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具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置的制作方法

文檔序號(hào):40573415發(fā)布日期:2025-01-03 11:36閱讀:18來(lái)源:國(guó)知局
具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置的制作方法

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造,尤其涉及一種具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置。


背景技術(shù):

1、在晶圓傳輸過(guò)程中,需要用晶圓傳輸機(jī)器手在各個(gè)工位之間進(jìn)行晶圓傳送。有的工位需要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗,將晶圓上的微塵、殘余物、臟污等刷洗干凈。清洗后的晶圓表面附著一層液膜,在晶圓傳送時(shí),晶圓表面的液體就會(huì)滴落到機(jī)器手上,機(jī)器手上的液體會(huì)滴落到半導(dǎo)體設(shè)備中造成污染。

2、目前半導(dǎo)體設(shè)備中機(jī)器手的接液裝置主要用于接收機(jī)器手上滴落的液體。接液裝置的底部設(shè)置排液口和排液管路,排液管路的出液端置于一固定的排液槽中,以便排液管路在機(jī)器手運(yùn)行過(guò)程中連續(xù)地將液體排走。為確保機(jī)器手的正常運(yùn)行,需要保證接液裝置內(nèi)的液體能夠一直正常排出。然而,為使排液管路的出液端始終置于排液槽中,排液管路通常會(huì)設(shè)置得較長(zhǎng),這將會(huì)對(duì)機(jī)器手的運(yùn)動(dòng)(例如旋轉(zhuǎn)、水平和升降運(yùn)動(dòng))具有一定的限制。這是因?yàn)樵跈C(jī)器手運(yùn)動(dòng)(例如旋轉(zhuǎn)、水平和升降運(yùn)動(dòng))過(guò)程中,經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)排液管路折損、纏繞或與其他部件干涉的情況,這一情況將會(huì)導(dǎo)致接液裝置出現(xiàn)排液異常,進(jìn)而影響機(jī)器手的正常工藝。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中接液裝置會(huì)限制機(jī)器手的運(yùn)動(dòng),影響機(jī)器手正常工藝時(shí)間的問(wèn)題。

2、為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明的一實(shí)施方式提出一種具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,包括:

3、機(jī)器手;

4、接液裝置,設(shè)置在機(jī)器手下方,并隨機(jī)器手移動(dòng),用于接收和存儲(chǔ)機(jī)器手上滴落的液體;

5、排液裝置,包括排液管路和控制閥,排液管路與接液裝置連接,控制閥設(shè)置于排液管路,用于控制排液管路的通斷;

6、控制器,與機(jī)器手和控制閥分別通信連接,用于控制機(jī)器手的移動(dòng)和控制閥的打開(kāi)和關(guān)閉;以及

7、收集倉(cāng),位于預(yù)定排液位置;

8、當(dāng)接液裝置內(nèi)液體的液位達(dá)到預(yù)設(shè)液位時(shí),控制器先控制機(jī)器手移動(dòng)到預(yù)定排液位置,再控制控制閥打開(kāi),使得排液管路向收集倉(cāng)排放接液裝置內(nèi)的液體。

9、本發(fā)明提供的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,包括機(jī)器手、接液裝置、排液裝置、控制器和收集倉(cāng)。當(dāng)機(jī)器手在正常運(yùn)行時(shí),控制器控制控制閥關(guān)閉,以使接液裝置接收并存儲(chǔ)機(jī)器手上滴落的液體;當(dāng)接液裝置內(nèi)存儲(chǔ)的液體達(dá)到預(yù)設(shè)液位時(shí),控制器先控制機(jī)器手移動(dòng)至預(yù)定排液位置,使得排液裝置靠近并對(duì)準(zhǔn)收集倉(cāng)后,再控制控制閥打開(kāi),以使接液裝置中的液體從排液管路排放至收集倉(cāng)。因?yàn)楸旧暾?qǐng)是控制排液裝置在預(yù)定排液位置進(jìn)行排液,所以有利于縮短排液管路的設(shè)置長(zhǎng)度,能夠避免排液管路過(guò)長(zhǎng)并隨機(jī)器手進(jìn)行升降或水平運(yùn)動(dòng)時(shí)發(fā)生折損、纏繞或與周?chē)钠渌考l(fā)生干涉。因此,本申請(qǐng)能夠控制接液裝置內(nèi)液體的存儲(chǔ)和排出,不限制機(jī)器手的運(yùn)動(dòng),從而不影響機(jī)器手的正常工藝時(shí)間。

