本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

有機發(fā)光二極管顯示面板，由于其具有低制造成本、高應(yīng)答速度、省電、可用于便攜式設(shè)備的直流驅(qū)動、工作溫度范圍大等優(yōu)點，從而越來越多地被應(yīng)用于各種高性能顯示領(lǐng)域當中。

由于噴墨打印技術(shù)具有操作簡單、成本低廉、易于實現(xiàn)大尺寸以及材料利用率較高等優(yōu)點，因此在制作有機發(fā)光二極管顯示面板時，通常采用噴墨打印技術(shù)形成有機發(fā)光二極管顯示面板中的有機層。具體的，形成有機發(fā)光二極管顯示面板的有機層的方法為：根據(jù)所需成膜的厚度確定出所需打印的墨水的體積，并將該墨水滴入像素界定層中；然后進行干燥成膜以形成有機層。

然而，采用現(xiàn)有的噴墨打印方法形成有機層時，墨水在像素界定層的邊緣攀爬高度較大，使得形成的有機層的厚度很不均勻，從而使得顯示器出現(xiàn)亮度不均的情況，降低顯示器的顯示質(zhì)量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實施例提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置，用于提高形成的有機層的膜厚均勻性。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實施例的一方面，提供一種顯示面板的制作方法，所述顯示面板具有多個呈矩陣形式排列的像素區(qū)域，顯示面板的制作方法包括形成像素界定層的方法：在基板上形成像素界定材料層，所述像素界定材料層的厚度小于一預(yù)設(shè)厚度；其中，所述預(yù)設(shè)厚度的范圍為1.45μm～1.55μm；通過構(gòu)圖工藝在對應(yīng)所述像素區(qū)域的位置形成開孔，相鄰兩個所述開孔之間具有間隔物。

可選的，還包括在所述像素界定層的開孔內(nèi)，形成一層功能薄膜層的方法：向所述像素界定層的開孔內(nèi)滴入具有預(yù)設(shè)計量的墨滴，并對所述墨滴進行干燥以形成初級薄膜層；其中，構(gòu)成所述墨滴的材料與構(gòu)成所述功能薄膜層的材料相同；多次重復(fù)上述步驟，在所述開孔內(nèi)形成多個依次堆疊的所述初級薄膜層；其中，材料相同的多個依次堆疊的所述初級薄膜層構(gòu)成一層所述功能薄膜層。

進一步的，向所述像素界定層的開孔內(nèi)滴入具有預(yù)設(shè)計量的墨滴，當所述墨滴與所述像素界定層的接觸角小于或等于60°時，所述多次重復(fù)上述步驟包括重復(fù)1～10次上述步驟。

可選的，還包括對所述間隔物的側(cè)壁進行疏水性處理。

可選的，所述間隔物的縱向截面形狀為梯形或矩形，所述縱向截面與所述基板垂直。

進一步的，當所述間隔物的縱向截面形狀為梯形，所述梯形的長邊背離所述基板，所述梯形的短邊靠近所述基板；其中，所述間隔物的側(cè)壁與基板之間的夾角范圍為30°～75°。

可選的，所述功能薄膜層包括空穴注入層、空穴傳輸層、有機發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層中的任意一種。

可選的，當所述功能薄膜層為有機發(fā)光層時，構(gòu)成所述有機發(fā)光層的材料為高分子聚合物材料或小分子材料。

本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種采用如上所述的顯示面板的制作方法制備的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括像素界定層，所述像素界定層包括與像素區(qū)域的位置相對應(yīng)的開孔，以及位于相鄰兩個所述開孔之間的間隔物；所述間隔物的厚度小于一預(yù)設(shè)厚度，其中，所述預(yù)設(shè)厚度的范圍為1.45μm～1.55μm。

本發(fā)明實施例的又一方面，提供一種顯示裝置，包括如上所述的顯示面板。

本發(fā)明實施例提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置，該顯示面板具有多個呈矩陣形式排列的像素區(qū)域，顯示面板的制作方法包括形成像素界定層的方法：具體的，在基板上形成像素界定材料層，通過構(gòu)圖工藝在對應(yīng)像素區(qū)域的位置形成開孔，相鄰兩個開孔之間具有間隔物。其中，像素界定材料層的厚度小于一預(yù)設(shè)厚度，該預(yù)設(shè)厚度的范圍為1.45μm～1.55μm。

