一種微調(diào)式電容器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種電氣設(shè)施領(lǐng)域,尤其涉及一種微調(diào)式電容器。
【背景技術(shù)】
[0002]可變電容器是一種電容量可以在一定范圍內(nèi)調(diào)節(jié)的電容器,通常在無(wú)線電接收電路中作調(diào)諧電容器用,既通過改變極片間相對(duì)的有效面積或片間距離使其電容量發(fā)生相應(yīng)的變化,現(xiàn)有技術(shù)的可變電容器一般分為空氣介質(zhì)可變電容器和固體介質(zhì)可變電容器,一般都采用較多壓緊元件來(lái)改變電容器的容量,為了改變因壓緊元件過高而導(dǎo)致壓緊系數(shù)不均的現(xiàn)象,一般都采用在元件中間增加中間調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),提高了成本的投入,微調(diào)范圍無(wú)明顯的增大,而且通常使用螺釘來(lái)調(diào)節(jié)元件的壓緊系數(shù),自動(dòng)化程度不高,復(fù)位能力較差。
[0003]因此,為了解決上述存在的問題,本發(fā)明特提供了一種新的技術(shù)方案。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的目的是提供一種成本低,復(fù)位能力強(qiáng)以及自動(dòng)化程度高的微調(diào)式電容器。
[0005]本發(fā)明針對(duì)上述技術(shù)缺陷所采用的技術(shù)方案是:
一種微調(diào)式電容器,包括基座、電極體、微調(diào)操作臺(tái)和驅(qū)動(dòng)裝置,所述電極體通過基座上均勻分布的安裝孔固定在基座上,所述基座上分別設(shè)置有鋅鋁電極層和聚丙烯薄膜層,所述電極體上安裝有復(fù)位彈簧,所述復(fù)位彈簧上安裝有一由若干個(gè)壓緊元件組成的微調(diào)機(jī)構(gòu),所述微調(diào)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有一微調(diào)操作臺(tái),所述微調(diào)機(jī)構(gòu)通過導(dǎo)軌連接在電極體上,所述導(dǎo)軌上安裝有驅(qū)動(dòng)裝置。
[0006]進(jìn)一步地,所述驅(qū)動(dòng)裝置為氣缸,氣缸驅(qū)動(dòng)微調(diào)機(jī)構(gòu)在導(dǎo)軌上上下移動(dòng)。
[0007]進(jìn)一步地,所述導(dǎo)軌上設(shè)有若干個(gè)通孔。
[0008]進(jìn)一步地,所述微調(diào)機(jī)構(gòu)中的壓緊元件以3-4個(gè)為宜。
[0009]進(jìn)一步地,所述電極體為中空結(jié)構(gòu),中空部分與基座形成間隙。
[0010]進(jìn)一步地,所述微調(diào)操作臺(tái)表面設(shè)置有絕緣層。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明微調(diào)機(jī)構(gòu)中采用3-4個(gè)壓緊元件,避免了壓緊系數(shù)不均的現(xiàn)象,成本投入低;通過微調(diào)操作臺(tái)控制氣缸驅(qū)動(dòng)微調(diào)機(jī)構(gòu)在導(dǎo)軌上上下移動(dòng),自動(dòng)化程度高,而且導(dǎo)軌上的通孔便于散熱,提高電容器的使用壽命。
【附圖說(shuō)明】
[0012]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0013]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2為本發(fā)明基座的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0015]其中:1、基座,2、電極體,3、微調(diào)機(jī)構(gòu),4、導(dǎo)軌,5、微調(diào)操作臺(tái),6、驅(qū)動(dòng)裝置,7、通孔,8、鋅鋁電極層,9、聚丙烯薄膜層,10、復(fù)位彈簧,101、安裝孔。
【具體實(shí)施方式】
[0016]如圖1至圖2所示的一種微調(diào)式電容器,包括基座1、電極體2、微調(diào)操作臺(tái)5和驅(qū)動(dòng)裝置6,電極體2通過基座1上均勻分布的安裝孔101固定在基座1上,基座1上分別設(shè)置有鋅鋁電極層8和聚丙烯薄膜層9,電極體2上安裝有復(fù)位彈簧10,復(fù)位彈簧10上安裝有一由若干個(gè)壓緊元件組成的微調(diào)機(jī)構(gòu)3,微調(diào)機(jī)構(gòu)3上設(shè)置有一微調(diào)操作臺(tái)5,微調(diào)機(jī)構(gòu)3通過導(dǎo)軌4連接在電極體2上,導(dǎo)軌4上安裝有驅(qū)動(dòng)裝置6,驅(qū)動(dòng)裝置6為氣缸,氣缸驅(qū)動(dòng)微調(diào)機(jī)構(gòu)3在導(dǎo)軌4上上下移動(dòng),自動(dòng)化程度高,提高了效率,而且導(dǎo)軌4上設(shè)有若干個(gè)通孔7,顯然,微調(diào)機(jī)構(gòu)3在導(dǎo)軌4上上下移動(dòng)時(shí)必然有摩擦繼而生熱,并且電容器本身在工作時(shí)也會(huì)產(chǎn)生熱量,通孔7的設(shè)置便于散熱,提高電容器的使用壽命。