10、本發(fā)明其他特征和相應(yīng)的有益效果在說(shuō)明書(shū)的后面部分進(jìn)行闡述說(shuō)明,且應(yīng)當(dāng)理解,至少部分有益效果從本發(fā)明說(shuō)明書(shū)中的記載變的顯而易見(jiàn)。



技術(shù)特征:

1.一種具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述接液裝置設(shè)置有液位監(jiān)測(cè)器,所述液位監(jiān)測(cè)器與所述控制器通信連接,用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述接液裝置內(nèi)的液位。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,還包括安裝臺(tái)和旋轉(zhuǎn)軸,所述機(jī)器手通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于所述安裝臺(tái);

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述殘液盤(pán)還包括輸送管,用于將所述殘液盤(pán)內(nèi)的液體向所述臨存盤(pán)輸送。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述臨存盤(pán)具有相對(duì)的第一側(cè)壁、第二側(cè)壁以及第一流通通道,所述第一側(cè)壁設(shè)置有第一擋板,所述第一擋板與所述輸送管的出口之間具有預(yù)定縱向距離;

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述第一擋板與所述輸送管的出口之間的所述預(yù)定縱向距離為5mm~10mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述第一擋板自所述第一側(cè)壁向所述第二側(cè)壁延伸,并與所述第二側(cè)壁之間形成所述第一流通通道。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述第一擋板的上表面為斜面,所述斜面沿所述第一側(cè)壁向所述第二側(cè)壁方向向下傾斜。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述臨存盤(pán)的所述第二側(cè)壁設(shè)置有第二擋板,所述第二擋板自所述第二側(cè)壁向所述第一側(cè)壁延伸,并與所述第一側(cè)壁之間形成間隙,所述第二擋板間隔設(shè)置在所述第一擋板的上方,且所述輸送管的出口不高于所述第二擋板。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述第二擋板的上表面為斜面,所述斜面沿所述第二側(cè)壁向所述第一側(cè)壁方向向下傾斜。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,還包括:

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述預(yù)定排液位置為在所述機(jī)器手豎直運(yùn)動(dòng)方向上的坐標(biāo)為零,且在所述機(jī)器手水平運(yùn)動(dòng)方向上的坐標(biāo)為零時(shí)的位置。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,其特征在于,所述預(yù)定排液位置為在所述機(jī)器手豎直運(yùn)動(dòng)方向上的坐標(biāo)為零時(shí),所述機(jī)器手水平運(yùn)動(dòng)方向上的任意坐標(biāo)位置。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置,包括機(jī)器手、接液裝置、排液裝置、控制器和收集倉(cāng),接液裝置設(shè)置在機(jī)器手下方,并隨機(jī)器手移動(dòng),以接收機(jī)器手上滴落的液體;排液裝置包括排液管路和控制閥,排液管路與接液裝置連接,控制閥設(shè)置于排液管路,用于控制排液管路的通斷;控制器與機(jī)器手和控制閥分別通信連接,用于控制機(jī)器手的移動(dòng)和控制閥的打開(kāi)和關(guān)閉;收集倉(cāng)位于預(yù)定排液位置。當(dāng)接液裝置內(nèi)液體的液位達(dá)到預(yù)設(shè)液位時(shí),控制器先控制機(jī)器手移動(dòng)到預(yù)定排液位置,再控制控制閥打開(kāi),使得排液管路向收集倉(cāng)排放接液裝置內(nèi)的液體。本發(fā)明能夠能夠控制接液裝置內(nèi)液體的存儲(chǔ)和排出,不限制機(jī)器手的運(yùn)動(dòng),從而不影響機(jī)器手的正常工藝時(shí)間。

技術(shù)研發(fā)人員:朱國(guó)輝,孫建,秦真江,王暉
受保護(hù)的技術(shù)使用者:盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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