這樣一來，由于像素界定材料層的厚度小于1.45μm～1.55μm，則形成的像素界定層的開孔的高度H也小于1.45μm～1.55μm，在開孔內(nèi)形成有機材料功能層的功能薄膜層時，墨水在開孔內(nèi)攀爬的高度也降低，因此使得形成的功能薄膜層的邊緣部分的高度與中間部分的高度之差降低，從而使得形成的功能薄膜層的膜厚更加均勻，進而提高了形成的功能薄膜層的膜厚均勻性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的制作方法流程示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的一種在基板上形成像素界定材料層的示意圖；

圖3為在圖2所示的基板上形成開孔以及間隔物的示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種間隔物的縱向截面的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的另一種間隔物的縱向截面的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種形成功能薄膜層的制作方法流程示意圖；

圖7a-7c為本發(fā)明實施例提供的一種在圖3所示的開孔內(nèi)形成功能薄膜層的過程示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的一種對滴有墨滴的基板進行干燥的示意圖。

附圖標記：

01-顯示面板；10-基板；20-像素界定材料層；21-像素界定層；201-間隔物；202-開孔；31-初級薄膜層；40-功能薄膜層；50-真空干燥機。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種如圖3所示的顯示面板01的制作方法，該顯示面板01具有多個呈矩陣形式排列的像素區(qū)域，上述顯示面板01的制作方法包括形成如圖3所示的像素界定層21的方法，具體的，如圖1所示：

步驟S101、在如圖2所示的基板10上形成像素界定材料層20。像素界定材料層20的厚度F小于一預(yù)設(shè)厚度，其中，預(yù)設(shè)厚度的范圍為1.45μm～1.55μm。

需要說明的是，本發(fā)明對上述基板10不做限定，例如可以為陣列基板?；蛘咴趯︼@示裝置進行某一測試時，為了避免采用真實的顯示裝置進行測試，可以在任一基板上形成像素界定材料層20，該基板可以為玻璃基板或者透明樹脂等。

步驟S102、通過構(gòu)圖工藝在對應(yīng)像素區(qū)域的位置形成如圖3所示的開孔202，相鄰兩個開孔202之間具有間隔物201。上述開孔202和間隔物201構(gòu)成像素界定層21。

需要說明的是，第一、上述構(gòu)圖工藝，可指包括光刻工藝，或包括光刻工藝以及刻蝕步驟，同時還可以包括打印噴墨等其他用于形成預(yù)定圖形的工藝；光刻工藝，是指包括成膜、曝光、顯影等工藝過程的利用光刻膠、掩模板、曝光機等形成圖形的工藝。可根據(jù)本發(fā)明中所形成的結(jié)構(gòu)選擇相應(yīng)的構(gòu)圖工藝。

第二、本發(fā)明對間隔物201的縱向截面A的形狀不做限定。例如如圖3或4所示，間隔物201的縱向截面A的形狀為梯形，或者如圖5所示為矩形，其中，上述縱向截面A與基板10垂直。

這樣一來，由于像素界定材料層20的厚度F小于1.45μm～1.55μm，則形成的像素界定層21的開孔202的高度H也小于1.45μm～1.55μm；在開孔202內(nèi)形成如圖7c所示的有機材料功能層的功能薄膜層40時，墨水在開孔202內(nèi)攀爬的高度K也降低，因此使得形成的功能薄膜層40的邊緣部分的高度K與中間部分的高度J之差降低，從而使得形成的功能薄膜層40的膜厚更加均勻，進而提高了形成的功能薄膜層40的膜厚均勻性。

進一步的，本發(fā)明實施例提供的顯示面板01的制作方法還包括，在圖4所示的像素界定層21的開孔202內(nèi)，形成有機材料功能層。該有機材料功能層包括具有多個不同功能的功能薄膜層40。其中，該功能薄膜層40可以為空穴注入層、空穴傳輸層、有機發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層中的任意一種，本發(fā)明對此不做限定。

在此情況下，當上述像素界定材料層20的厚度F小于1.45μm～1.55μm時，為了防止在開孔202內(nèi)形成如圖7b所示的功能薄膜層40時，滴入開孔202內(nèi)的墨水發(fā)生溢流，優(yōu)選的，如圖6所示，形成上述功能薄膜層40的方法包括：

步驟S201、如圖7a所示，向像素界定層21的開孔202內(nèi)滴入具有預(yù)設(shè)計量的墨滴E，并對墨滴E進行干燥以形成如圖7b所示的初級薄膜層31；其中，構(gòu)成墨滴E的材料與構(gòu)成功能薄膜層40的材料相同。

