本發(fā)明涉及一種電子槍?zhuān)绕渖婕皻怏w放電電子槍及應(yīng)用該電子槍的帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)。

背景技術(shù)：

目前，工業(yè)生產(chǎn)用電子槍包括熱陰極電子槍和氣體放電電子槍。

百千瓦級(jí)的電子槍?zhuān)ㄟ^(guò)在真空或低氣壓環(huán)境下的高效率、高密度的加熱、熔化、焊接、蒸發(fā)和沉積過(guò)程，在航空航天、原子能、新能源和現(xiàn)代制造工業(yè)等領(lǐng)域有重要應(yīng)用，例如可用于：所有高熔點(diǎn)材料金屬、陶瓷、合金材料的熔化、提純和制備；各種單一和復(fù)雜的金屬、合金、陶瓷的單層和多層膜的沉積；各種沉積靶材及靶的制備；年產(chǎn)千萬(wàn)噸級(jí)的鋼帶表面鍍膜；高性能電觸點(diǎn)材料的生產(chǎn)；深層焊接；微粉和微孔材料的制備；同位素分離等。

熱陰極電子槍要正常工作需要以下幾項(xiàng)條件：一、高真空；二、需要燈絲電源、副高壓電源和主高壓電源；三、需要操作員工有較高的經(jīng)驗(yàn)技術(shù)。以上三個(gè)基本的前提條件決定了電子槍系統(tǒng)需要配置：高真空抽系統(tǒng)；燈絲變壓器、副高壓變壓器等電源系統(tǒng)等裝置設(shè)備；以及較有經(jīng)驗(yàn)的操作員工。因此，熱陰極電子槍結(jié)構(gòu)復(fù)雜，制造精度要求較高，配制輔助設(shè)備較多，對(duì)操作人員的技能、經(jīng)驗(yàn)要求高，相應(yīng)的制造和使用成本較高。

大功率熱陰極電子槍技術(shù)至今主要由德國(guó)兩大公司控制。

相較于熱陰極電子槍?zhuān)瑲怏w放電型大功率電子槍是首先在烏克蘭發(fā)展起來(lái)的一種新型電子槍。該槍的性能很多技術(shù)指標(biāo)均優(yōu)于傳統(tǒng)的熱陰極電子槍?zhuān)€具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，適合廣泛推廣和應(yīng)用。

在氣體放電電子槍領(lǐng)域，目前除烏克蘭之外，中國(guó)是最早從烏克蘭引進(jìn)氣體放電電子槍的設(shè)備的國(guó)家。如青海聚能鈦業(yè)有限公司、東方鉭業(yè)，寶山鋼鐵公司等，都較早認(rèn)識(shí)到這項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)，較早開(kāi)始從烏克蘭引進(jìn)了配備有氣體放電電子槍的裝備。各引進(jìn)設(shè)備的企業(yè)在槍的仿制方面有一定進(jìn)展，但離徹底成功還有相當(dāng)距離。北京長(zhǎng)城鈦金公司最先獲得烏克蘭提供的氣體放電槍的基本技術(shù)資料，于2011年5月在北京市海淀區(qū)取得了氣體放電槍的研制立項(xiàng)，已掌握氣體放電電子槍的設(shè)計(jì)生產(chǎn)技術(shù)。

從技術(shù)發(fā)展的總體來(lái)看，我國(guó)在世界氣體放電電子槍方面已是第二個(gè)開(kāi)始掌握這項(xiàng)技術(shù)的國(guó)家，但使用氣體放電電子槍的各種設(shè)備、工藝和應(yīng)用還急待進(jìn)一步的工作。

無(wú)論是國(guó)外制造的設(shè)備，還是我國(guó)仿制的外國(guó)設(shè)備，氣體放電電子槍目前都還僅限于軸對(duì)稱(chēng)的直槍?zhuān)此^的“皮爾斯槍”。

