br>[0120]如圖14所示，膜厚測(cè)定裝置400具有處理容器410。在處理容器410的晶片搬送裝置20側(cè)的側(cè)面，形成晶片W的搬入搬出口(無(wú)圖示)，在該搬入搬出口設(shè)置開(kāi)關(guān)窗(無(wú)圖示)O
[0121]在處理容器410內(nèi)的底面，設(shè)置載置晶片W的載置臺(tái)420、和光學(xué)式表面形狀測(cè)定計(jì)421。載置臺(tái)420例如能夠在水平方向的二維方向移動(dòng)。光學(xué)式表面形狀測(cè)定計(jì)421例如具備對(duì)晶片W從斜方向照射光的光照射部422、檢測(cè)從光照射部422照射的被晶片W反射的光的光檢測(cè)部423、基于該光檢測(cè)部423的受光信息算出晶片W上的有機(jī)膜F的膜厚的測(cè)定部424。膜厚測(cè)定裝置400例如使用散射法測(cè)定有機(jī)膜F的膜厚，測(cè)定部424中，核對(duì)由光検出部423檢測(cè)的晶片面內(nèi)的光強(qiáng)度分布和預(yù)先存儲(chǔ)的假想的光強(qiáng)度分布，求出對(duì)應(yīng)于該核對(duì)的假想的光強(qiáng)度分布的有機(jī)膜F的膜厚，能夠測(cè)定有機(jī)膜F的膜厚。
[0122]這樣的情況下，膜厚測(cè)定裝置400中，首先將晶片W載置于載置臺(tái)420。接著，從光照射部422向晶片W照射光，通過(guò)光檢測(cè)部423檢測(cè)其反射光。這樣，測(cè)定部424中，測(cè)定晶片W上的有機(jī)膜F的膜厚。該有機(jī)膜F的膜厚測(cè)定結(jié)果被輸出到控制部200。
[0123]基于有機(jī)膜F的膜厚測(cè)定結(jié)果，在有機(jī)膜F的膜厚變?yōu)橐?guī)定的膜厚、有機(jī)膜F平坦化、即有機(jī)膜F中的階梯差D為規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，對(duì)以后的晶片W直接以該處理?xiàng)l件進(jìn)行晶片處理。
[0124]另一方面，在有機(jī)膜F沒(méi)有充分平坦化的情況下，修正工序S3中的處理?xiàng)l件。具體而言，例如修正第二熱處理部141、341的加熱溫度。另外，修正來(lái)自紫外線照射部142、340的紫外線的照度、紫外線的照射時(shí)間等的處理?xiàng)l件。另外，修正工序S3的處理氣氛的氧濃度。
[0125]根據(jù)本實(shí)施方式，能夠以更適當(dāng)?shù)臈l件進(jìn)行晶片處理，因此，能夠在晶片W上更適當(dāng)?shù)匦纬捎袡C(jī)膜F。
[0126]此外，以上的實(shí)施方式的工序S3中，一邊加熱有機(jī)膜F—邊進(jìn)行紫外線照射處理，但是，發(fā)明人深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn)，僅進(jìn)行紫外線照射處理，也能夠適當(dāng)除去有機(jī)膜F的表面。
[0127]以上，一邊參照附圖一邊說(shuō)明了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明不限定于這些例子。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠在請(qǐng)求保護(hù)的范圍所記載的思想范圍內(nèi)，想到各種變形例或修正例，這些也當(dāng)然屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍。
[0128]符號(hào)說(shuō)明
[0129]I成膜系統(tǒng)
[0130]30?33涂布處理裝置
[0131]40?42、50?52晶片處理裝置
[0132]140第一熱處理部
[0133]141第二熱處理部
[0134]142紫外線照射部
[0135]150 熱板
[0136]170 熱板
[0137]200控制部
[0138]300、301、310、311 熱處理裝置
[0139]302?304、312?314晶片處理裝置
[0140]320保溫件
[0141]340紫外線照射部
[0142]341第二熱處理部
[0143]350 LED
[0144]400膜厚測(cè)定裝置
[0145]A第一區(qū)域
[0146]B第二區(qū)域
[0147]D階梯差
[0148]F有機(jī)膜
[0149]Fa (第一區(qū)域A的)有機(jī)膜
[0150]Fb (第二區(qū)域B的)有機(jī)膜
[0151]L有機(jī)材料
[0152]La (第一區(qū)域A的)有機(jī)材料
[0153]Lb (第二區(qū)域B的)有機(jī)材料
[0154]P 圖案
[0155]Q 凹部
[0156]W 晶片
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種成膜方法，其在表面形成有圖案的基板上形成有機(jī)膜，該成膜方法的特征在于，包括: 在基板上涂布有機(jī)材料的涂布處理工序； 此后，對(duì)所述有機(jī)材料進(jìn)行熱處理，在基板上形成有機(jī)膜的熱處理工序；和此后，對(duì)所述有機(jī)膜進(jìn)行紫外線照射處理，將該有機(jī)膜的表面除去至規(guī)定的深度的紫外線照射工序。2.如權(quán)利要求1所述的成膜方法，其特征在于: 將所述涂布處理工序、所述熱處理工序和所述紫外線照射工序分別以該順序進(jìn)行多次， 至少在最后之前進(jìn)行的所述紫外線照射工序中，除去所述有機(jī)膜的表面直至所述圖案的表面露出。3.如權(quán)利要求1所述的成膜方法，其特征在于: 所述紫外線照射工序中，一邊對(duì)所述有機(jī)膜進(jìn)行熱處理，一邊進(jìn)行所述紫外線照射處理。4.