本實(shí)用新型涉及激光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

激光是由受激發(fā)射的光放大產(chǎn)生的輻射。激光有很多特性，首先，激光是單色的，或者說是單頻的，有一些激光器可以同時(shí)產(chǎn)生不同頻率的激光，但是這些激光是互相隔離的，使用時(shí)也是分開的；其次，激光是相干光，相干光的特征是其所有的光波都是同步的，整束光就好像一個(gè)“波列”；再次，激光是高度集中的，也就是說它要走很長的一段距離才會(huì)出現(xiàn)分散或者收斂的現(xiàn)象。在很多需要精密溫度控制的設(shè)備中經(jīng)?？梢钥吹桨雽?dǎo)體制冷器。對(duì)溫度及其敏感的組件往往與TEC和溫度監(jiān)視器集成到一個(gè)單一熱工程模塊。半導(dǎo)體制冷器也可以通過翻轉(zhuǎn)電流而制熱。TEC非常小的體積為精密控制單個(gè)組件（例如，光纖激光器驅(qū)動(dòng)器，高精度的參考電壓或任何溫度敏感型設(shè)備）的溫度提供了可能。

我們都知道，對(duì)于我們所使用的450nm激光光源系統(tǒng)來說，為保證使用性能的長期穩(wěn)定，應(yīng)該具備良好的散熱性、溫度的可控性以及散熱的迅捷性，但是，傳統(tǒng)的450nm激光光源系統(tǒng)一般只通過水冷系統(tǒng)來進(jìn)行散熱，而水冷系統(tǒng)雖然制冷量大，但是不能精確的控制溫度，這樣，450nm激光光源系統(tǒng)的壽命就很短，同時(shí)限制了450nm激光光源系統(tǒng)的功率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，而提出的一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案：

一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，包括風(fēng)冷模塊、半導(dǎo)體TEC制冷模塊、激光模塊和水冷模塊，所述激光模塊采用450nm激光光源，所述激光模塊上安裝有半導(dǎo)體TEC制冷模塊和水冷模塊，所述水冷模塊作用于激光模塊，且水冷模塊寬幅調(diào)節(jié)激光模塊的溫度，所述半導(dǎo)體TEC制冷模塊作用于激光模塊，且半導(dǎo)體TEC制冷模塊精確調(diào)節(jié)激光模塊的溫度，所述半導(dǎo)體TEC制冷模塊上安裝有風(fēng)冷模塊，所述風(fēng)冷模塊作用于半導(dǎo)體TEC制冷模塊，且風(fēng)冷模塊寬幅調(diào)節(jié)半導(dǎo)體TEC制冷模塊的溫度。

優(yōu)選的，所述激光模塊為二極管激光器。

優(yōu)選的，所述風(fēng)冷模塊設(shè)有多組，且至少有兩組，風(fēng)冷模塊呈直線排列或者圓周排列。

優(yōu)選的，所述風(fēng)冷模塊為制冷壓縮機(jī)，水冷模塊為激光水冷機(jī)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型水冷模塊作用于激光模塊，且水冷模塊寬幅調(diào)節(jié)激光模塊的溫度，半導(dǎo)體TEC制冷模塊作用于激光模塊，且半導(dǎo)體TEC制冷模塊精確調(diào)節(jié)激光模塊的溫度，風(fēng)冷模塊作用于半導(dǎo)體TEC制冷模塊，且風(fēng)冷模塊寬幅調(diào)節(jié)半導(dǎo)體TEC制冷模塊的溫度，從而通過水冷模塊和半導(dǎo)體TEC制冷模塊可以精確地控制激光模塊的溫度;本實(shí)用新型不僅可以提供足夠大的制冷量，同時(shí)功率可以做得更大，兩種制冷方式聯(lián)合制冷，溫度控制精度可以做到0.1度以下，溫度控制更穩(wěn)定，激光使用壽命更長。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型提出的一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)的邏輯框圖。

圖中：1風(fēng)冷模塊、2半導(dǎo)體TEC制冷模塊、3激光模塊、4水冷模塊。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

參照?qǐng)D1，一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，包括風(fēng)冷模塊1、半導(dǎo)體TEC制冷模塊2、激光模塊3和水冷模塊4，激光模塊3采用450nm激光光源，激光模塊3上安裝有半導(dǎo)體TEC制冷模塊2和水冷模塊4，水冷模塊4作用于激光模塊3，且水冷模塊4寬幅調(diào)節(jié)激光模塊3的溫度，半導(dǎo)體TEC制冷模塊2作用于激光模塊3，且半導(dǎo)體TEC制冷模塊2精確調(diào)節(jié)激光模塊3的溫度，半導(dǎo)體TEC制冷模塊2上安裝有風(fēng)冷模塊1，風(fēng)冷模塊1作用于半導(dǎo)體TEC制冷模塊2，且風(fēng)冷模塊1寬幅調(diào)節(jié)半導(dǎo)體TEC制冷模塊2的溫度，激光模塊3為二極管激光器，風(fēng)冷模塊1設(shè)有多組，且至少有兩組，風(fēng)冷模塊1呈直線排列或者圓周排列，風(fēng)冷模塊1為制冷壓縮機(jī)，水冷模塊4為激光水冷機(jī)。

水冷模塊4作用于激光模塊3，且水冷模塊4寬幅調(diào)節(jié)激光模塊3的溫度，半導(dǎo)體TEC制冷模塊2作用于激光模塊3，且半導(dǎo)體TEC制冷模塊2精確調(diào)節(jié)激光模塊3的溫度，風(fēng)冷模塊1作用于半導(dǎo)體TEC制冷模塊2，且風(fēng)冷模塊1寬幅調(diào)節(jié)半導(dǎo)體TEC制冷模塊2的溫度，從而通過水冷模塊4和半導(dǎo)體TEC制冷模塊2可以精確地控制激光模塊3的溫度。

以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。