在前述的眾多領(lǐng)域，氣體放電電子槍都能起關(guān)鍵作用。例如，我國(guó)鋼產(chǎn)量已經(jīng)連續(xù)好幾年保持世界第一了，目前的鋼產(chǎn)量約是世界總產(chǎn)量的一半。比如，2014年，全國(guó)粗鋼產(chǎn)量8.2億噸，鋼材(含重復(fù)材)產(chǎn)量11.3億噸。我國(guó)帶材年產(chǎn)量約6000萬(wàn)噸，通常，帶材需要進(jìn)行表面鍍膜才能投入使用，相應(yīng)地，我國(guó)鍍層鋼帶年產(chǎn)量約6000萬(wàn)噸。鋼帶鍍膜是一個(gè)巨大的市場(chǎng)，但是，當(dāng)前只依靠熱浸鍍鋅和電鍍錫等方法生產(chǎn)，因而，如能在帶材鍍膜領(lǐng)域有效地應(yīng)用氣體放電電子槍?zhuān)瑒t效益是巨大的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明目的之一是提供一種氣體放電電子槍?zhuān)淠軌蛴行У赝卣闺娮訕屧诠I(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。

本發(fā)明之另一目的是提供一種帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)，其能夠?qū)怏w放電電子槍?xiě)?yīng)用于帶材鍍膜。

本發(fā)明提供一種面板型電子束的氣體放電電子槍?zhuān)ǎ宏帢O，用于發(fā)射電子，該陰極的發(fā)射電子的表面為沿縱向直線(xiàn)延伸的圓弧面，該表面的橫向截交線(xiàn)均為相同的圓弧形；陽(yáng)極，用于與所述陰極之間形成電場(chǎng)，并且，所述陰極和所述陽(yáng)極構(gòu)成一個(gè)氣體異常輝光放電腔，以形成從所述陰極發(fā)射出的電子束；以及陰陽(yáng)極絕緣件，設(shè)置于所述陰極和所述陽(yáng)極之間，以使所述陰極和所述陽(yáng)極之間絕緣，其中，所述陽(yáng)極還包括面對(duì)所述陰極的喉孔，該喉孔為與所述陰極的發(fā)射電子的表面相應(yīng)的沿所述縱向延伸的狹長(zhǎng)開(kāi)口；并且，從所述陰極發(fā)射出的電子束是橫截面為矩形的面板型電子束，該面板型電子束穿過(guò)所述喉孔射出。

作為優(yōu)選方式，所述的氣體放電電子槍還包括進(jìn)氣孔，用于向所述放電腔中通入氣體。

作為優(yōu)選方式，所述圓弧形的圓心可以不超過(guò)所述喉孔而位于所述放電腔內(nèi)，可以位于所述喉孔處，也可以超過(guò)所述喉孔而位于所述陽(yáng)極外面。

作為優(yōu)選方式，所述氣體放電電子槍還包括用于控制射出所述喉孔的面板型電子束的線(xiàn)圈，所述線(xiàn)圈的繞法設(shè)置為使所述線(xiàn)圈形成的磁場(chǎng)沿所述橫向從上、下兩個(gè)方向?qū)λ雒姘逍碗娮邮M(jìn)行壓縮，而不沿所述縱向從兩側(cè)對(duì)所述面板型電子束進(jìn)行壓縮；并且，所述線(xiàn)圈包括聚焦線(xiàn)圈、掃描線(xiàn)圈和偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈中的至少一種。

作為優(yōu)選方式，所述陰極是水冷陰極，該水冷陰極的材料是鋁合金。

作為優(yōu)選方式，所述陰極的發(fā)射電子的表面的縱向尺寸的范圍是250～2500毫米，橫向尺寸的范圍是10～100毫米；并且，所述喉孔的縱向尺寸的范圍是250～2500毫米，橫向尺寸的范圍是5～100毫米。

作為優(yōu)選方式，所述陰極的發(fā)射電子的表面的縱向尺寸的范圍是300～2200毫米，橫向尺寸的范圍20～50毫米；并且，所述喉孔的縱向尺寸的范圍是300～2200毫米，橫向尺寸的范圍是10～50毫米。

本發(fā)明還提供一種帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)，包括蒸鍍單元，該蒸鍍單元包括前面所述的氣體放電電子槍?zhuān)允褂糜诮o帶材鍍膜的料材融化在所述蒸鍍單元的蒸發(fā)源中。

