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自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置的制作方法

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自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置的制造方法

本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置。



背景技術(shù):

太陽(yáng)能晶硅片一般是5英寸、6英寸見(jiàn)方的薄片,厚度在120微米—200微米之間,他們具有易碎的特點(diǎn),而大量的晶硅片層疊放置時(shí),把他們分開(kāi)成一片片并不容易?,F(xiàn)有太陽(yáng)能晶硅片的生產(chǎn)檢測(cè)設(shè)備涉及到晶硅片的上料、傳輸、下料,一般采用機(jī)械手把層疊放置的樣品從上料盒中抓取出來(lái)放置于傳送帶上,然后經(jīng)過(guò)一系列生產(chǎn)工序或者檢測(cè)程序,再由機(jī)械手或者其他機(jī)械方式把樣品分送到不同下料盒中,在此類(lèi)設(shè)備中,由于樣品初始是層疊放置,機(jī)械手(一般是真空吸盤(pán)或者伯努利吸盤(pán))抓取的時(shí)候本應(yīng)只抓取一片放置在傳送帶上,但是時(shí)常會(huì)出現(xiàn)兩片甚至三片樣品由于吸附而相互粘在一起,導(dǎo)致機(jī)械手一次抓取超過(guò)一片的樣品。而粘在一起的樣品會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)、檢測(cè)流程失敗,更糟糕的是,粘在一起的樣品在傳送過(guò)程中可能會(huì)逐漸分離,如果不及時(shí)發(fā)現(xiàn)并從生產(chǎn)線(xiàn)上清理,會(huì)導(dǎo)致堵住流水線(xiàn)甚至大量碎片。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:為了克服現(xiàn)有技術(shù)中易出現(xiàn)吸雙片導(dǎo)致產(chǎn)品生產(chǎn)異常的不足,本實(shí)用新型提供一種自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所要采用的技術(shù)方案是:一種自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置,包括兩條平行設(shè)置的輸送帶、紅外感應(yīng)器、激光掃描器、上機(jī)械手、下機(jī)械手和控制器,所述輸送帶一側(cè)設(shè)有用于掃描晶硅片側(cè)面影像的激光掃描器,所述上機(jī)械手設(shè)于兩輸送帶之間位置的上方,所述下機(jī)械手設(shè)于兩輸送帶之間位置的下方,所述輸送帶、紅外感應(yīng)器、激光掃描器、上機(jī)械手和下機(jī)械手均與所述控制器電路連接。

輸送帶用于輸送晶硅片,紅外感應(yīng)器用于感應(yīng)到晶硅片進(jìn)入激光掃描器的掃描范圍后向控制器傳輸信號(hào),控制器控制輸送帶停止,激光掃描器用于對(duì)晶硅片薄側(cè)面掃描成像,將掃描出來(lái)的像與預(yù)掃描的像進(jìn)行對(duì)比,預(yù)掃描的像為單個(gè)晶硅片的薄側(cè)面,如果掃描出的單個(gè)晶硅片的薄側(cè)面的像與預(yù)掃描的像相同或相似,則控制器給輸送帶通電使輸送帶繼續(xù)運(yùn)行,掃描出的兩個(gè)或兩個(gè)以上晶硅片的側(cè)面的像與預(yù)掃描的像不相似,則控制器控制下機(jī)械手抓住最下面的晶硅片不動(dòng),控制器控制上機(jī)械手將上面的多余的晶硅片取走,激光掃描器繼續(xù)掃描,當(dāng)掃描出的像與預(yù)設(shè)像相似后,輸送帶繼續(xù)向下流動(dòng)。采用激光掃描器對(duì)晶硅片側(cè)邊掃描成像,并與預(yù)設(shè)像進(jìn)行對(duì)比,并將多余的晶硅片取走,整個(gè)過(guò)程采用自動(dòng)化,節(jié)約人力,同時(shí)也避免人工疲勞而產(chǎn)生漏檢的問(wèn)題,避免了產(chǎn)品損壞。

進(jìn)一步,為了回收因吸雙片而多出的晶硅片,所述輸送帶遠(yuǎn)離所述激光掃描器的一側(cè)設(shè)有用于回收晶硅片的料盒。

進(jìn)一步,為了取片方便,所述上機(jī)械手包括第一真空吸盤(pán)以及用于控制所述第一真空吸盤(pán)于所述輸送帶和所述料盒之間往復(fù)運(yùn)動(dòng)的三維移動(dòng)機(jī)構(gòu),所述第一真空吸盤(pán)與所述三維移動(dòng)機(jī)構(gòu)輸出端固定連接。

