本申請(qǐng)有關(guān)于一種電漿制程系統(tǒng)，特別是指一種一站式電漿制程系統(tǒng)及其制程方法。

背景技術(shù)：

1、于站點(diǎn)式電漿制程中，會(huì)從前一個(gè)站點(diǎn)輸入一批基板材料進(jìn)行電漿制程，借以對(duì)基板材料進(jìn)行處理或反應(yīng)，例如：蝕刻、鍍膜或表面改質(zhì)等。于電漿制程完畢后，再將整批的基板材料輸出至下一個(gè)站點(diǎn)以進(jìn)行其他處理，然后繼續(xù)輸入下一批的基板材料進(jìn)行電漿制程，以各個(gè)站點(diǎn)來制程基板材料。

2、然而，在特定的基板材料進(jìn)行電漿蝕刻時(shí)，容易因?yàn)橹瞥坍a(chǎn)生的粉塵、填充物顆粒等殘留于基板材料上，而造成負(fù)責(zé)進(jìn)行基板材料傳輸?shù)倪\(yùn)送設(shè)備受到污染，進(jìn)而擴(kuò)大影響到整個(gè)制程產(chǎn)線，影響制程良率以及產(chǎn)品品質(zhì)。

3、另外，于現(xiàn)今的電漿設(shè)備制程中，并未針對(duì)制程前或制程后的產(chǎn)品進(jìn)行品質(zhì)監(jiān)控，因而造成實(shí)際上已經(jīng)有缺陷的基板材料仍然繼續(xù)完成電漿制程，浪費(fèi)制程時(shí)間以及材料成本，實(shí)有改進(jìn)的必要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的主要目的，在于改善過去電漿制程基材于傳輸過程中容易受到污染的問題。

2、前述目的并不妨礙其他目的的存在。若本領(lǐng)域技術(shù)人員自說明書、權(quán)利要求或附圖等的記載可以導(dǎo)出的目的，也包括在本申請(qǐng)目的中。因此，本申請(qǐng)的目的不局限于前述列舉的目的。

3、為達(dá)成上述目的，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N一站式電漿制程系統(tǒng)，用以對(duì)一基材進(jìn)行電漿制程處理，一站式電漿制程系統(tǒng)包括一輸入存放區(qū)、一潔凈搬運(yùn)模組、一緩沖單元、一制程搬運(yùn)模組、一電漿模組、一清潔模組及一輸出存放區(qū)。輸入存放區(qū)用以存放基材；潔凈搬運(yùn)模組從輸入存放區(qū)取出基材；緩沖單元相鄰于潔凈搬運(yùn)模組，潔凈搬運(yùn)模組于緩沖單元進(jìn)行基材的取出或放入；電漿模組對(duì)基材進(jìn)行電漿制程處理；清潔模組對(duì)基材進(jìn)行清潔處理；制程搬運(yùn)模組于緩沖單元、電漿模組及清潔模組之間進(jìn)行基材的取出或放入；由潔凈搬運(yùn)模組取得經(jīng)清潔完成的基材，潔凈搬運(yùn)模組將基材放置于輸出存放區(qū)。

4、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，還包括一基材檢測模組，該潔凈搬運(yùn)模組于該緩沖單元、該清潔模組、該輸出存放區(qū)及該基材檢測模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入，該基材檢測模組用以對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

5、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，輸入存放區(qū)、該輸出存放區(qū)與該基材檢測模組設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組的同一側(cè)，該緩沖單元設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

6、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，緩沖單元包括一清潔完成區(qū)及一待制程區(qū)，該潔凈搬運(yùn)模組于該清潔完成區(qū)、該清潔模組、該輸出存放區(qū)及該基材檢測模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入，該制程搬運(yùn)模組于該待制程區(qū)、該電漿模組及該清潔模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入。

7、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，輸入存放區(qū)與該輸出存放區(qū)設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組的同一側(cè)，該緩沖單元設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

8、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，制程搬運(yùn)模組設(shè)置于該緩沖單元遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)，而該電漿模組設(shè)置于該制程搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

9、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，清潔模組的入口對(duì)應(yīng)該制程搬運(yùn)模組設(shè)置，該清潔模組的出口對(duì)應(yīng)該潔凈搬運(yùn)模組設(shè)置。

10、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，還包括一運(yùn)輸模組，該運(yùn)輸模組將該基材從該清潔模組的入口移動(dòng)至該清潔模組的出口。

11、于本申請(qǐng)另一實(shí)施例中，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N一站式電漿制程方法，用以對(duì)一基材進(jìn)行電漿制程處理，一站式電漿制程方法包括以下步驟：

12、步驟s1：利用一潔凈搬運(yùn)模組取得基材并放入至一緩沖單元；

13、步驟s2：利用一制程搬運(yùn)模組將基材從緩沖單元搬移至一電漿模組進(jìn)行電漿制程處理；

14、步驟s3：通過制程搬運(yùn)模組取得基材并放置于一清潔模組，對(duì)基材進(jìn)行清潔；

15、步驟s4：通過潔凈搬運(yùn)模組取得基材并放置于一輸出存放區(qū)，以完成基材的電漿制程，并輸出基材。

16、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，還包括一在步驟s1前的步驟p1：利用該潔凈搬運(yùn)模組從一輸入存放區(qū)取出該基材并放置于一基材檢測模組，對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