作為優(yōu)選方式，所述蒸鍍單元包括真空室；待鍍的帶材在所述真空室的頂部連續(xù)地移動(dòng)；所述氣體放電電子槍和用于傳送所述料材的送料室分別位于所述真空室的兩側(cè)；所述氣體放電電子槍布置成使從陰極的發(fā)射出的面板型電子束的平面方向大致平行于在所述真空室的頂部移動(dòng)的帶材的方向，并且，所述氣體放電電子槍包括偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈，使所述面板型電子束經(jīng)彎曲后向下射入所述真空室，從而擊打從所述真空室的另一側(cè)輸送的料材而使所述料材融化在所述蒸發(fā)源中。

作為優(yōu)選方式，所述真空室中還設(shè)置有強(qiáng)化電離電極。

本發(fā)明的氣體放電電子槍能夠有效地拓展電子槍在工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。

本發(fā)明的帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的蒸鍍單元采用面板型電子束的氣體放電電子槍?zhuān)瑥亩軌蛞砸环N新的生產(chǎn)方式大規(guī)模地給帶材鍍膜，生產(chǎn)效率高，工藝簡(jiǎn)單。

附圖說(shuō)明

下面將簡(jiǎn)要說(shuō)明本申請(qǐng)所使用的附圖，顯而易見(jiàn)地，這些附圖僅用于解釋本發(fā)明的構(gòu)思。

圖1是本發(fā)明的氣體放電電子槍第一實(shí)施例的沿橫向剖切的剖視示意圖。

圖2是本發(fā)明的氣體放電電子槍第一實(shí)施例的沿縱向剖切的剖視示意圖。

圖3是本發(fā)明的氣體放電電子槍第一實(shí)施例的俯視示意圖。

圖4是本發(fā)明的氣體放電電子槍第一實(shí)施例的仰視示意圖。

圖5是本發(fā)明的氣體放電電子槍第二實(shí)施例的沿橫向剖切的剖視示意圖。

圖6是本發(fā)明的氣體放電電子槍第二實(shí)施例的沿縱向剖切的剖視示意圖。

圖7是本發(fā)明的氣體放電電子槍第二實(shí)施例的俯視示意圖。

圖8是本發(fā)明的氣體放電電子槍第二實(shí)施例的仰視示意圖。

圖9是本發(fā)明的第三實(shí)施例的帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的示意圖。

具體實(shí)施方式

在下文中，將參照附圖描述本發(fā)明的氣體放電電子槍以及帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的實(shí)施例。

在此記載的實(shí)施例為本發(fā)明的特定的具體實(shí)施方式，用于說(shuō)明本發(fā)明的構(gòu)思，均是解釋性和示例性的，不應(yīng)解釋為對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式及本發(fā)明范圍的限制。除在此記載的實(shí)施例外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還能夠基于本申請(qǐng)權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū)所公開(kāi)的內(nèi)容采用顯而易見(jiàn)的其它技術(shù)方案，這些技術(shù)方案包括對(duì)在此記載的實(shí)施例做出任何顯而易見(jiàn)的替換和修改的技術(shù)方案。

本說(shuō)明書(shū)的附圖為示意圖，輔助說(shuō)明本發(fā)明的構(gòu)思，示意性地表示各部分的形狀及其相互關(guān)系。請(qǐng)注意，為了便于清楚地表現(xiàn)出本發(fā)明實(shí)施例的各部分的結(jié)構(gòu)，各附圖之間不一定按照相同的比例繪制。相同或相似的參考標(biāo)記用于表示相同或相似的部分。

第一實(shí)施例

參見(jiàn)圖1-4，本實(shí)施例提供的面板型電子束的氣體放電電子槍包括陽(yáng)極1、陰極2和陰陽(yáng)極絕緣件3，還包括輔助裝置4。

陰極2用于發(fā)射電子，包括陰極發(fā)射件22和陰極保護(hù)環(huán)23，陰極保護(hù)環(huán)23共同設(shè)置于陰陽(yáng)極絕緣件3，以?shī)A緊陰極發(fā)射件22。參見(jiàn)圖1和2，陰極發(fā)射件22的發(fā)射電子的表面21為沿縱向直線(xiàn)延伸的圓弧面，該表面的橫向截交線(xiàn)如圖所示均為相同的圓弧形，在圖1和2中，陰極保護(hù)環(huán)23的外端與陰極發(fā)射件22的發(fā)射表面21的沿縱向直線(xiàn)延伸的兩側(cè)平齊。

