始預想時刻是否在應該由所述基板處理裝置對由所述第一基板處理裝置處理過的基板進行處理的處理開始期限以前； 第四步驟，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限之后的情況下，以所述處理開始預想時刻變?yōu)樗鎏幚黹_始期限以前的方式變更所述第一計劃以及第二計劃，使所述基板處理裝置執(zhí)行變更后的所述第一計劃以及第二計劃； 第五步驟，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限以前的情況下，不變更所述第一計劃以及第二計劃而使所述基板處理裝置執(zhí)行所述第一計劃以及第二計劃。2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第二步驟是在由所述第一基板處理裝置處理過的基板到達所述中間裝置后作成所述第二計劃的步驟。3.如權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述基板處理裝置還包括使基板退避的退避單元， 所述第四步驟是如下步驟，即，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限之后的情況下，以基板從所述多個第二加載口經(jīng)由所述退避單元搬送到所述多個第二處理單元的方式變更所述第一計劃，并且以將從所述直接搬入口搬入的基板搬入到預定以變更前的所述第一計劃對基板進行處理的所述第二處理單元的方式變更所述第二計劃，由此，以所述處理開始預想時刻變?yōu)樗鎏幚黹_始期限以前的方式使所述處理開始預想時刻提前，使所述基板處理裝置執(zhí)行變更后的所述第一計劃以及第二計劃。4.如權利要求1?3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第二控制裝置還執(zhí)行第六步驟，根據(jù)檢查單元的檢查結果設定基板處理條件，該檢查單元在由所述第一基板處理裝置處理過的基板搬入所述基板處理裝置之前檢查該基板， 所述第二步驟是以在所述第二處理工序中以所述基板處理條件對基板進行處理的方式作成所述第二計劃的步驟。5.如權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第六步驟是根據(jù)在所述第一基板處理裝置以及中間裝置中的一方設置的所述檢查單元的檢查結果來設定所述基板處理條件的步驟。6.一種基板處理方法，由基板處理裝置執(zhí)行，該基板處理裝置與中間裝置連接，該中間裝置在對基板進行處理的第一基板處理裝置的外部直接支撐由所述第一基板處理裝置處理過的基板的狀態(tài)下，搬送該基板， 該基板處理裝置包括: 多個第二加載口，分別保持能夠容納多張基板的多個運送器， 直接搬入口，接受從所述中間裝置搬入的基板， 多個第二處理單元，對從所述多個第二加載口以及所述直接搬入口中的至少一方搬送來的基板進行處理， 第二搬送單元，在所述多個第二加載口、所述直接搬入口和所述多個第二處理單元之間搬送基板， 第二控制裝置，對所述基板處理裝置進行控制； 其特征在于， 該基板處理方法包括: 第一步驟，作成第一計劃，該第一計劃包括第一搬入工序、第一處理工序和第一搬出工序，在所述第一搬入工序中，使所述第二搬送單元將基板從所述多個第二加載口向所述多個第二處理單元搬送，在所述第一處理工序中，使所述多個第二處理單元對搬送到所述多個第二處理單元的基板進行處理，在所述第一搬出工序中，使所述第二搬送單元將由所述多個第二處理單元處理過的基板從所述多個第二處理單元向所述多個第二加載口搬送； 第二步驟，作成第二計劃，該第二計劃包括第二搬入工序、第二處理工序、以及第二搬出工序，所述第二搬入工序、所述第二處理工序、以及所述第二搬出工序中的至少一個與所述第一搬入工序、第一處理工序、以及第一搬出工序中的至少一個同時執(zhí)行，在所述第二搬入工序中，使所述第二搬送單元將由所述第一基板處理裝置處理過的基板從所述直接搬入口向所述多個第二處理單元搬送，在所述第二處理工序，使所述多個第二處理單元對搬送到所述多個第二處理單元的基板進行處理，在所述第二搬出工序中，使所述第二搬送單元將由所述多個第二處理單元處理過的基板從所述多個第二處理單元向所述多個第二加載口搬送； 第三步驟，判斷所述第二計劃所計劃的基板的處理開始預想時刻是否在應該由所述基板處理裝置對由所述第一基板處理裝置處理過的基板進行處理的處理開始期限以前； 第四步驟，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限之后的情況下，以所述處理開始預想時刻變?yōu)樗鎏幚黹_始期限以前的方式變更所述第一計劃以及第二計劃，使所述基板處理裝置執(zhí)行變更后的所述第一計劃以及第二計劃； 第五步驟，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限以前的情況下，不變更所述第一計劃以及第二計劃而使所述基板處理裝置執(zhí)行所述第一計劃以及第二計劃。7.如權利要求6所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第二步驟是在由所述第一基板處理裝置處理過的基板到達所述中間裝置后作成所述第二計劃的步驟。8.如權利要求6或7所述的基板處理方法，其特征在于， 所述基板處理裝置還包括使基板退避的退避單元， 所述第四步驟是如下步驟，即，在所述第三步驟中所述處理開始預想時刻在所述處理開始期限之后的情況下，以基板從所述多個第二加載口經(jīng)由所述退避單元搬送到所述多個第二處理單元的方式變更所述第一計劃，并且以將從所述直接搬入口搬入的基板搬入到預定以變更前的所述第一計劃對基板進行處理的所述第二處理單元的方式變更所述第二計劃，由此，以所述處理開始預想時刻變?yōu)樗鎏幚黹_始期限以前的方式使所述處理開始預想時刻提前，使所述基板處理裝置執(zhí)行變更后的所述第一計劃以及第二計劃。9.如權利要求6?8中任一項所述的基板處理方法，其特征在于， 該基板處理方法還包括第六步驟，根據(jù)檢查單元的檢查結果設定基板處理條件，該檢查單元在由所述第一基板處理裝置處理過的基板搬入所述基板處理裝置之前檢查該基板， 所述第二步驟是以在所述第二處理工序中以所述基板處理條件對基板進行處理的方式作成所述第二計劃的步驟。10.如權利要求9所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第六步驟是根據(jù)在所述第一基板處理裝置以及中間裝置中的一方設置的所述檢查單元的檢查結果來設定所述基板處理條件的步驟。11.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，具有: 第一基板處理裝置，對基板進行處理； 權利要求1?5中任一項所述的基板處理裝置； 中間裝置，在所述第一基板處理裝置的外部直接支撐由所述第一基板處理裝置處理過的基板的狀態(tài)下，在所述第一基板處理裝置和所述基板處理裝置之間搬送該基板。
【專利摘要】第二基板處理裝置的第二控制裝置判斷基板的處理開始預想時刻是否在處理開始期限以前。如果處理開始預想時刻在處理開始期限以前，則第二控制裝置使第二基板處理裝置執(zhí)行起初的第一計劃以及第二計劃。另一方面，在處理開始預想時刻在處理開始期限之后的情況下，第二控制裝置以處理開始預想時刻變?yōu)樘幚黹_始期限以前的方式變更起初的第一計劃以及第二計劃，使第二基板處理裝置執(zhí)行變更后的第一計劃以及第二計劃。
【IPC分類】H01L21/02, G05B19/418
【公開號】CN105474356
【申請?zhí)枴緾N201480045393
【發(fā)明人】高木克明, 佐野誠一郎, 內田雄三, 山中智史
【申請人】株式會社思可林集團
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2014年7月10日
【公告號】US20160189991, WO2015022826A1