進(jìn)一步,為了防止最下一層的晶硅片因晶硅片相互之間的吸力被第一真空吸盤(pán)吸走,所述下機(jī)械手包括第二真空吸盤(pán)以及用于驅(qū)動(dòng)所述第二真空吸盤(pán)靠近或遠(yuǎn)離所述輸送帶的氣缸,所述第二真空吸盤(pán)與所述氣缸輸出端固定連接。

本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型提供的一種自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置,采用激光掃描器對(duì)晶硅片側(cè)邊掃描成像,并與預(yù)設(shè)像進(jìn)行對(duì)比,并將多余的晶硅片取走,整個(gè)過(guò)程采用自動(dòng)化,節(jié)約人力,同時(shí)也避免人工疲勞而產(chǎn)生漏檢的問(wèn)題,避免了產(chǎn)品損壞。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型最佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是吸雙片時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中:1、輸送帶,2、紅外感應(yīng)器,3、激光掃描器,4、控制器,5、料盒,6、第一真空吸盤(pán),7、第二真空吸盤(pán),8、氣缸,9、三維移動(dòng)機(jī)構(gòu),10、晶硅片。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)的說(shuō)明。此圖為簡(jiǎn)化的示意圖,僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。

如圖1-2所示,本實(shí)用新型的一種自動(dòng)檢測(cè)雙片裝置,包括兩條平行設(shè)置的輸送帶1、紅外感應(yīng)器2、激光掃描器3、上機(jī)械手、下機(jī)械手和控制器4,所述輸送帶1一側(cè)設(shè)有用于掃描晶硅片10側(cè)面影像的激光掃描器3,所述上機(jī)械手設(shè)于兩輸送帶1之間位置的上方,所述下機(jī)械手設(shè)于兩輸送帶1之間位置的下方,所述輸送帶1、紅外感應(yīng)器2、激光掃描器3、上機(jī)械手和下機(jī)械手均與所述控制器4電路連接。

所述輸送帶1遠(yuǎn)離所述激光掃描器3的一側(cè)設(shè)有用于回收晶硅片10的料盒5。

所述上機(jī)械手包括第一真空吸盤(pán)6以及用于控制所述第一真空吸盤(pán)6于所述輸送帶1和所述料盒5之間往復(fù)運(yùn)動(dòng)的三維移動(dòng)機(jī)構(gòu)9,所述第一真空吸盤(pán)6與所述三維移動(dòng)機(jī)構(gòu)9輸出端固定連接,所述三維移動(dòng)機(jī)構(gòu)9將所述第一真空吸盤(pán)6移至晶硅片10上表面,第一真空吸盤(pán)6吸氣將多余晶硅片10吸住移送至所述料盒5內(nèi)。

所述下機(jī)械手包括第二真空吸盤(pán)7以及用于驅(qū)動(dòng)所述第二真空吸盤(pán)7靠近或遠(yuǎn)離所述輸送帶1的氣缸8,所述第二真空吸盤(pán)7與所述氣缸8輸出端固定連接,當(dāng)所述氣缸8輸出端伸出時(shí),所述第二真空吸盤(pán)7抵設(shè)在晶硅片10下底面,所述第二真空吸盤(pán)7吸氣將晶硅片10吸住保持晶硅片10位置不動(dòng)。

工作原理:

輸送帶1上輸送若干晶硅片10,當(dāng)晶硅片10移至紅外感應(yīng)器2上方時(shí),紅外感應(yīng)器2向控制器4傳輸信號(hào),控制器4控制輸送帶1停止,控制器4控制激光掃描器3對(duì)晶硅片10薄側(cè)面掃描成像,將掃描出來(lái)的像與預(yù)掃描的單個(gè)晶硅片10的薄側(cè)面進(jìn)行對(duì)比,掃描出的單個(gè)晶硅片10的薄側(cè)面的像與預(yù)掃描的像相似,則控制器4給輸送帶1通電使輸送帶1繼續(xù)運(yùn)行將晶硅片10流向下一道工序;掃描出的兩個(gè)或兩個(gè)以上晶硅片10的側(cè)面的像時(shí),因?yàn)榕c預(yù)掃描的像不相似,則控制器4控制下機(jī)械手抓住最下面的晶硅片10不動(dòng),控制器4控制上機(jī)械手將上面的多余的晶硅片10取走,激光掃描器3繼續(xù)掃描,當(dāng)掃描出的像與預(yù)設(shè)像相似后,輸送帶1通電繼續(xù)向下流動(dòng)。

以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示,通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容,相關(guān)的工作人員完全可以在不偏離本實(shí)用新型的范圍內(nèi),進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容,必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。

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