陰陽(yáng)極絕緣件3設(shè)置于陰極2和陽(yáng)極1之間，以使陰極2和陽(yáng)極1之間絕緣。

陽(yáng)極1用于與陰極2之間形成電場(chǎng)，并且，陽(yáng)極1為筒形，與陰極2一起構(gòu)成一個(gè)氣體異常輝光放電腔，在該放電腔內(nèi)產(chǎn)生異常輝光放電的等離子體，等離子體中的離子轟擊水冷陰極產(chǎn)生用以形成束流的電子，由此，形成從陰極22的發(fā)射表面21發(fā)射出的電子束。

在圖1和2所示實(shí)施例中，為了加工方便，陽(yáng)極1采用分體的形式，包括陽(yáng)極筒體12和前端蓋13，該前端蓋13的中心部位設(shè)置有喉孔14。在陽(yáng)極筒體12和前端蓋13之間設(shè)置有密封圈，如圖所示。在陽(yáng)極筒體12的外側(cè)還包括陽(yáng)極外壁11，以形成水冷夾層，對(duì)陽(yáng)極1進(jìn)行冷卻。

如圖1、2和4所示，喉孔14為與陰極2的發(fā)射表面21相應(yīng)的沿縱向延伸的狹長(zhǎng)開(kāi)口，并且，從陰極2發(fā)射出的電子束是橫截面為矩形的面板型電子束，該面板型電子束穿過(guò)喉孔14射出。

可以將喉孔14設(shè)置為音速界面，當(dāng)所發(fā)射的電子束在喉孔14處達(dá)到音速，則陽(yáng)極外的擾動(dòng)對(duì)放電腔里面的電子束形成無(wú)影響。

圖1示出了圓弧形的發(fā)射表面21，所述圓弧形的圓心超過(guò)喉孔14而位于陰極2的外面，因此，從表面21發(fā)射的眾多電子集束為會(huì)聚于陽(yáng)極1的外面。不過(guò)，本發(fā)明的電子槍的發(fā)射表面的21的圓弧形的圓心可以不超過(guò)喉孔14而位于所述放電腔內(nèi)，還可以位于喉孔14處。發(fā)射表面21的圓弧形的圓心的位置可以根據(jù)具體的需要來(lái)確定，主要需考慮的因素是希望利用或調(diào)節(jié)哪一段的電子束。也就是說(shuō)，發(fā)射表面21的焦距可調(diào)，前伸或后拉均可，設(shè)計(jì)者根據(jù)需要在靶面上使用合適的電子束圖形。

如圖1和2所示，經(jīng)過(guò)放電腔的作用，從表面21發(fā)射的眾多電子形成為會(huì)聚的電子束，并且，電子束是橫截面為矩形的面板型電子束，沿橫向從上、下兩個(gè)方面逐漸受到壓縮進(jìn)而會(huì)聚，而沿縱向從兩側(cè)并沒(méi)有受到壓縮，因而形成為面板型電子束。

在本實(shí)施例中，輔助裝置4包括出水管41、進(jìn)水管42、真空測(cè)量孔43和進(jìn)氣孔44等。如圖2清楚所示，所述陰極是水冷陰極，進(jìn)水管42和出水管41分別用于向陰極發(fā)射件21后的夾層中輸入和輸出冷卻水，以冷卻陰極。冷卻水例如可以采用純凈水質(zhì)或去離子水，流量≥200升/分鐘，進(jìn)水溫度≤25℃，出水溫度≤65℃。

基于本發(fā)明的發(fā)射電子束的結(jié)構(gòu)，包括對(duì)陰極2進(jìn)行水冷，陰極2不需要采用硬質(zhì)金屬，可以采用鋁合金。用鋁合金制造陰極工藝簡(jiǎn)單，成本低。陰極采用負(fù)高壓，例如DC3萬(wàn)伏。本發(fā)明的冷陰極預(yù)計(jì)也能夠達(dá)到3000工作小時(shí)的壽命。