17、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，還包括一在步驟s3后的步驟p2：通過該潔凈搬運(yùn)模組取得該基材并放置于一基材檢測模組，對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

18、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，還包括一在步驟s3與步驟p2間的步驟a1：通過該潔凈搬運(yùn)模組取得該基材并放置于一清潔完成區(qū)。

19、于本申請(qǐng)一較佳實(shí)施例中，于步驟s3中，通過一運(yùn)輸模組將該基材從該清潔模組的入口移動(dòng)至該清潔模組的出口。

20、依據(jù)上述技術(shù)特征，本申請(qǐng)具有以下特點(diǎn)：

21、1.本申請(qǐng)通過清潔模組清潔基材，并且利用潔凈搬運(yùn)模組將清潔完成的基材放置于輸出存放區(qū)，避免沾染粉塵、填充物的制程搬運(yùn)模組污染基材及后續(xù)制程的站點(diǎn)。

22、2.本申請(qǐng)通過緩沖單元可以暫時(shí)存放基材，避免各個(gè)制程花費(fèi)的時(shí)間不一樣，進(jìn)而發(fā)生制程模組間必須等待的問題，也即提高生產(chǎn)流程的效率。

技術(shù)特征：

1.一種一站式電漿制程系統(tǒng)，用以對(duì)一基材進(jìn)行電漿制程處理，其特征在于，該一站式電漿制程系統(tǒng)包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，還包括一基材檢測模組，該潔凈搬運(yùn)模組于該緩沖單元、該清潔模組、該輸出存放區(qū)及該基材檢測模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入，該基材檢測模組用以對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，該輸入存放區(qū)、該輸出存放區(qū)與該基材檢測模組設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組的同一側(cè)，該緩沖單元設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，該緩沖單元包括一清潔完成區(qū)及一待制程區(qū)，該潔凈搬運(yùn)模組于該清潔完成區(qū)、該清潔模組、該輸出存放區(qū)及該基材檢測模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入，該制程搬運(yùn)模組于該待制程區(qū)、該電漿模組及該清潔模組之間進(jìn)行該基材的取出或放入。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，該輸入存放區(qū)與該輸出存放區(qū)設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組的同一側(cè)，該緩沖單元設(shè)置于該潔凈搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，該制程搬運(yùn)模組設(shè)置于該緩沖單元遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)，而該電漿模組設(shè)置于該制程搬運(yùn)模組遠(yuǎn)離該輸入存放區(qū)的一側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，該清潔模組的入口對(duì)應(yīng)該制程搬運(yùn)模組設(shè)置，該清潔模組的出口對(duì)應(yīng)該潔凈搬運(yùn)模組設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一站式電漿制程系統(tǒng)，其特征在于，還包括一運(yùn)輸模組，該運(yùn)輸模組將該基材從該清潔模組的入口移動(dòng)至該清潔模組的出口。

9.一種一站式電漿制程方法，用以對(duì)一基材進(jìn)行電漿制程處理，其特征在于，該一站式電漿制程方法包括以下步驟：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一站式電漿制程方法，其特征在于，還包括一在該步驟s1前的步驟p1：利用該潔凈搬運(yùn)模組從一輸入存放區(qū)取出該基材并放置于一基材檢測模組，對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一站式電漿制程方法，其特征在于，還包括一在該步驟s3后的步驟p2：通過該潔凈搬運(yùn)模組取得該基材并放置于一基材檢測模組，對(duì)該基材進(jìn)行缺陷檢測。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的一站式電漿制程方法，其特征在于，還包括一在該步驟s3與該步驟p2間的步驟a1：通過該潔凈搬運(yùn)模組取得該基材并放置于一清潔完成區(qū)。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一站式電漿制程方法，其特征在于，于該步驟s3中，通過一運(yùn)輸模組將該基材從該清潔模組的入口移動(dòng)至該清潔模組的出口。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)為一種一站式電漿制程系統(tǒng)，包括一輸入存放區(qū)、一潔凈搬運(yùn)模組、一緩沖單元、一制程搬運(yùn)模組、一電漿模組、一清潔模組及一輸出存放區(qū)。輸入存放區(qū)用以存放基材；潔凈搬運(yùn)模組從輸入存放區(qū)取出基材；潔凈搬運(yùn)模組于緩沖單元進(jìn)行基材的取出或放入；電漿模組對(duì)基材進(jìn)行電漿制程處理；清潔模組對(duì)基材進(jìn)行清潔處理；制程搬運(yùn)模組于緩沖單元、電漿模組及清潔模組之間進(jìn)行基材的取出或放入；潔凈搬運(yùn)模組將清潔完成的基材放置于輸出存放區(qū)。借此，本申請(qǐng)得以減少基材在轉(zhuǎn)送過程中受到污染的問題，并且提高電漿制程流程的生產(chǎn)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：李原吉,劉品均,盧志銘,蘇雅鈴
受保護(hù)的技術(shù)使用者：友威科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9