其中，確定預(yù)設(shè)計量的墨滴E的方法為：選定制作功能薄膜層40所需的墨水，在形成的功能薄膜層40的厚度確定后，根據(jù)墨水的特性計算出打印時所需的墨水的體積，然后計算出單次滴入開孔202內(nèi)的墨滴E的計量，使得墨滴E滴入開孔202后，位于開孔202上方的墨滴E的接觸角θ小于60°，此時墨滴E的計量即為預(yù)設(shè)計量。例如，假設(shè)形成厚度為0.06μm的功能薄膜層40時，打印時所需的墨水的體積為24pl，在保證位于開孔202上方的墨滴E的接觸角θ小于60°的情況下，計算出單次滴入墨滴E的計量為8pl，其中，8pl即為預(yù)設(shè)計量。如圖7a所示，具有預(yù)設(shè)計量的墨滴E滴入開孔202后，墨滴E的部分在開孔202的上方，當墨滴E的接觸角θ小于60°時，墨滴E不會發(fā)生溢流。這樣一來，在形成初級薄膜層31時，墨滴E不會發(fā)生溢流，進而不會對周圍的開孔202內(nèi)形成功能薄膜層40時造成影響。

其中，對上述墨滴E進行干燥的方法可以為：將滴有墨滴E的基板10放入如圖8所示的真空干燥機50中進行干燥。由于真空干燥機50的干燥速度較快，因此可以減少形成初級薄膜層31的工藝時間。

步驟S202、多次重復(fù)上述步驟，在開孔202內(nèi)形成如圖7c所示的多個依次堆疊的初級薄膜層31；其中，材料相同的多個依次堆疊的初級薄膜層31構(gòu)成一層功能薄膜層40。

需要說明的是，當重復(fù)上述步驟的次數(shù)大于10次時，會增加形成功能薄膜層40的工藝時間，從而使得制作功能薄膜層40的工藝復(fù)雜，進而增加了制作成本?；诖耍瑑?yōu)選的，向像素界定層21的開孔202內(nèi)滴入具有預(yù)設(shè)計量的墨滴E，當墨滴E與像素界定層21的接觸角θ小于或等于60°，上述多次重復(fù)上述步驟包括：重復(fù)1～10次上述步驟。這樣一來，在形成功能薄膜層40時，在降低墨滴E發(fā)生溢流的幾率的同時，也不增加形成功能薄膜層40的時間。

基于此，與現(xiàn)有技術(shù)中一次將所需的墨水一次滴入像素界定層21的開孔202內(nèi)相比，本發(fā)明通過在像素界定層21的開孔202內(nèi)多次滴入預(yù)設(shè)計量的墨滴E，并進行干燥以形成初級薄膜層31，多個材料相同的初級薄膜層31構(gòu)成功能薄膜層40，因此在開孔202內(nèi)形成功能薄膜層40時不會發(fā)生溢流。

在此情況下，當功能薄膜層40包括有機發(fā)光層時，構(gòu)成有機發(fā)光層的材料可以為高分子聚合物材料，此時可以形成PLED(polymer light-emitting diode，中文名稱：高分子發(fā)光二極管)顯示面板；或者構(gòu)成有機發(fā)光層的材料為小分子材料，此時可以形成OLED顯示面板。以下，以形成PLED顯示面板中的有機發(fā)光層為例，對形成功能薄膜層40的方法進行說明。本實施例中，以單次滴入墨滴E的計量均為8pl為例，對如圖7a所示的開孔202的高度H(單位：μm)變化時，滴入的墨滴E與像素界定層21的接觸角θ以及墨滴E超出開孔202的高度N進行舉例說明。

表1

由表1可以看出，在單次滴入開孔202內(nèi)的墨滴E的計量不變的情況下，隨著開孔202的高度H的降低，墨滴E超出開孔202的高度N逐漸增大，同時滴入的墨滴E的接觸角θ逐漸增大，但接觸角θ均小于60°，因此不會發(fā)生溢流。

由上述描述以及表1可知，在將像素界定材料層20的高度F制作的較低，即形成開孔202的高度H降低時，當將單次墨滴E的計量控制為預(yù)設(shè)計量，在形成功能薄膜層40的過程中不會發(fā)生溢流。此時，由于開孔202的高度H降低，因此形成初級薄膜層31時，墨滴E在開孔202的攀爬的高度L也會降低，從而使得形成的功能薄膜層40的邊緣部分的高度K與中間部分的高度J之差降低，從而使得形成的功能薄膜層40的膜厚更加均勻。