真空測(cè)量孔43用于測(cè)量電子槍內(nèi)的真空度。

進(jìn)氣孔44用于向電子槍內(nèi)輸入氣體，一般是混合氣體，例如氫氣和氧氣，例如混合氣體中氫氣占95％，而氧氣占5％。進(jìn)氣孔44的位置并不限于此位置，例如，也可以在陽(yáng)極筒體12和陽(yáng)極外壁11與前端蓋13之間的接縫處設(shè)置進(jìn)氣孔，如環(huán)向進(jìn)氣孔。即，進(jìn)氣孔44的位置可以根據(jù)實(shí)際需要來(lái)確定。而且，在有些不需要進(jìn)氣的應(yīng)用中，也可以不必設(shè)置進(jìn)氣孔。

此外，還要說(shuō)明：陰極2的發(fā)射電子的表面21的縱向尺寸的范圍可以是250～2500毫米，橫向尺寸的范圍可以是10～100毫米；相應(yīng)地，喉孔14的縱向尺寸的范圍可以是250～2500毫米，橫向尺寸的范圍可以是5～100毫米。

優(yōu)選地，陰極2的發(fā)射電子的表面21的縱向尺寸的范圍是300～2200毫米，橫向尺寸的范圍20～50毫米；并且，優(yōu)選地，喉孔的縱向尺寸的范圍是300～2200毫米，橫向尺寸的范圍是10～50毫米。

第二實(shí)施例

圖4-8示出本發(fā)明的氣體放電電子槍的第二實(shí)施例，與第一實(shí)施例相比，第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)僅增加了波導(dǎo)管，其它部分與第一實(shí)施例相同。因此，下面僅描述與第一實(shí)施例不同的內(nèi)容，與第一實(shí)施例相同的結(jié)構(gòu)請(qǐng)參見(jiàn)前面的說(shuō)明，在此不再描述。

第二實(shí)施例的波導(dǎo)管結(jié)構(gòu)包括第一級(jí)聚焦線(xiàn)圈5、第二級(jí)聚焦線(xiàn)圈6、以及掃描線(xiàn)圈7。如圖5和6所示，電子束穿過(guò)陽(yáng)極1的喉孔14進(jìn)入波導(dǎo)管，在波導(dǎo)管內(nèi)經(jīng)過(guò)第一級(jí)聚焦線(xiàn)圈5和第二級(jí)聚焦線(xiàn)圈6兩級(jí)磁聚焦后，再經(jīng)掃描線(xiàn)圈7控制后射向靶面，在靶面上形成所要求的掃描圖形。

再參見(jiàn)圖5和6，經(jīng)過(guò)放電腔的作用，從表面21發(fā)射的眾多電子形成為會(huì)聚的電子束，并且，電子束是橫截面為矩形的面板型電子束，沿橫向從上、下兩個(gè)方面逐漸受到壓縮進(jìn)而會(huì)聚，而沿縱向從兩側(cè)并沒(méi)有受到壓縮，因而形成為面板型電子束穿過(guò)喉孔14射出。

第一級(jí)聚焦線(xiàn)圈5、第二級(jí)聚焦線(xiàn)圈6、以及掃描線(xiàn)圈7的繞法均設(shè)置為使這些線(xiàn)圈形成的磁場(chǎng)沿橫向從上、下兩個(gè)方向?qū)λ雒姘逍碗娮邮M(jìn)行壓縮，而不沿所述縱向從兩側(cè)對(duì)所述面板型電子束進(jìn)行壓縮，因此，第一級(jí)聚焦線(xiàn)圈5、第二級(jí)聚焦線(xiàn)圈6、以及掃描線(xiàn)圈7的控制僅是改變了所述面板型電子束沿橫向的厚度(參見(jiàn)圖5)，而沒(méi)有改變所述面板型電子束沿縱向的寬度(參見(jiàn)圖6)。因此，在本實(shí)施例中，電子束僅是厚度發(fā)現(xiàn)起伏的變化，而寬度并不改變，頂多只是邊緣效應(yīng)會(huì)稍稍改變一下寬度，但并不會(huì)發(fā)生明顯的變化。

雖然在圖示實(shí)施例中的電子槍沒(méi)有采用偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)需要選用。