[0017]另外,微調(diào)機(jī)構(gòu)3中的壓緊元件以3-4個(gè)為宜,避免了因壓緊元件高度過高而導(dǎo)致壓緊系數(shù)不均的現(xiàn)象,成本投入低。電極體2為中空結(jié)構(gòu),中空部分與基座1形成間隙,合理利用內(nèi)部結(jié)構(gòu),這樣電容器內(nèi)部既有空氣作為介質(zhì),又有絕緣層作為介質(zhì),其擊穿電壓比普通電容器高,微調(diào)操作臺(tái)5表面設(shè)置有絕緣層,使用安全,避免漏電等安全事故。
[0018]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種微調(diào)式電容器,包括基座、電極體、微調(diào)操作臺(tái)和驅(qū)動(dòng)裝置,所述電極體通過基座上均勻分布的安裝孔固定在基座上,所述基座上分別設(shè)置有鋅鋁電極層和聚丙烯薄膜層,所述電極體上安裝有復(fù)位彈簧,所述復(fù)位彈簧上安裝有一由若干個(gè)壓緊元件組成的微調(diào)機(jī)構(gòu),所述微調(diào)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有一微調(diào)操作臺(tái),其特征在于:所述微調(diào)機(jī)構(gòu)通過導(dǎo)軌連接在電極體上,所述導(dǎo)軌上安裝有驅(qū)動(dòng)裝置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微調(diào)式電容器,其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)裝置為氣缸,氣缸驅(qū)動(dòng)微調(diào)機(jī)構(gòu)在導(dǎo)軌上上下移動(dòng)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種微調(diào)式電容器,其特征在于:所述導(dǎo)軌上設(shè)有若干個(gè)通孔。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微調(diào)式電容器,其特征在于:所述微調(diào)機(jī)構(gòu)中的壓緊元件以3-4個(gè)為宜。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微調(diào)式電容器,其特征在于:所述電極體為中空結(jié)構(gòu),中空部分與基座形成間隙。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微調(diào)式電容器,其特征在于:所述微調(diào)操作臺(tái)表面設(shè)置有絕緣層。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種微調(diào)式電容器,包括基座、電極體、微調(diào)操作臺(tái)和驅(qū)動(dòng)裝置,電極體通過基座上均勻分布的安裝孔固定在基座上,基座上分別設(shè)置有鋅鋁電極層和聚丙烯薄膜層,電極體上安裝有復(fù)位彈簧,復(fù)位彈簧上安裝有一由若干個(gè)壓緊元件組成的微調(diào)機(jī)構(gòu),微調(diào)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有一微調(diào)操作臺(tái),微調(diào)機(jī)構(gòu)通過導(dǎo)軌連接在電極體上,導(dǎo)軌上安裝有驅(qū)動(dòng)裝置。本發(fā)明微調(diào)機(jī)構(gòu)中采用3-4個(gè)壓緊元件,避免了壓緊系數(shù)不均的現(xiàn)象,成本投入低;通過微調(diào)操作臺(tái)控制氣缸驅(qū)動(dòng)微調(diào)機(jī)構(gòu)在導(dǎo)軌上上下移動(dòng),自動(dòng)化程度高,而且導(dǎo)軌上的通孔便于散熱,提高電容器的使用壽命。
【IPC分類】H01G5/16, H01G5/01
【公開號(hào)】CN105405653
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510774682
【發(fā)明人】符建豪
【申請(qǐng)人】太倉(cāng)榮中機(jī)電科技有限公司
【公開日】2016年3月16日
【申請(qǐng)日】2015年11月13日