在此基礎(chǔ)上，為了進一步降低墨滴E在開孔202內(nèi)攀爬的高度L，可以利用間隔物201的側(cè)壁B對墨滴E在開孔202內(nèi)的攀爬進行抑制。例如，當間隔物201的縱向截面形狀為梯形時，如圖4所示，梯形的長邊T背離基板10，梯形的短邊X靠近基板10。此時對滴入開孔202內(nèi)的墨滴E進行干燥時，間隔物201的側(cè)壁B均向靠近基板10的一側(cè)傾斜，傾斜的側(cè)壁B會對墨滴E在開孔202的攀爬起到一定的抑制作用，從而降低了墨滴E在開孔202內(nèi)攀爬的高度L。

在此情況下，如圖4所示，當間隔物201的側(cè)壁B與基板10之間的夾角α小于30°時，若保證開孔202的頂邊長度不變，會造成開孔22的底邊太長，使得形成的功能薄膜層40的底面較寬，由于像素界定層21的像素區(qū)域一定，未與像素區(qū)域?qū)?yīng)的功能薄膜層40的部分會無法實現(xiàn)有效出光，因此造成該部分的功能薄膜層40的浪費；若保證開孔202的底邊長度不變，會造成開孔202的頂邊太短，即開孔202的開口較小，因此在向開孔202滴入墨滴E時，墨滴E進入開孔202內(nèi)的速率變慢，容易發(fā)生溢流。

當間隔物201的側(cè)壁B與基板10之間的夾角α大于75°時，間隔物201的側(cè)壁B向基板10一側(cè)的傾斜角度變小，墨滴E易在側(cè)壁B上進行攀爬，從而使得側(cè)壁B抑制墨滴E在開孔202內(nèi)的攀爬的高度L的效果不明顯。

因此優(yōu)選的，間隔物201的側(cè)壁B與基板10之間的夾角α的范圍是30°～75°，基于此，在開孔202內(nèi)形成功能薄膜層40時，一方面，不會造成功能薄膜層40的浪費，且在向開孔202內(nèi)滴入墨滴E時，墨滴E不易發(fā)生溢流；另一方面，間隔物201的側(cè)壁B可以很好的抑制墨滴E在開孔202內(nèi)的攀爬高度。

進一步的，為了進一步降低墨滴E在開孔202內(nèi)的攀爬高度，可以對間隔物201的側(cè)壁B進行疏水性處理。

需要說明的是，本發(fā)明對疏水性處理的方式不做限定，例如可以為在間隔物201的側(cè)壁B涂覆一層疏水性劑?；蛘撸瑢﹂g隔物201的側(cè)壁B進行疏水性處理，以使得側(cè)壁B中的親水基團的物質(zhì)，如羥基、羧基等，與帶長鏈烷基的環(huán)氧化物、鹵化酞基、鹵化物、異氰酸進行化學(xué)反應(yīng)或酸配反應(yīng)，在親水基團鏈接一定數(shù)目的疏水基團，如烷基疏水集團、碳氟疏水性基團等，從而使該物質(zhì)親水基團變?yōu)槭杷鶊F，由親水性變?yōu)槭杷浴?/p>

這樣一來，在對開孔202內(nèi)滴入的墨滴E進行干燥時，由于間隔物201的側(cè)壁B進行了疏水性處理，墨滴E中的溶劑不易在側(cè)壁B上進行攀爬，從而降低了墨滴E在開孔202內(nèi)攀爬的高度L。

本發(fā)明實施例提供一種采用如上所述的顯示面板01的制作方法制備的顯示面板01，顯示面板01如圖4所示，包括像素界定層21，像素界定層21包括與像素區(qū)域的位置相對應(yīng)的開孔202，以及位于相鄰兩個開孔202之間的間隔物201。其中，像素界定層21的厚度H小于一預(yù)設(shè)厚度，該預(yù)設(shè)厚度的范圍為1.45μm～1.55μm。

這樣一來，由于像素界定材料層20的厚度F小于1.45μm～1.55μm，則形成的像素界定層21的開孔202的高度H也小于1.45μm～1.55μm；在開孔202內(nèi)形成如圖7c所示的有機材料功能層的功能薄膜層40時，墨水在開孔202內(nèi)攀爬的高度K也降低，因此使得形成的功能薄膜層40的邊緣部分的高度K與中間部分的高度J之差降低，從而使得形成的功能薄膜層40的膜厚更加均勻，進而提高了形成的功能薄膜層40的膜厚均勻性。

本發(fā)明實施例提供一種顯示裝置，包括如上所述的顯示面板01，具有與前述實施例提供的顯示面板01相同的結(jié)構(gòu)和有益效果，由于前述實施例已經(jīng)對該顯示面板01的結(jié)構(gòu)和有益效果進行了詳細的描述，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。