在本申請(qǐng)中，聚焦線(xiàn)圈是指對(duì)穿過(guò)喉孔的電子束進(jìn)行聚焦的線(xiàn)圈，掃描線(xiàn)圈指對(duì)電子束控制而在靶面上形成所要求的掃描圖形的線(xiàn)圈，偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈是指使電子束在總體的方向上進(jìn)行偏轉(zhuǎn)的線(xiàn)圈。

在圖5、6和8中，還示出了與波導(dǎo)管連接的法蘭8，用于固定該電子槍。

在第一實(shí)施例中所描述的陰極發(fā)射表面和喉孔的尺寸范圍均適合于第二實(shí)施例。

上面描述了本發(fā)明的氣體放電電子槍的第一和第二實(shí)施例，在此要說(shuō)明的是，關(guān)于本發(fā)明的氣體放電電子槍的結(jié)構(gòu)，上面沒(méi)有描述或沒(méi)有涉及的技術(shù)內(nèi)容均可參考現(xiàn)有技術(shù)或公知常識(shí)，例如，目前國(guó)內(nèi)外普遍采用的皮爾斯槍的構(gòu)造，包括槍體和電源。本發(fā)明創(chuàng)新性地提出了一種能夠產(chǎn)生面板型電子束的氣體放電電子槍的構(gòu)思，其改進(jìn)在于提出了一種新的陰極和陽(yáng)極的組合而產(chǎn)生面板型電子束，陰極的發(fā)射表面和喉孔與現(xiàn)有技術(shù)相比顯著不同。至于如何由放電腔產(chǎn)生電子束，則可以借助于現(xiàn)有技術(shù)或公知常識(shí)對(duì)于放電腔的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行設(shè)計(jì)，例如陽(yáng)極的筒體內(nèi)壁與絕緣件和陰極之間的特定距離，陽(yáng)極筒體的不同階段的尺寸等等，都可以進(jìn)行具體設(shè)計(jì)，從而得到本發(fā)明所需要的面板型電子束。再如控制電子束的線(xiàn)圈的磁場(chǎng)，可以通過(guò)線(xiàn)圈的繞法來(lái)確定，這是利用現(xiàn)有技術(shù)或公知常識(shí)能夠解決的問(wèn)題。

另外，雖然氣體放電電子槍的電源是一種相對(duì)復(fù)雜的電氣裝置，但是在上面的描述中沒(méi)有提到氣體放電電子槍的電源，這是因?yàn)椋罕景l(fā)明的創(chuàng)新點(diǎn)并不在于對(duì)電源進(jìn)行了改進(jìn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以清楚地知道，利用電源的現(xiàn)有技術(shù)或公知常識(shí)，例如皮爾斯槍的電源技術(shù)，能夠獲得相應(yīng)的電源，實(shí)現(xiàn)對(duì)本發(fā)明氣體放電電子槍的電氣控制。

本發(fā)明的面板型電子束的氣體放電電子槍能夠應(yīng)用于很多任務(wù)業(yè)領(lǐng)域，例如：

1、燃?xì)廨啓C(jī)和航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片鍍膜：利用自主研發(fā)的大功率氣體放電電子槍建立起國(guó)內(nèi)自己的從靶材研制到設(shè)備生產(chǎn)和工藝研究的完整配套的產(chǎn)業(yè)練。

2、自主組織生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)用于熔煉、提純、制備各種耐高溫的金屬、合金和陶瓷材料的設(shè)備和工藝。

3、鋼帶鍍膜：我國(guó)鍍層鋼帶年產(chǎn)量約6000萬(wàn)噸，當(dāng)前只依靠熱浸鍍鋅和電鍍錫等方法生產(chǎn)，急需發(fā)展新的鍍膜技術(shù)，該領(lǐng)域急待結(jié)合大功率氣體放電電子槍?zhuān)云诒M早研制和制造出國(guó)產(chǎn)真空鍍的生產(chǎn)線(xiàn)。以氣體放電電子槍鍍膜，使鋼帶鍍膜不僅能鍍鋅、錫等軟金屬，也可以鍍鎳等硬得多的金屬。

4、刀具、模具的強(qiáng)化：鑒于現(xiàn)有工模具鍍膜技術(shù)設(shè)備價(jià)格太高、生產(chǎn)效率低，不適于大量推廣應(yīng)用、可立足自主生產(chǎn)的大功率氣體放電電子槍建立適于大范圍推廣應(yīng)用的工模具強(qiáng)化的設(shè)備和工藝。