如權(quán)利要求3所述的成膜方法，其特征在于: 所述紫外線照射工序中的所述熱處理是將基板載置于熱處理板而進(jìn)行的。5.如權(quán)利要求4所述的成膜方法，其特征在于: 所述熱處理板設(shè)置多個(gè)，以分別不同的溫度進(jìn)行所述紫外線照射工序中的所述熱處理。6.如權(quán)利要求3所述的成膜方法，其特征在于: 所述紫外線照射工序中的所述熱處理通過(guò)來(lái)自光源的照射光而進(jìn)行。7.如權(quán)利要求1所述的成膜方法，其特征在于: 所述紫外線照射工序中，至少控制處理氣氛的氧濃度、紫外線的照度或紫外線的照射時(shí)間。8.如權(quán)利要求1所述的成膜方法，其特征在于: 在所述紫外線照射工序后，還具有測(cè)定所述有機(jī)膜的膜厚的膜厚測(cè)定工序， 基于所述膜厚測(cè)定工序中的測(cè)定結(jié)果，修正所述紫外線照射工序的處理?xiàng)l件。9.一種可讀取的計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于: 存儲(chǔ)有在控制部的計(jì)算機(jī)上操作的程序，該程序以通過(guò)成膜系統(tǒng)執(zhí)行成膜方法的方式，控制該成膜系統(tǒng)，該成膜方法在表面形成有圖案的基板上形成有機(jī)膜， 所述成膜方法包括: 在基板上涂布有機(jī)材料的涂布處理工序； 此后，對(duì)所述有機(jī)材料進(jìn)行熱處理，在基板上形成有機(jī)膜的熱處理工序；和此后，對(duì)所述有機(jī)膜進(jìn)行紫外線照射處理，將該有機(jī)膜的表面除去至規(guī)定的深度的紫外線照射工序。10.—種成膜系統(tǒng)，其在表面形成有圖案的基板上形成有機(jī)膜，該成膜系統(tǒng)的特征在于，具有: 在基板上涂布處理有機(jī)材料的涂布處理部； 對(duì)所述有機(jī)材料進(jìn)行熱處理，在基板上形成有機(jī)膜的熱處理部； 對(duì)所述有機(jī)膜進(jìn)行紫外線照射處理的紫外線照射部；和 控制部，控制所述涂布處理部、所述熱處理部和所述紫外線照射部，使得所述涂布處理、所述熱處理和所述紫外線照射處理以該順序進(jìn)行，在所述紫外線照射處理中將所述有機(jī)膜的表面除去至規(guī)定的深度。11.如權(quán)利要求10所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述控制部控制所述涂布處理部、所述熱處理部和所述紫外線照射部，使得所述涂布處理、所述熱處理和所述紫外線照射處理分別以該順序進(jìn)行多次，至少在最后之前進(jìn)行的所述紫外線照射處理中，除去所述有機(jī)膜的表面直至所述圖案的表面露出。12.如權(quán)利要求10所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 還具有在進(jìn)行所述紫外線照射處理時(shí)對(duì)該有機(jī)膜進(jìn)行熱處理的其他熱處理部。13.如權(quán)利要求12所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述其他熱處理部具有載置基板并進(jìn)行熱處理的熱處理板。14.如權(quán)利要求13所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述熱處理板設(shè)置多個(gè)，以分別不同的溫度進(jìn)行熱處理。15.如權(quán)利要求12所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述其他熱處理部具有對(duì)所述有機(jī)膜照射照射光的光源。16.如權(quán)利要求10所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述熱處理部和所述紫外線照射部設(shè)置于同一裝置內(nèi)， 在該裝置內(nèi)，設(shè)置有在所述熱處理部和所述紫外線照射部之間自由移動(dòng)且保持基板并保溫的保溫件。17.如權(quán)利要求10所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 所述控制部在所述紫外線照射處理中至少控制處理氣氛的氧濃度、紫外線的照度或紫外線的照射時(shí)間。18.如權(quán)利要求10所述的成膜系統(tǒng)，其特征在于: 還具有測(cè)定進(jìn)行了所述紫外線照射處理的所述有機(jī)膜的膜厚的膜厚測(cè)定部， 所述控制部基于所述膜厚測(cè)定部得到的測(cè)定結(jié)果，修正所述紫外線照射處理的處理?xiàng)l件。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明是在表面形成有圖案的基板上形成有機(jī)膜的發(fā)明，在基板上涂布有機(jī)材料，此后，對(duì)該有機(jī)材料進(jìn)行熱處理，在基板上形成有機(jī)膜，此后，對(duì)該有機(jī)膜進(jìn)行紫外線照射處理，將該有機(jī)膜的表面除去至規(guī)定的深度，由此在基板上適當(dāng)且高效地形成有機(jī)膜。
【IPC分類(lèi)】H01L21/768, H01L21/312, H01L21/31, H01L21/321
【公開(kāi)號(hào)】CN105074883
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480009698
【發(fā)明人】志村悟, 巖尾文子, 吉原孝介
【申請(qǐng)人】東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2015年11月18日
【申請(qǐng)日】2014年1月23日
【公告號(hào)】US20150357188, WO2014129259A1