5、電子束蒸發(fā)的同位素分離技術(shù)。

6、氣體放電電子槍的特殊鋼冶金技術(shù)。

7、多層鉬銅合金的新型電觸點(diǎn)技術(shù)、微孔膜和微孔薄板技術(shù)、釹鐵硼磁鐵的鍍層技術(shù)、難熔金屬、合金和陶瓷的微粉技術(shù)、各種氣相沉積技術(shù)用的靶材和靶的制造技術(shù)等。

第三實(shí)施例

第三實(shí)施例是一種帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)，其是本發(fā)明的氣體放電電子槍在產(chǎn)量巨大的帶材鍍膜領(lǐng)域的具體應(yīng)用。該帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)包括蒸鍍單元9，該蒸鍍單元9包括本發(fā)明的氣體放電電子槍92，以使用于給帶材91鍍膜的料材98熔化在該蒸鍍單元9的蒸發(fā)源中，具體來(lái)說(shuō)是熔化于圖示實(shí)施例的坩堝94。

具體地說(shuō)，在本發(fā)明的帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)中：

蒸鍍單元9包括真空室96；

待鍍的帶材91在真空室96的頂部連續(xù)地移動(dòng)，移動(dòng)方向如圖中帶材91上方的箭頭所示；

本發(fā)明的氣體放電電子槍92和用于傳送料材91的送料室97分別位于真空室96的兩側(cè)；并且

本發(fā)明的氣體放電電子槍92布置成使被偏轉(zhuǎn)前的面板型電子束99的平面方向大致平行于在真空室96頂部移動(dòng)的帶材91的方向，并且，本發(fā)明的氣體放電電子槍92包括偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈，使面板型電子束99經(jīng)彎曲后向下射入真空室96，具體來(lái)說(shuō)是射向坩堝94，從而擊打從真空室96的另一側(cè)輸送的料材98，進(jìn)而使該料材98融化于坩堝94中，形成熔融液95。

另外，如圖9所示，真空室96中還可以設(shè)置強(qiáng)化電離電極93，以利于提高蒸鍍膜層的結(jié)合力，以及在反應(yīng)性蒸鍍時(shí)，提高效果。在圖示的該蒸鍍單元9中，強(qiáng)化電離電極93實(shí)為一個(gè)與坩堝94內(nèi)的鍍材絕緣的電極，其安置在坩堝94的側(cè)上方，在坩堝94內(nèi)的鍍材和該電極93之間引燃一個(gè)大電流的蒸汽電弧，以加強(qiáng)該蒸汽的電離。

本發(fā)明的氣體放電電子槍具有面板型電子束，該面板型電子束99的寬度可以具有與帶材91的寬度相對(duì)應(yīng)的尺寸，從而可以適當(dāng)?shù)亍⒏咝У赜糜趯?duì)帶材91鍍膜。例如，目前帶材的最大寬度為2200毫米，本發(fā)明的氣體放電電子槍也可以設(shè)計(jì)為具有寬度為2200毫米的面板型電子束，使該面板型電子束有效地運(yùn)用于蒸鍍單元。

如前所述，我國(guó)帶材產(chǎn)量巨大，而鍍膜方法的效率有待提高，成本有待下降。本發(fā)明的帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)利用本發(fā)明的面板型電子束的氣體放電電子槍進(jìn)行生產(chǎn)，創(chuàng)造出新的蒸鍍單元，能夠顯著地改善目前所存在的問(wèn)題，具有極大的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益，是對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的巨大改進(jìn)。

以上對(duì)本發(fā)明的氣體放電電子槍和帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明的氣體放電電子槍和帶材連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的具體特征如形狀、尺寸和位置可以根據(jù)上述披露的特征的作用進(jìn)行具體設(shè)計(jì)，這些設(shè)計(jì)均是本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)的。而且，上述披露的各技術(shù)特征并不限于已披露的與其它特征的組合，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可根據(jù)本發(fā)明之目的進(jìn)行各技術(shù)特征之間的其它組合，以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明之目的為準(zhǔn)。